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상변환 기억 소자 및 그의 제조방법 document_id 1020050124042

출원번호
1020050124042
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 1] 하부패턴을 구비한 반도체기판 상기 하부패턴과 콘택하도록 형성된 제1전극 상기 제1전극 상에 형성된 상변환막 상기 상변환막 상에 그의 일부분를 노출시키도록 형성된 다공성의 반구형 al2o3막; 및 상기 다공서의 반구형 al2o3막을 포함한 상변환막 상에 형성된 제2전극 을 포함하는 것을 특징으로 하는 상변환 기억 소자 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 제1전극은 하부 패턴을 덮도록 기판 상에 형성된 층간절연막 내에 플러그 형태로 형성되고, 상기 상변환막은 제1전극 및 이에 인접한 층간절연막 상에 배치되는패턴형태형성된것을특징으로 하는상변환 기억 소자. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 제2전극은 표면 평탄화가 이루어진단일도전막으로이루어진것을특징으로 하는상변환 기억 소자. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 제2전극은 다공성의 반구형 al2o3막을 포함한 상변환막 상에 형성되어 평탄화를 이루는 접촉막과 상기 접촉막 상에 형성된도전막의적층막으로이루어진것을특징으로 하는상변환 기억 소자. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 접촉막은막으로이루어진것을특징으로 하는상변환 기억 소자.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
청구항 1의 상변환 기억 소자에서 제2전극이 형성되는 구조적 구성 요소들은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    청구항 1을 바탕으로 상변환 기억 소자의 제2전극을 구성하는 구조적 요소들을 식별해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 1에서 제2전극의 형성 위치와 관계된 구성 요소를 추출한다.

    • 상기 다공서의 반구형 al2o3막을 포함한 상변환막 상에 형성된 제2전극
  3. 3근거 선택evidence_selection

    제2전극이 형성되는 대상이 되는 구조적 구성 요소인 '다공성의 반구형 al2o3막'과 '상변환막'을 선택한다.

    • 다공성의 반구형 al2o3막; 및 상기 다공서의 반구형 al2o3막을 포함한 상변환막
  4. 4논리 통합logical_integration

    제2전극은 다공성의 반구형 al2o3막과 이를 포함하는 상변환막 상에 형성된다는 관계를 통합한다.

    • 상기 다공서의 반구형 al2o3막을 포함한 상변환막 상에 형성된 제2전극
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    제2전극이 형성되는 구조적 구성 요소는 다공성의 반구형 al2o3막과 상변환막임을 도출한다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 따라 구성 요소들을 리스트 형식으로 정리하여 답변을 생성한다.

최종 답변 (final_answer)
다공성의 반구형 al2o3막, 상변환막
핵심 해석 (core_interpretation)
상변환 기억 소자에서 제2전극이 형성되는 물리적 기반이 되는 다공성 al2o3막과 상변환막의 구조적 관계를 정의함.