리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 document_id 1020060055587

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 증발 제어기는, 상기 시일 부재에 대한 상기 기판테이블의 위치, 속도, 가속도 및 사전설정된 경로 중 하나, 국부적인 기판의 온도 및 국부적인 기판테이블의 온도에 따라 상기 기판의 적어도 일 부분을 가열하도록 구성된기판히터포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 증발 제어기는, 상기 시일 부재에 대한 상기 기판테이블의 위치, 속도, 가속도 및 사전설정된 경로 중 하나, 국부적인 기판의 온도 및 국부적인 기판테이블의 온도에 따라 상기 기판테이블의 적어도 일 부분을 가열하도록 구성된기판테이블히터포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 증발제어기는, 상기 시일 부재에 대한 상기 기판테이블의 위치, 속도, 가속도 및 사전설정된 경로 중 1이상, 국부적인 기판의 온도 및 국부적인 기판테이블의 온도에 따라 상기 액체공급시스템의 적어도 일 부분을 가열시키도록 구성된액체공급시스템히터포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 액체공급시스템 히터는 상기 액체공급시스템의 벽내에 포함되는 2개의 전기 히터 및 상기 기판과 상기 투영시스템의 최종 요소 사이의 공간내의 온도 센서를 포함하고, 상기 히터는 상기 온도 센서에 의해 측정되는 액체 온도의 변동들에 반응하여 상기 액체공급시스템내의 액체를 가열시키도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 6] 제 1 항에 있어서,상기 투영시스템에 의하여 돌출부들 사이의 기판 표면으로 공기의 스트림을 공급하는 에어나이프를 더 포함하고, 상기 증발 제어 기술은 상기 에어나이프내의 축축한 압축 공기를 공급하는단계포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 증발 제어 기술은 상기 액체한정시스템내로 축축한 압축 공기를 공급하는단계포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 8] 제 1 항에 있어서,상기 투영시스템에 의해 돌출부들 사이의 기판 표면으로 공기의 스트림을 공급하기 위한 에어나이프를 더 포함하고, 상기 증발 제어 기술은상기에어나이프의공기의가열단계포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 에어나이프의 공기는 광 방출 다이오드를 사용하여가열되는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 10] 제 8 항에 있어서,공기는상기에어나이프와에어나이프배출 도관사이의영역공급되는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 11] 제 8 항에 있어서,상기 액체한정시스템의 따듯하고 축축한 공기 스트림으로부터 응축물을 분리하기 위한응축물분리기더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 12] 제 1 항에 있어서,상기 투영시스템에 의해 돌출부들 사이의 기판 표면으로 공기의 스트림을 공급하는 에어나이프, 상기 기판의 표면으로부터 공기 스트림을 제거하는 에어나이프 배출시스템 및 상기 공기에서 별도로 기판 표면으로부터의 액체를 제거하기 위하여 기판 상부에 서스펜딩된(suspend) 마이크로시브를 더 포함하며, 상기 증발 제어 기술은, 액체, 공기 및 기판 사이의 에너지의 유동이 상기 기판을 최적의 온도로 유지하는 속도 및 비율로 액체와 공기 둘 모두가 제거되도록 에어나이프와 마이크로시브의 상대적인 높이를 최적화하는단계포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 기판 상부의 상기 에어나이프의 높이는 200:m보다 작은 것특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 14] 제 12 항에 있어서,상기 기판 상부의 상기 에어나이프의 높이는 대략 125:m인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 15] 제 12 항에 있어서,상기 기판 상부의 마이크로시브의 높이는 대략 50:m인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 16] 제 12 항에 있어서,상기 기판 상부의 에어나이프의 높이는 상기 기판 상부의 마이크로시브의 높이보다 대략 50 내지 100:m 더 높은 것특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 17] 제 1 항에 있어서,상기 타임테이블은, 상기 기판이 냉각되기 쉽고, 따라서 상기 기판으로부터의 액체의 증발이 일어나기 쉬운 시간, 및 시간의 함수로서상기기판테이블또는기판상의증발력및배치포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 18] 제 17 항에 있어서,상기 투영시스템에 의해 돌출부들 사이의 기판 표면으로 공기의 스트림을 공급하는 에어나이프를 더 포함하고, 상기 타임테이블은 시간들 및 상기 기판이 냉각되기 쉬운 시간으로서 상기 기판에 걸친에어나이프의위치들포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 19] 제 17 항에 있어서,상기 타임테이블은 일련의 기판에서 존재하는기판의일련의개수더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 20] 제 17 항에 있어서,상기 타임테이블은 사전-계산된 최적의 타이밍들과 실제 기판 타이밍을 비교하는 센서들로부터의입력더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 21] 제 17 항에 있어서,상기 타임테이블은 상기 기판을 조사하는방사선의입력관련파라미터들더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 22] 제 17 항에 있어서,상기 액체한정시스템이 기판 위에 있지 않은 경우, 상기 액체한정시스템 내에서 액체를 유지하는 폐쇄 디스크를 더 포함하고, 상기 타임테이블은 상기 기판이 냉각되기 쉬운 시간으로서 상기 폐쇄 디스크가 상기 액체를 포함하지 않는시간포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 23] 제 1 항에 있어서,상기 타임테이블은, 기판이 냉각되기 쉽고, 따라서 상기 기판으로부터의 액체의 증발이 일어나기 쉬운상기기판상의위치들포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 24] 제 23 항에 있어서,상기 타임테이블은 시간의 함수로서기판및기판테이블상의증발력및배치더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 25] 제 23 항에 있어서,상기 타임테이블은 상기 액체한정시스템에 대한 상기 기판의 상대적인위치포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 26] 제 23 항에 있어서,상기 타임테이블nan은상기기판의최상부면의위치포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 27] 제 23 항에 있어서,상기 타임테이블은 상기 기판의 저부면의위치포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 28] 제 23 항에 있어서,상기 타임테이블nan은상기액체한정시스템의배출 채널의위치포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 29] 제 1 항에 있어서,상기 