레벨 센서, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 document_id 1020050129772

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 신호는압력파인것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 신호는초음속압력파인것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 레벨 센서는 클록(clock)을 더 포함하여 이루어지고, 상기 프로세서는 상기 클록과 통신하도록 배치되어 상기 에미터가 상기 신호를 방출하는 제1시간 t0 및 상기 수신기가 상기 반사된 신호를 수신하는 제2시간 t1을 결정하며, 상기 프로세서는 상기 제1시간 t0 및 상기 제2시간 t1 사이의 차이를 토대로상기높이계산하는것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 레벨 센서는, 상기 방출된 신호의 부분 및 상기 반사된 신호의 전체 또는 일부분으로부터 간섭 패턴을 생성하고, 위상-시프트들을 이용하여 상기 생성된 간섭 패턴을 토대로 상기 높이를 결정하도록배치되는것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 리소그래피 장치는 투영시스템 및 초음파 거울을 포함하고, 사용하는 동안, 상기 레벨 센서는 상기 신호가 상기 수신기에 의해 수신되기 전에 상기 신호가 상기 투영시스템 및 상기 초음파 거울 중 하나에 의해 한 번 이상 반사되도록 상기 신호를 방출하도록배치되는것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 레벨 센서는 복수의 에미터들과 복수의 대응하는수신기들포함하여이루어지는것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 프로세서는, zernike 다항식들을 이용하여, 복수의 에미터들과 수신기들로부터 취한 측정값들을 토대로 상이한높이들결정하는것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 에미터 및 상기 수신기는 제1트랜스듀서 및 제2트랜스듀서에 의해 형성되고, 상기 제1 및 제2트랜스듀서들은 상기 반사된 신호를 수신하고 상기 반사된 신호의 수신 시에 제2신호를 방출하도록 배치되어, 상기 기판의 높이에 종속하는 주파수를 갖는 전기-기계적 오실레이터가 생성되며, 상기 프로세서는 상기 전기-기계적 오실레이터의 측정된 주파수를 토대로 상기 기판의 표면의 높이를 계산하도록배치되는것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 10] 제2항에 있어서,상기 레벨 센서는, 상기 방출된 압력파들을 상기 에미터로부터 상기 기판(w)으로 그리고 상기 기판(w)으로부터 상기 수신기로 안내하기 위한프로브더포함하여이루어지는것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 에미터는 상기 기판으로 지향되는 레이저 펄스를 방출하도록 배치되는 레이저 소스이고, 이 때 상기 기판은 상기 수신기에 의해 수신되는압력파방출하는것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 12] 제1항에 있어서,상기 레벨 센서는 상기 에미터 및 상기 수신기 양자 모두를 포함하는트랜스듀서포함하여이루어지는것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 13] 제1항에 있어서,상기 에미터는 마이크로-전기기계적시스템센서인것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 14] 제11항에 있어서,상기 레벨 센서는 복수의 마이크로-전기기계적 시스템 센서들을 포함하여 이루어지고, 각각의 마이크로-전기기계적 시스템 센서는 상기 수신기 및 상기 에미터중하나이상인것을특징으로 하는레벨 센서. [청구항 16] 제15항에 있어서,상기 신호는압력파인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 신호는초음속압력파인것을특징으로 하는리소그래피 장치.