교차 배열된 외부 페라이트 코어를 구비한 자기 강화된플라즈마 소오스 document_id 1020060006199

[청구항 1] 기판이 놓이는 서셉터가 내부에 구비된 플라즈마 반응 챔버 자속 출입구가 플라즈마 반응 챔버의 내측으로 향하여 플라즈마 반응 챔버의 내측으로 자속이 출력되도록 하며, 상하로 이격되어 플라즈마 반응 챔버의 상부를 가로질러 교차 배열된 제1 및 제2 페라이트 코어 제1 및 제2 페라이트 코어에 각각 감겨 제1 및 제2 페라이트 코어에 자기장을 유도 시키는 제1 및 제2 유도 코일 제1 유도 코일로 제1 주파수의 전원을 공급하는 제1 전원 공급원 제2 유도 코일로 제2 주파수의 전원을 공급하는 제2 전원 공급원; 및 제1 및 제2 전원 공급원의 주파수의 위상차를 제어하여 제1 및 제2 페라이트 코어에 의해 유도되는 자기장의 벡터적 합에 의해 기판 상부에 평형 회전 이온 가속 경로가 유도 되도록 하는 위상 제어기를 포함하는 자기 강화된 플라즈마 소오스 [청구항 2] 제1 항에 있어서,및 제2 페라이트 코어의 자속 출입구가 접하는 플라즈마 반응 챔버의 상부는 절연체로 구성되는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 3] 제1 항에 있어서,및 제2 페라이트 코어는 직각으로 교차 배열되는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 4] 제1 항에 있어서,서셉터로 제3 주파수를 갖는 제1 바이어스 전원을 공급하는 제3 전원 공급원을 포함하는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 5] 제1 항에 있어서,서셉터로 제3 주파수를 갖는 제1 바이어스 전원을 공급하는 제3 전원 공급원과 제4 주파수를 갖는 제2 바이어스 전원을 공급하는 제4 전원 공급원을 포함하는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 6] 제1 항에 있어서,플라즈마 반응 챔버는 상부 중심으로 구비된 가스 입구와 가스 입구로 유입된 가스가 서셉터를 향하여 고르게 분사되어 흐르도록 하는 샤워 헤드를 구비하는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 7] 제6 항에 있어서,및 제2 페라이트 코어의 자속 출입구는 샤워 헤드의 외측으로 정렬되어 있는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 8] 제1 항에 있어서,및 제2 페라이트 코어는 자속 출입구의 단면은 직사각형 구조 또는 호(arc) 구조 중 어느 하나의 구조를 갖는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 9] 기판이 놓이는 서셉터가 내부에 구비된 플라즈마 반응 챔버 플라즈마 반응 챔버의 상부에 형성되며 마주 대향하여 쌍을 이루는 제1 및 제2 코어 삽입구 제1 및 제2 코어 삽입구에 양단의 자속 출입구가 삽입되어 플라즈마 반응 챔버의 내측으로 자속이 출력되도록 하며, 상하로 이격되어 플라즈마 반응 챔버의 상부를 가로질러 교차 배열되는 제1 및 제2 페라이트 코어 제1 및 제2 페라이트 코어에 각각 감겨 제1 및 제2 페라이트 코어에 자기장을 유도 시키는 제1 및 제2 유도 코일 제1 유도 코일로 제1 주파수의 전원을 공급하는 제1 전원 공급원 제2 유도 코일로 제2 주파수의 전원을 공급하는 제2 전원 공급원; 및 제1 및 제2 전원 공급원의 주파수의 위상차를 제어하여 제1 및 제2 페라이트 코어에 의해 유도되는 자기장의 벡터적 합에 의해 기판 상부에 평형 회전 이온 가속 경로가 유도 되도록 하는 위상 제어기를 포함하는 자기 강화된 플라즈마 소오스 [청구항 10] 제9 항에 있어서,및 제2 페라이트 코어의 자속 출입구가 접하는 플라즈마 반응 챔버의 상부는 절연체로 구성되는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 11] 제9 항에 있어서,및 제2 페라이트 코어는 직각으로 교차 배열되는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 12] 제9 항에 있어서,서셉터로 제3 주파수를 갖는 제1 바이어스 전원을 공급하는 제3 전원 공급원을 포함하는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 13] 제9 