노광 방법, 기판 스테이지, 노광 장치, 및 디바이스 제조방법 document_id 1020057023920

[청구항 6] 제 5 항에 있어서,주벽과 그 내측에 배치된 복수의 지지부를 구비하고,상기 기판은, 상기 주벽에 둘러싸인 공간을 부압 (負壓) 으로 함으로써 상기 지지부에 유지되고,상기주벽의상면발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 주벽의 높이는 상기 지지부의 높이보다도 낮은 것특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 8] 제 5 항에 있어서,상기 기판의 주위에 상기 기판의 표면과 대략 동일한 높이의 평탄부를 갖고,상기평탄부의적어도일부의표면발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 평탄부의 내측에 상기 기판이 배치되는 오목부가 형성되고, 상기 오목부는, 상기 평탄부에 인접하는 내측면을 구비하고,상기내측면의적어도일부발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 10] 제 5 항에 있어서,상기 기판을 유지하기 위한 기판 홀더를 구비하고, 상기 기판 홀더는, 주벽과 그 내측에 배치된 지지부를 구비하고, 상기 주벽에 둘러싸인 공간을 부압으로 함으로써 상기 지지부에상기기판유지하는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 기판 홀더의 적어도 일부의 표면이발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 주벽의 상면이발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 13] 제 10 항에 있어서,상기 기판 홀더는 착탈 가능하고, 상기 기판 홀더와의접촉면발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 14] 제 10 항에 있어서,상기 기판 홀더는 착탈 가능하고,상기기판 홀더의이면발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 15] 제 10 항에 있어서,상기 기판의 주위에 상기 기판의 표면과 대략 동일한 높이의 평탄부를 갖고, 상기 평탄부의 내측에 상기 기판이 배치되는 오목부가 형성되고, 상기 오목부는, 상기 평탄부에 인접하는내측면갖는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 16] 제 15 항에 있어서,상기 평탄부의 적어도 일부의 표면이발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 17] 제 15항 또는 제 16 항에 있어서,상기 내측면의 적어도 일부가발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 18] 제 15 항에 있어서,상기 오목부에 상기 기판 홀더가 배치되고, 상기 오목부의 내측면에 대향하는상기기판 홀더의측면의적어도일부발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 19] 제 15 항에 있어서,상기 오목부에 상기 기판 홀더가 배치되고, 상기 오목부의 내측면과 상기 기판 홀더의 측면 사이의 공간을 양압화하는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 20] 제 15 항에 있어서,상기 오목부에 상기 기판 홀더가 배치되고,상기 오목부의 내측면과 상기 기판 홀더의 측면 사이의 공간에 액체를 유지할 수있는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 21] 제 15 항에 있어서,상기 오목부에 상기 기판 홀더가 배치되고, 상기 오목부의 내측면과 상기 기판 홀더의 측면 사이의 공간에 유입된 액체를 회수하는회수수단구비한것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 22] 제 15 항에 있어서,상기 오목부의 내측면과 상기 기판 홀더의 측면 사이의 공간의 압력을, 상기 주벽에 둘러싸인공간의압력하는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 24] 제 5 항에 있어서,상기 기판의 측면이발액처리되어있는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 25] 제 5 항에 있어서,상기 기판의 이면이발액처리되어있는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 26] 제 5 항에 있어서,상기 기판은, 위치맞춤을 위한 절결이 형성되어않은것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 27] 제 8 항에 있어서,주벽과 그 내측에 형성된 지지부를 구비하고, 상기 주벽에 둘러싸인 공간을 부압함으로써, 상기 지지부에상기기판유지하는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 28] 제 27 항에 있어서,상기 기판과 상기 평탄부 사이에서 상기 주벽의 외측의 공간에 침입된 액체를 회수하는 회수부를구비한것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 29] 제 28 항에 있어서,상기 평탄부의 내측에 상기 기판이 배치되는 오목부가 형성되고, 상기 오목부는, 상기 기판의 측면과 대향하는 내측면을 갖고,상기내측면의적어도일부발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 30] 제 29 항에 있어서,상기 주벽의 상면nan은발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 31] 제 30 항에 있어서,상기 주벽은, 상기 지지부보다도 낮은 것특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 32] 제 5 항에 있어서,주벽과 그 내측에 형성된 지지부를 구비하고, 상기 주벽에 둘러싸인 공간을 부압함으로써, 상기 지지부에상기기판유지하는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 33] 제 32 항에 있어서,상기 지지부에 지지된 상기 기판의 주위에, 상기 기판의 표면과 대략 면일 (面一) 인 면을 형성하는 평탄부와, 상기 평탄부의 내측에 상기 기판이 배치되는 오목부가 형성되고, 상기 오목부는, 상기 기판의 측면과 대향하는 내측면을 갖고,상기내측면의적어도일부발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 34] 제 33 항에 있어서,상기 기판과 상기 평탄부 사이로부터 상기 주벽의 외측의 공간에 침입한 액체를 회수하는회수부갖는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 35] 제 34 항에 있어서,상기 주벽의 상면nan은발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 36] 제 35 항에 있어서,상기 주벽은, 상기 지지부보다도 낮은 것특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 40] 제 39 항에 있어서,상기 제 1 주벽과 상기 제 2 주벽 사이의 공간의 압력은, 상기 제 2 주벽에 둘러싸인공간의압력설정되어있는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 41] 제 40 항에 있어서,상기 제 1 주벽과 상기 제 2 주벽 사이의 공간도부압으로하는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 42] 제 40 항에 있어서,상기 제 1 주벽과 상기 제 2 주벽 사이의 공간의 압력은 대략 대기압,또는대기압설정되어있는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 43] 제 40 항에 있어서,상기 제 1 주벽과 상기 제 2 주벽 사이의 공간의 압력을 조정가능한 것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 44] 제 40 항에 있어서,상기 제 1 주벽과 상기 제 2 주벽 사이의 공간의 압력은,상기제1주벽의외측의공간의압력설정되어있는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 45] 제 39 항에 있어서,상기 제 2 주벽의 높이는, 상기 지지부보다도 낮은 것특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 46] 제 45 항에 있어서,상기 제 1 주벽의 높이는, 상기 지지부보다도 낮은 것특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 47] 제 39 항에 있어서,상기 제 2 주벽의 상부는발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 48] 제 47 항에 있어서,상기 제 1 주벽의 상부는발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 49] 제 39 항에 있어서,상기 지지부에 지지된 기판의 표면과 대략 면일인평탄부구비한것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 50] 제 49 항에 있어서,상기 지지부에 지지된 기판의 절결부와 상기 평탄부와의 갭을 작게 하기 위한갭조정부구비한것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 52] 제 51 항에 있어서,상기 갭 조정부는,상기평탄부와일체적형성되어있는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 53] 제 51 항에 있어서,상기 갭 조정부는 가동 (可動인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 54] 제 51 항에 있어서,상기 지지부의 주위에 배치된 주벽을 구비하고, 상기 주벽으로 둘러싸인 공간을 부압으로 함으로써, 상기 기판이상기지지부지지되는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 56] 제 55 항에 있어서,상기 주벽의 상부는발액성인것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 58] 제 57 항에 있어서,상기 복수의 흡기구 중, 상기 기판의 상기 절결부 근방의 흡기구는, 다른 흡기구와는 독립한진공계접속되어있는것을특징으로 하는기판 스테이지. [청구항 59] 제 57 항에 있어서,상기 복수의 흡기구 중, 상기 기판의 절결부 근방의 흡기구의 구경을, 다른 흡기구의 구경보다도 작게 한 것특징으로 하는기판 스테이지.