액체증발제어기는온도센서포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 30] 제 29 항에 있어서,상기 온도 센서는상기액체한정시스템내에있는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 31] 제 29 항에 있어서,상기 온도 센서는 상기 기판 상부에서 떠다니는(hover) 것특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 32] 제 29 항에 있어서,상기 온도 센서는상기기판과상기기판테이블사이에있는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 33] 제 29 항에 있어서,상기 온도 센서는상기기판테이블내에있는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 34] 제 1 항에 있어서,상기 액체공급시스템은, 상기 투영시스템의 최종 요소와 상기 기판 사이의 액체가 일정한 온도로 유지되도록 상기 액체공급시스템의 온도를 안정화시키기 위해 가열 또는 냉각된 유체를 포함하는1이상의커넬포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 35] 제 34 항에 있어서,상기 투영시스템의 최종 요소와 상기 기판 사이의 공간을 적어도 부분적으로 채울 때와 동일한 액체로 상기 커넬을 적어도 부분적으로 채우도록, 상기 커넬이상기액체공급시스템연결되는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 36] 제 34 항에 있어서,상기 커넬내의 액체가 상기 투영시스템의 최종 요소와 상기 기판 사이의 공간을 적어도 부분적으로 채우는 액체와 동일하지 않도록, 상기 커넬은상기액체공급시스템의공급고립되는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 38] 제 37 항에 있어서,상기 증발 제어기는 상기 기판홀더로의 물의 유동을 이용하는상기기판의열적콘디셔닝포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 39] 제 37 항에 있어서,상기 증발제어기는 상기 기판테이블로의 물의 유동을 이용하여상기기판테이블의열적콘디셔닝포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 40] 제 37 항에 있어서,상기 증발제어기는 액체-포함 공간으로부터 가장 먼 상기 기판 표면에서의 유체의 도입에 의한 상기 기판테이블의 열적 콘디셔닝을 포함하며, 상기 유체는 상기 리소그래피 장치의 통상적인 운전 온도에서 응축되도록있는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 41] 제 40 항에 있어서,상기 유체는 상기 액체공급시스템 내의 액체보다 작은압력물인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 42] 제 40 항에 있어서,상기 유체는 아세톤, 에테르 및 알콜 중 1이상을 포함하는가스인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 43] 제 40 항에 있어서,상기 유체는 상기 기판테이블내의 도관을 통해 상기 기판 표면으로및상기기판 표면펌핑되는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 44] 제 43 항에 있어서,상기 유체는 2-상혼합물형태펌핑되는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 45] 제 37 항에 있어서,상기 증발제어기는 상기 기판홀더내의 액체 및 증기를 포함하는 볼륨의 통합(incorporation)에 의해 상기 기판테이블의 온도를 제어하는단계포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 46] 제 45 항에 있어서,상기 볼륨은파이프인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 47] 제 45 항에 있어서,상기 액체는 물이고,상기증기수증기인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 48] 제 45 항에 있어서,상기 액체는 탄화수소-포함 냉각제이고, 상기 증기는탄화수소증기인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 49] 제 45 항에 있어서,상기 액체는 r134a, 1,1,1,2-테트라플루오로탄인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 50] 제 45 항에 있어서,상기 액체는 탄화수소 포함 냉각제이고, 상기 증기는탄화수소증기들혼합물인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 51] 제 50 항에 있어서,상기 액체는 r401a인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 52] 제 45 항에 있어서,상기 액체는 암모니아이고, 상기 증기는암모니아증기인것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 53] 제 45 항에 있어서,상기 액체를 가열하는히터더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 54] 제 53 항에 있어서,상기 히터는상기액체내위치되는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 55] 제 53 항에 있어서,상기 히터는상기기판테이블아래위치되는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 56] 제 53 항에 있어서,상기 히터에 대한 입력 파라미터를 제공하는 온도 및/또는압력센서더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 57] 제 45 항에 있어서,상기 볼륨은 공기가 없는 비-응축성 유체이고,대기실링되는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 58] 제 45 항에 있어서,상기 볼륨은 가능한 한 기판과 마주한 기판 홀더 표면과 가까이에 있는복수의채널포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 59] 제 45 항에 있어서,상기 기판과 마주한 상기 기판홀더의 표면에중공딤플들포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 60] 제 59 항에 있어서,상기 중공 딤플들은 상기 볼륨과 상기 기판 사이에 통로들을 포함하여, 그들이 상기 볼륨으로부터 상기 기판의 저부면으로 증기가 통과할 수하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 61] 제 45 항에 있어서,상기 기판테이블의 스폰지-형재료더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 62] 제 37 항에 있어서,상기 기판홀더와 상기 기판 사이의 진공을 더 포함하고, 액체 증발 기술은 물이 포화된(water-saturated)공기를상기진공내공급하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 63] 제 37 항에 있어서,상기 액체공급시스템과 접촉하는 동안 흡착된 기판테이블로부터의 가스를 탈착시키는탈착디바이스더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치. [청구항 64] 제 37 항에 있어서,상기 액체공급시스템과 접촉하는 동안 상을 변화시킨 기판테이블의 어떠한 부분이라도 그것의 원래 상태로 복원시키기 위한재생디바이스더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 장치.