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층을 이루는 가변 저항 메모리 장치 및 그 제조 방법 document_id 1020067023314

출원번호
1020067023314
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 1] 제1 전극; 상기 제1 전극에 전기적으로 결합되는 제1 칼코게나이드 유리층 상기 제1 칼코게나이드 유리층 상의 제2 칼코게나이드 유리층; 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층 사이의 금속 함유층; 상기 제2 칼코게나이드 유리층 상의 금속층; 상기 금속층 상의 도전성 접착층; 및 상기 도전성 접착층에 전기적으로 결합되는 제2 전극을 포함하는, 가변 저항 메모리 소자 [청구항 2] 청구항 1에 있어서,상기 금속 함유층은 은-칼코게나이드층인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 3] 청구항 2에 있어서,상기 금속 함유층은 은-셀레나이드인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 4] 청구항 3에 있어서,상기 은-셀레나이드층은 식 ag2+/-xse로 표현되고, x는 약 1 ∼ 약 0의범위에 있는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 5] 청구항 1에 있어서,상기 금속 함유층은 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층의 두께의 약 1∼5배의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 6] 청구항 1에 있어서,상기 금속 함유층은 약 470å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 8] 청구항 7에 있어서,상기 은층은 약 200å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 9] 청구항 1에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 각각 약 100å ∼ 약 1000å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 10] 청구항 1에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 각각 약 150å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 11] 청구항 1에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 식 gexse100-x를 갖는 재료포함하고,x=17∼43인, 가변 저항 메모리 소자. [청구항 12] 청구항 1에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 약 ge40se60의 화학량론을 갖는 게르마늄 셀레나이드 유리포함하는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 13] 청구항 1에 있어서,상기 도전성 접착층은 칼코게나이드 유리층인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 14] 청구항 13에 있어서,상기 도전성 접착층은 약 ge40se60의 화학량론을 갖는 게르마늄 셀레나이드유리인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 15] 청구항 13에 있어서,상기 도전성 접착층은 약 100å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 16] 청구항 1에 있어서,상기제1 및 제2 전극은 텅스텐, 니켈, 탄탈, 알루미늄, 플래티늄(platinum), 은 및 도전성 나이트라이드(nitrides)로 이루어진 그룹선택되는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 17] 청구항 15에 있어서,상기 제1 전극은텅스텐인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 19] 제1 전극; 상기 제1 전극에 전기적으로 결합되는 제1 칼코게나이드 유리층 상기 제1 칼코게나이드 유리층 상의 제1 금속층; 상기 금속층 상의 금속 함유층; 상기 금속 함유층 상의 제2 칼코게나이드 유리층; 상기 제2 칼코게나이드 유리층 상의 제2 금속층; 상기 제2 은층 상의 도전성 접착층; 및 상기 도전성 접착층에 전기적으로 결합되는 제2 전극을 포함하는, 가변 저항 메모리 소자 [청구항 20] 청구항 19에 있어서,상기 금속 함유층은 은-칼코게나이드층인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 21] 청구항 20에 있어서,상기 금속 함유층은 은-셀레나이드인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 22] 청구항 19에 있어서,상기 금속 함유층은 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층의 두께의 약 1∼5배의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 23] 청구항 19에 있어서,상기 금속 함유층은 약 470å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 25] 청구항 24에 있어서,상기 제1 은층은 약 35å ∼ 약 50å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 26] 청구항 24에 있어서,상기 제2 은층은 약 200å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 27] 청구항 24에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 각각 약 100å ∼ 약 1000å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 28] 청구항 19에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층은 은 도핑된 칼코게나이드 유리포함하는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 29] 청구항 19에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 각각 약 150å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 30] 청구항 19에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 식 gexse100-x를 갖는 재료포함하고,x=17∼43인, 가변 저항 메모리 소자. [청구항 31] 청구항 19에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 약 ge40se60의 화학량론을 갖는 게르마늄 셀레나이드 유리포함하는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 32] 청구항 19에 있어서,상기 도전성 접착층은 칼코게나이드 유리층인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 33] 청구항 32에 있어서,상기 도전성 