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화상 형성 장치 document_id 1020050123761

출원번호
1020050123761
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 스페이서 열저항 분할률ψ0이 0.5를 초과하지 않는정의값갖는것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 스페이서 민감도 ψ2이 0.25를 초과하지 않는정의값갖는것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 스페이서의 유전율εsp[f/m]와 상기 장치 내의 진공공간의 유전율 εspace[f/m]간의 비 εsp/εspace는, 40 이하이고1이상의관계만족하는것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 스페이서 열저항 분할률ψ0과 하기 일반식 (4)로 표시되는 스페이서 전기저항 분할률 e가 0<ψ0<e<1의 관계를 만족시키고, e=resp/(recfp +resp+recrp) (4),여기서, recfp: 스페이서와 페이스 플레이트간의 전기저항 [ω],resp: 스페이서의 전기저항 [ω],recrp: 스페이서와리어플레이트간의전기저항인것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 8] 제 7 항에 있어서,상기 스페이서 열저항 분할률ψ0이 0.5를 초과하지 않는정의값갖는것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 스페이서가 비유전율이 1∼40인기체형성되는것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 스페이서가 절연성 기체의 표면에 기체보다도 저항값이 낮은 고저항막을 피복함으로써 형성되고, 절연성 기체가 1∼40 인 비유전율을 갖고, 고저항막이 1∼60인비유전율갖는것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 11] 제 9 항에 있어서,상기 스페이서와 상기 페이스 플레이트 또는 상기 리어 플레이트와의 접촉면의 적어도 어느 한쪽에접촉부재더구비하는것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 접촉 부재가열전변환재료형성되는것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 열전변환 재료의 제베크 계수가 3 이상인 것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 14] 제 13 항에 있어서,상기 열전변환 재료가 te함유합금또는강상관전자계산화물형성되는것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 15] 제 14 항에 있어서,상기te함유 합금이, agpbbite3, bi2te3, pbte, sb2te3중하나인것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 16] 제 14 항에 있어서,상기 강상관 전자계 산화물은,층상코발트산화물인것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 17] 제 14 항에 있어서,상기 강상관 전자계 산화물이, na1.2co2-xcuxo4, nacl2o4, ca1.95la0.05co2-xalx05중하나인것을특징으로 하는화상 형성 장치. [청구항 18] 제 11 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 접촉 부재와 상기 스페이서 각각의 상기 페이스 플레이트 및 상기 리어 플레이트에 평행한 방향의 단면적 scr과 ssp간의 비 scr/ssp가 0.05이하001이상인것을특징으로 하는화상 형성 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
화상 형성 장치에서 스페이서의 유전율(εsp)과 진공공간의 유전율(εspace) 사이의 비(εsp/εspace)가 만족해야 하는 수치적 범위는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    질문에서 요구하는 스페이서 유전율(εsp)과 진공공간 유전율(εspace)의 비(εsp/εspace)에 대한 수치적 범위를 찾는다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 4에서 스페이서의 유전율 εsp와 진공공간의 유전율 εspace 간의 비 εsp/εspace에 관한 기술 내용을 추출한다.

    • 상기 스페이서의 유전율εsp[f/m]와 상기 장치 내의 진공공간의 유전율 εspace[f/m]간의 비 εsp/εspace는, 40 이하이고1이상의관계만족하는것을특징으로 하는화상 형성 장치.
  3. 3근거 선택evidence_selection

    수치적 범위가 명시된 '40 이하이고 1 이상의 관계' 구절을 선택한다.

    • εsp/εspace는, 40 이하이고1이상의관계만족하는것
  4. 4논리 통합logical_integration

    추출된 수치 범위를 질문의 대상인 εsp/εspace와 결합하여 정리한다.

    • εsp/εspace는, 40 이하이고1이상의관계만족하는것
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    비(εsp/εspace)의 범위가 1 이상 40 이하임을 도출한다.

    • 40 이하이고1이상의관계만족하는것
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 대한 최종 답변을 추출된 수치 범위로 작성한다.

    • 40 이하이고1이상의관계만족하는것
최종 답변 (final_answer)
40 이하이고 1 이상의 관계를 만족한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
화상 형성 장치에서 스페이서와 진공공간 사이의 유전율 비(εsp/εspace)를 1 이상 40 이하의 범위로 제한하여 장치의 특성을 규정한다.