캐스케이드공급원과 캐스케이드공급원을 제어하는 방법 document_id 1020057022138

[청구항 1] 캐소드하우징(2)과, 그 아래에 하나 이상의 플라즈마채널(8)에 접촉되어 경계를 이루고 서로 절연되면서 적재된 2 이상의 캐스케이드플레이트(6) 및, 상기 플라즈마채널(8)에 연결된 유출개방부(10)를 갖춘 아노드플레이트(9)를 구비한 캐스케이드공급원(1)에 있어서, 상기 플라즈마채널(8)마다 하나의 캐소드를 구비하되, 상기 캐소드는 상기 캐소드하우징(2)에 대해서 상기 플라즈마채널(8)의 방향으로 이동되도록 조정가능하게 된 전극(5)을 구비하고, 상기 캐소드하우징(2)은 상기 전극이 이동되도록 조정가능하게 부착하는 체결설비(4)를 갖춘 전극하우징(3)에 연결된 것을 특징으로 하는 캐스케이드공급원 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 전극nan은표준용접전극있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 4] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 캐소드하우징nan은비전도성소재제작되는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 5] 제4항에 있어서,전극팁은 상기 캐소드하우징의 바닥면 근처에 위치되고, 상기 체결설비를 갖춘 전극하우징은 상기 캐소드하우징의 상부면 근처에 위치되며, 상기 전극은 상기 캐소드하우징으로 뻗은전극채널관통하여뻗는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 전극채널의 직경은 상기 전극의 직경보다 큰 것특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 7] 제4항에 있어서,상기 비전도성 소재는세라믹있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 8] 제4항에 있어서,상기 비전도성 소재는석영있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 캐소드하우징에하나이상의센서구비되어있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 센서로 수신된 신호는 가스공급의 변화 또는 캐소드와 아노드 사이의 포텐셜(potential)차의 변화로써 공정을 조정할 수제어하는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 11] 제9항에 있어서,상기 센서는 상기 캐소드하우징에 형성된 플라즈마의 화학분석을 위해 광학방출분광기법(optical emission spectroscopy)을 실시하는장치의일부있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 12] 제1항에 있어서,상기 체결설비는 슬리브의 일부 길이 위로 다수의 길이방향의 슬롯을 갖춘 체결슬리브를 구비한콜릿척유형있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 13] 제1항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트와 캐소드하우징은 제1부착수단으로 상호 유지되되, 전극하우징은 제2부착수단을 매개로 캐소드하우징에 연결되어, 상기 전극하우징이 캐스케이드플레이트와 캐소드하우징 사이에 상호연결을 파괴하지 않고서 캐스케이드플레이트를 갖춘 캐소드하우징을 제거할 수있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 14] 제5항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트와 캐소드하우징은 아노드플레이트에서 상기 캐스케이드플레이트에서 떨어져 있는 캐소드하우징의 측면으로 뻗는 나사산단부와 너트, 또는 볼트와 너트조립체로상호연결되어있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트에서 떨어져 있는 캐소드하우징의 면에 오목부가 구비되어 나사산단부와 너트조립체의 너트, 또는 볼트와 너트조립체의 너트를 수용하고, 상기 너트, 나사산단부, 또는 볼트의 단부가 상기 전극하우징에서 이격되어져 파괴방전을 방지하도록있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 16] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 플라즈마채널은 기판에 손상을 끼치지 않는 소재로 제작된 일부에 의해완전히접촉되는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트와 유출개방부를 함유한 노즐을 갖춘 아노드플레이트는 기판에 손상을 끼치지 않는소재제작되는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 18] 제16항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트와 아노드플레이트는 구리로 제작되고, 이 플레이트에 플라즈마채널의 위치에서 삽입구가 삽입되고 상기 기판에 손상을 끼치지 않는소재제작된것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 19] 제1항 또는 제2항에 있어서,전도성 캐스케이드플레이트 사이로 절연플레이트가 수용되며, 이의 외경은 캐스케이드플레이트의 외경보다 더욱 큰 것특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 20] 제1항 또는 제2항에 있어서,하나 이상의 전극과 이에 대응하는 갯수만큼의플라즈마채널구비한것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 플라즈마채널의 위치는 처리될 기판의 형상과 일치하여, 기판의 처리가전체표면상에서일어나는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 22] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트에 가스공급채널이 구비되어상기하나이상의플라즈마채널로뻗는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 23] 제1항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트와 중간절연플레이트 사이에서의 연결은납땜연결로이루어진것을특징으로 하는캐스케이드공급원.