항에 있어서,서셉터로 제3 주파수를 갖는 제1 바이어스 전원을 공급하는 제3 전원 공급원과 제4 주파수를 갖는 제2 바이어스 전원을 공급하는 제4 전원 공급원을 포함하는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 14] 제9 항에 있어서,플라즈마 반응 챔버는 상부 중심으로 구비된 가스 입구와 가스 입구로 유입된 가스가 서셉터를 향하여 고르게 분사되어 흐르도록 하는 샤워 헤드를 구비하는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 15] 제14 항에 있어서,및 제2 코어 삽입구는 샤워 헤드의 외측으로 정렬되어 있는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 16] 제9항에 있어서,및 제2 페라이트 코어와 제1 및 제2 코어 삽입구는 각기 직사각형 구조 또는 호(arc) 구조 중 어느 하나의 구조를 갖는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 17] 제9항에 있어서,및 제2 페라이트 코어는 자속 출입구가 마주 대향하도록 절곡된 구조를 갖고, 이에 적합하게 제1 및 제2 코어 삽입구도 끝단이 절곡된 구조를 갖는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 18] 기판이 놓이는 서셉터가 내부에 구비된 플라즈마 반응 챔버 자속 출입구가 플라즈마 반응 챔버의 외측 상단 측벽으로 배치되어 자속 출입구가 마주 대향하고 플라즈마 반응 챔버의 내측으로 자속이 출력되도록 하며, 상하로 이격되어 플라즈마 반응 챔버의 상부를 가로질러 교차 배열된 제1 및 제2 페라이트 코어 제1 및 제2 페라이트 코어에 각각 감겨 제1 및 제2 페라이트 코어에 자기장을 유도 시키는 제1 및 제2 유도 코일 제1 유도 코일로 제1 주파수의 전원을 공급하는 제1 전원 공급원 제2 유도 코일로 제2 주파수의 전원을 공급하는 제2 전원 공급원; 및 제1 및 제2 전원 공급원의 주파수의 위상차를 제어하여 제1 및 제2 페라이트 코어에 의해 유도되는 자기장의 벡터적 합에 의해 기판 상부에 평형 회전 이온 가속 경로가 유도 되도록 하는 위상 제어기를 포함하는 자기 강화된 플라즈마 소오스 [청구항 19] 제18 항에 있어서,및 제2 페라이트 코어의 자속 출입구가 접하는 플라즈마 반응 챔버의 측벽면은 절연체로 구성되는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 20] 제18 항에 있어서,및 제2 페라이트 코어는 직각으로 교차 배열되는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 21] 제18 항에 있어서,서셉터로 제3 주파수를 갖는 제1 바이어스 전원을 공급하는 제3 전원 공급원을 포함하는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 22] 제18 항에 있어서,서셉터로 제3 주파수를 갖는 제1 바이어스 전원을 공급하는 제3 전원 공급원과 제4 주파수를 갖는 제2 바이어스 전원을 공급하는 제4 전원 공급원을 포함하는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 23] 제18 항에 있어서,플라즈마 반응 챔버는 상부 중심으로 구비된 가스 입구와 가스 입구로 유입된 가스가 서셉터를 향하여 고르게 분사되어 흐르도록 플라즈마 반응 챔버의 천정에 구비되는 샤워 헤드를 포함하는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 24] 제18 항에 있어서,플라즈마 반응 챔버는 상부가 테두리를 따라 하나의 계단형으로 구성되어 천정의 중심이 융기된 영역을 구비하고, 융기된 영역의 내측 천정에 샤워 헤드가 구비되며, 융기된 영역의 외부 측벽으로 제1 및 제2 페라이트 코어의 자속 출입구가 접하는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 25] 제23 항 또는 제24 항 중 어느 한 항에 있어서,및 제2 페라이트 코어의 자속 출입구는 샤워 헤드의 하단으로 정렬되어 있는 자기강화된플라즈마 소오스. [청구항 26] 제18 항에 있어서,및 제2 페라이트 코어는 자속 출입구의 단면은 직사각형 구조 또는 호(arc) 구조 중 어느 하나의 구조를 갖는 자기강화된플라즈마 소오스.