2 챔버 가스 방전 레이저를 위한 제어 시스템 document_id 1020057001756

[청구항 3] 제2 항에 있어서,상기 임계치는 소정 시간 주기의 버스트간에 간격이 있는 경우 버스트에서의 적어도 제1 펄스에 대해 마스터 오실레이터에서의 방전의 충분히 이전에 또는 충분히 이후에 가스 방전 타이밍 제어기가 전력 증폭기내의 방전을 개시시키도록선택되는것을특징으로 하는장치. [청구항 4] 제2 항에 있어서,상기 임계치는 각각의 버스트를 분리하는 시간과 무관하게, 버스트 본질적으로 모든 버스트에서의 적어도 제1 펄스에 대해 마스터 오실레이터에서의 방전의 충분히 이전에 또는 충분히 이후에 가스 방전 타이밍 제어기가 전력 증폭기내의 방전을 개시시키도록선택되는것을특징으로 하는장치. [청구항 25] 제24 항에 있어서,제1 챔버 및 제2 챔버를 위한 각각의 상관된 광 출력 시간은 타이밍 에너지 모듈에 의해 일 나노초 미만의 정확도로화이어제어프로세서제공되는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 26] 제24 항에 있어서,상관 매커니즘은 타이머이고; 타이밍 에너지 모듈은 화이어 제어 명령 모듈로부터의 화이어 제어 개시 신호의 수신에 응답하여타이머의작동시작시키는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 27] 제25 항에 있어서,상관 매커니즘은 타이머이고; 타이밍 에너지 모듈은 화이어 제어 명령 모듈로부터의 화이어 제어 개시 신호의 수신에 응답하여타이머의작동시작시키는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 28] 제24 항에 있어서,광 출력 이벤트 탐지 매커니즘은 각각의 챔버내에서 또는 각각의 챔버의 출력 포트에서 소정 임계치 강도를 초과하는광의발생판정하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 29] 제25 항에 있어서,광 출력 이벤트 탐지 매커니즘은 각각의 챔버내에서 또는 각각의 챔버의 출력 포트에서 소정 임계치 강도를 초과하는광의발생판정하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 30] 제26 항에 있어서,광 출력 이벤트 탐지 매커니즘은 각각의 챔버내에서 또는 각각의 챔버의 출력 포트에서 소정 임계치 강도를 초과하는광의발생판정하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 31] 제27 항에 있어서,광 출력 이벤트 탐지 매커니즘은 각각의 챔버내에서 또는 각각의 챔버의 출력 포트에서 소정 임계치 강도를 초과하는광의발생판정하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 32] 제24 항에 있어서,광 출력 이벤트 탐지 매커니즘은 소정 임계치 강도를 초과하는 각각의 전기 펄스 에너지 소스내에서의전압의발생판정하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 33] 제25 항에 있어서,광 출력 이벤트 탐지 매커니즘은 소정 임계치 강도를 초과하는 각각의 전기 펄스 에너지 소스내에서의전압의발생판정하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 34] 제26 항에 있어서,광 출력 이벤트 탐지 매커니즘은 소정 임계치 강도를 초과하는 각각의 전기 펄스 에너지 소스내에서의전압의발생판정하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 35] 제27 항에 있어서,광 출력 이벤트 탐지 매커니즘은 소정 임계치 강도를 초과하는 각각의 전기 펄스 에너지 소스내에서의전압의발생판정하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 36] 제32 항에 있어서,전압은 제1 및 제2 챔버의 각각의 전극 쌍에 인가되는각각의피킹커패시터 전압인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 37] 제33 항에 있어서,전압은 제1 및 제2 챔버의 각각의 전극 쌍에 인가되는각각의피킹커패시터 전압인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 38] 제34 항에 있어서,전압은 제1 및 제2 챔버의 각각의 전극 쌍에 인가되는각각의피킹커패시터 전압인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 39] 제35 항에 있어서,전압은 제1 및 제2 챔버의 각각의 전극 쌍에 인가되는각각의피킹커패시터 전압인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 40] 제26 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 41] 제27 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 42] 제28 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 43] 제29 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 44] 제30 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 45] 제31 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 46] 제32 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 47] 제33 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 48] 제34 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 49] 제35 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 50] 제36 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 51] 제37 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 52] 제38 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 53] 제39 항에 있어서,각각의 제1 및 제2 시간 지연 신호는 각각의 트리거 신호가 발생되어지게 되는 시간에 타이머가 도달하는각각카운트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 54] 제50 항에 있어서,수십 메가hz의 클록 범위를 갖는 오실레이터 회로; 오실레이터 회로로부터의 출력 펄스에 의해 충전된 선형 아날로그 용량성 소자; 및 용량성 소자에 동작적으로 연결되고 서브-나노초 시간 레졸루션 정확도로 되는 감도로 용량성 소자에 저장된 에너지에서의 전압 변동에 감응하는 전압 센싱 매커니즘더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 55] 제51 항에 있어서,수십 메가hz의 클록 범위를 갖는 오실레이터 회로; 오실레이터 회로로부터의 출력 펄스에 의해 충전된 선형 아날로그 용량성 소자; 및 용량성 소자에 동작적으로 연결되고 서브-나노초 시간 레졸루션 정확도로 되는 감도로 용량성 소자에 저장된 에너지에서의 전압 변동에 감응하는 전압 센싱 매커니즘더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 56] 제52 항에 있어서,수십 메가hz의 클록 범위를 갖는 오실레이터 회로; 오실레이터 회로로부터의 출력 펄스에 의해 충전된 선형 아날로그 용량성 소자; 및 용량성 소자에 동작적으로 연결되고 서브-나노초 시간 레졸루션 정확도로 되는 감도로 용량성 소자에 저장된 에너지에서의 전압 변동에 감응하는 전압 센싱 매커니즘더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템. [청구항 57] 제53 항에 있어서,수십 메가hz의 클록 범위를 갖는 오실레이터 회로; 오실레이터 회로로부터의 출력 펄스에 의해 충전된 선형 아날로그 용량성 소자; 및 용량성 소자에 동작적으로 연결되고 서브-나노초 시간 레졸루션 정확도로 되는 감도로 용량성 소자에 저장된 에너지에서의 전압 변동에 감응하는 전압 센싱 매커니즘더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 타이밍 제어 시스템.