액침 리소그래피 유체 제어 시스템 document_id 1020057019188

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 유체 제어 장치는 압축 가스의 소스와 상기 노광 영역을 향해 상기 압축 가스를 전달하기 위한 노즐들을 포함하고, 상기 노광 영역내의 상기 유체는 상기 주변 영역에 들어가는 것이상기압축가스에의해방지되는,유체 제어 시스템. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 노즐들은 상기 표면배향되어 있는,유체 제어 시스템. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 압축 가스는 상기 노광 영역내의 상기 유체와 접촉하는 경우에 2-200m/sec의 속도갖는,유체 제어 시스템. [청구항 5] 제 2 항에 있어서,상기 압축 가스의 압력은 상기 표면을 갖는 오브젝트 (object) 의 주사 속도와 피가공물 (workpiece) 의 표면과 상기 유체 사이의 접촉각으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 인자에 의해 적어도 부분적결정되는,유체 제어 시스템. [청구항 6] 제 2 항에 있어서,상기 압축 가스는 물을 흡수하여 습도감소시키는,유체 제어 시스템. [청구항 7] 제 2 항에 있어서,상기 유체 제어 장치는 공급된 가스를 제거하기 위한 배기 메니폴드더 포함하는,유체 제어 시스템. [청구항 8] 제 2 항에 있어서,상기 압축 가스는공기인,유체 제어 시스템. [청구항 9] 제 2 항에 있어서,상기 압축 가스는질소인,유체 제어 시스템. [청구항 10] 제 2 항에 있어서,상기 노즐들은 상기 노광 영역 내의 상기 유체와 접촉하는 경우에 15-25m/sec의 속도 범위에서압축가스제공하도록구성되는,유체 제어 시스템. [청구항 11] 제 2 항에 있어서,상기 압축 가스의 소스와 노즐들은 상기 표면을 갖는 오브젝트의 주사 방향에 의해 규정된 측의상기노광 영역인접하여위치하는,유체 제어 시스템. [청구항 12] 제 2 항에 있어서,상기 압축 가스의 소스와 노즐들은 상기 피가공물의 스테핑 (stepping) 축에 의해 규정된 측의상기노광 영역인접하여위치하는,유체 제어 시스템. [청구항 14] 제 13 항에 있어서,상기 힘은 유체역학적 힘이고, 상기 유체 제어 장치는 압축 가스의 소스와 상기 노광 영역을 향해 상기 압축 가스를 전달하기 위한 노즐들을 포함하고, 상기 노광 영역내의 상기 유체는 상기 주변 영역에 들어가는 것이상기압축가스의상기유체역학적힘에의해방지되는,액침 리소그래피 장치. [청구항 15] 제 14 항에 있어서,상기 노즐들은 상기 피가공물의 상기 표면배향되어 있는,액침 리소그래피 장치. [청구항 16] 제 14 항에 있어서,상기 압축 가스의 압력은 상기 피가공물의 주사 속도와 상기 피가공물의 표면과 상기 유체 사이의 접촉각으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 인자에 의해 적어도 부분적결정되는,액침 리소그래피 장치. [청구항 17] 제 14 항에 있어서,상기 압축 가스는공기인,액침 리소그래피 장치. [청구항 18] 제 14 항에 있어서,상기 압축 가스는질소인,액침 리소그래피 장치. [청구항 19] 제 14 항에 있어서,상기 노즐들은 상기 노광 영역내의 상기 유체와 접촉하는 경우에 15-25m/sec의 속도 범위에서압축가스제공하도록구성되는,액침 리소그래피 장치. [청구항 20] 제 14 항에 있어서,상기 압축 가스의 소스와 노즐들은 상기 피가공물의 주사 방향에 의해 규정된 측의상기노광 영역인접하여위치하는,액침 리소그래피 장치. [청구항 21] 제 14 항에 있어서,상기 압축 가스의 소스와 노즐들은 상기 피가공물의 스테핑 축에 의해 규정된 측의상기노광 영역인접하여위치하는,액침 리소그래피 장치. [청구항 23] 제 22 항에 있어서,압축 가스는공기인,오브젝트. [청구항 24] 제 22 항에 있어서,상기 압축 가스는질소인,오브젝트. [청구항 25] 제 22 항에 있어서,상기 노즐들은 상기 노광 영역내의 상기 유체와 접촉하는 경우에 15-25m/sec의 속도 범위에서압축가스제공하도록구성되는,오브젝트. [청구항 26] 제 22 항에 있어서,상기 압축 가스의 소스와 노즐들은 상기 피가공물의 주사 방향에 의해 규정된 측의상기노광 영역인접하여위치하는,오브젝트. [청구항 27] 제 22 항에 있어서,상기 압축 가스의 소스와 노즐들은 상기 피가공물의 스테핑 축에 의해 규정된 측의상기노광 영역인접하여위치하는,오브젝트. [청구항 29] 제 28 항에 있어서,상기 압축 가스는공기인,웨이퍼. [청구항 30] 제 28 항에 있어서,상기 압축 가스는질소인,웨이퍼. [청구항 31] 제 28 항에 있어서,상기 노즐들은 상기 노광 영역내의 상기 유체와 접촉하는 경우에 15-25m/sec의 속도 범위에서압축가스제공하도록구성되는,웨이퍼. [청구항 32] 제 28 항에 있어서,상기 압축 가스의 소스와 노즐들은 상기 피가공물의 주사 방향에 의해 규정된 측의상기노광 영역인접하여위치하는,웨이퍼. [청구항 33] 제 28 항에 있어서,상기 압축 가스의 소스와 노즐들은 상기 피가공물의 스테핑 축에 의해 규정된 측의상기노광 영역인접하여위치하는,웨이퍼.