문맥 (context)
[청구항 1]
이온형성 공간을 제공하는 아크챔버와,
상기 아크챔버 내의 상부에 설치되며, 웨이퍼를 지지해주는 지지부재와,
상기 아크챔버 내의 하부에 설치되며, 상기 지지부재와 일정 거리 이격 설치되며, 가스가 도입되어 플라즈마 를 생성하는 플라즈마실과,
상기 플라즈마실 내부에 설치되며, 상기 기체를 상기 플라즈마 상태로 여기시키는 적어도 하나 이상의 필라멘트와,
상기 플라즈마실의 출구 부근에 설치되되, 다수의 관통홀이 구비되어 상기 관통홀을 통해 상기 플라즈마로 부터 전계의 작용으로 이온을 상기 웨이퍼 방향으로 끌어내기 위한 적어도 하나 이상의 인출전극을 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 이온주입설비
[청구항 2]
제 1항에 있어서,상기 지지부재는정전척인것을특징으로 하는반도체 이온주입설비.
[청구항 3]
제 1항에 있어서,상기 필라멘트는 dc전원사용되는것을특징으로 하는반도체 이온주입설비.
[청구항 4]
제 1항에 있어서,상기 필라멘트는 rf전원사용되는것을특징으로 하는반도체 이온주입설비.
[청구항 5]
제 1항에 있어서,상기 인출전극nan은사각형태제작된것을특징으로 하는반도체 이온주입설비.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
이온주입설비의 인출전극은 어떤 구조를 가지며, 어떠한 작용을 통해 이온을 웨이퍼 방향으로 이동시키는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation이온주입설비의 인출전극의 구조와 이온을 웨이퍼 방향으로 이동시키는 작용 원리를 추출해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 1에서 인출전극이 다수의 관통홀을 구비하고 있으며, 전계의 작용으로 이온을 끌어낸다는 정보를 확인한다.
- 다수의 관통홀이 구비되어 상기 관통홀을 통해 상기 플라즈마로 부터 전계의 작용으로 이온을 상기 웨이퍼 방향으로 끌어내기 위한 적어도 하나 이상의 인출전극
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3근거 선택
evidence_selection인출전극의 구조(다수의 관통홀 구비)와 작용(전계의 작용으로 이온을 웨이퍼 방향으로 끌어냄)에 관한 구절을 선택한다.
- 다수의 관통홀이 구비되어 상기 관통홀을 통해 상기 플라즈마로 부터 전계의 작용으로 이온을 상기 웨이퍼 방향으로 끌어내기 위한 적어도 하나 이상의 인출전극
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4논리 통합
logical_integration인출전극은 다수의 관통홀을 가진 구조이며, 이 관통홀을 통해 전계가 형성되어 이온을 웨이퍼 방향으로 이동시킨다는 논리를 결합한다.
- 다수의 관통홀이 구비되어 상기 관통홀을 통해 상기 플라즈마로 부터 전계의 작용으로 이온을 상기 웨이퍼 방향으로 끌어내기 위한 적어도 하나 이상의 인출전극
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5결론 도출
conclusion_formulation인출전극은 다수의 관통홀이 구비된 구조이며, 관통홀을 통해 전계의 작용을 일으킴으로써 이온을 웨이퍼 방향으로 끌어낸다.
- 다수의 관통홀이 구비되어 상기 관통홀을 통해 상기 플라즈마로 부터 전계의 작용으로 이온을 상기 웨이퍼 방향으로 끌어내기 위한 적어도 하나 이상의 인출전극
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6답변 생성
answer_generation질문에 대해 추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
- 다수의 관통홀이 구비되어 상기 관통홀을 통해 상기 플라즈마로 부터 전계의 작용으로 이온을 상기 웨이퍼 방향으로 끌어내기 위한 적어도 하나 이상의 인출전극
최종 답변 (final_answer)
인출전극은 다수의 관통홀이 구비된 구조를 가지며, 상기 관통홀을 통해 전계의 작용을 일으킴으로써 플라즈마로부터 이온을 웨이퍼 방향으로 끌어내린다.
핵심 해석 (core_interpretation)
이 발명은 다수의 관통홀을 가진 인출전극을 통해 전계를 형성함으로써, 플라즈마 내의 이온을 웨이퍼 방향으로 효율적으로 유도하는 기술에 관한 것이다.