접착층은 약 ge40se60의 화학량론을 갖는 게르마늄 셀레나이드유리인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 34] 청구항 32에 있어서,상기 도전성 접착층은 약 100å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 35] 청구항 19에 있어서,상기제1 및 제2 전극은 텅스텐, 니켈, 탄탈, 알루미늄, 플래티늄, 은 및 도전성 나이트라이드로 이루어진 그룹선택되는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 36] 청구항 35에 있어서,상기 제1 전극은텅스텐인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 71] 제1 전극; 상기 제1 전극에 전기적으로 결합되는 제1 칼코게나이드 유리층 상기 제1 칼코게나이드 유리층 상의 제2 칼코게나이드 유리층; 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층 사이의 금속 함유층; 상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 금속 함유층 사이의 금속층; 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층에 전기적으로 결합되는 제2 전극을 포함하는, 가변 저항 메모리 소자 [청구항 72] 청구항 61에 있어서,상기 금속 함유층은 은-칼코게나이드층인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 73] 청구항 72에 있어서,상기 금속 함유층은 은-셀레나이드인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 74] 청구항 71에 있어서,상기 금속 함유층은 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층의 두께의 약 1∼5배의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 75] 청구항 71에 있어서,상기 금속 함유층은 약 470å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 77] 청구항 71에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 각각 약 100å ∼ 약 1000å의 두께갖는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 78] 청구항 71에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 식 gexse100-x를 갖는 재료포함하고,x=17∼43인, 가변 저항 메모리 소자. [청구항 79] 청구항 71에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 약 ge40se60의 화학량론을 갖는 게르마늄 셀레나이드 유리포함하는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 80] 청구항 71에 있어서,상기제1 및 제2 전극은 텅스텐, 니켈, 탄탈, 알루미늄, 플래티늄, 은 및 도전성 나이트라이드로 이루어진 그룹선택되는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 81] 청구항 71에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층은 은 도핑된 칼코게나이드 유리포함하는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 93] 제1 전극; 상기 제1 전극에 전기적으로 결합되는 제1 칼코게나이드 유리층 상기 제1 칼코게나이드 유리층 상의 제2 칼코게나이드 유리층; 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층 사이의 금속 함유층; 상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 금속 함유층 사이의 제1 금속층; 상기 제2 칼코게나이드 유리층 상의 제2 금속층; 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층에 전기적으로 결합되는 제2 전극을 포함하는, 가변 저항 메모리 소자 [청구항 94] 청구항 93에 있어서,상기 금속 함유층은 은-칼코게나이드층인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 95] 청구항 94에 있어서,상기 금속 함유층은 은-셀레나이드인,가변 저항 메모리 소자. [청구항 98] 청구항 93에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 식 gexse100-x를 갖는 재료포함하고,x=17∼43인, 가변 저항 메모리 소자. [청구항 99] 청구항 93에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층 및 상기 제2 칼코게나이드 유리층은 약 ge40se60의 화학량론을 갖는 게르마늄 셀레나이드 유리포함하는,가변 저항 메모리 소자. [청구항 100] 청구항 93에 있어서,상기 제1 칼코게나이드 유리층은 은 도핑된 칼코게나이드 유리포함하는,가변 저항 메모리 소자.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
청구항 1에 따른 가변 저항 메모리 소자에서 금속 함유층의 두께는 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층 두께와 비교하여 어떠한 관계를 갖는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    청구항 1에 따른 가변 저항 메모리 소자에서 금속 함유층의 두께와 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층 두께 사이의 관계를 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 1의 구성 요소와 금속 함유층의 두께에 관한 종속항인 청구항 5를 확인한다.

    • 상기 금속 함유층은 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층의 두께의 약 1∼5배의 두께갖는
  3. 3근거 선택evidence_selection

    금속 함유층의 두께 관계를 직접적으로 명시한 청구항 5의 구절을 선택한다.

    • 상기 금속 함유층은 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층의 두께의 약 1∼5배의 두께갖는
  4. 4논리 통합logical_integration

    청구항 5에 따르면 금속 함유층의 두께는 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층 두께의 약 1~5배 범위에 해당함을 알 수 있다.

    • 상기 금속 함유층은 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층의 두께의 약 1∼5배의 두께갖는
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에 대한 답변으로 금속 함유층의 두께가 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층 두께의 약 1~5배임을 도출한다.

    • 상기 금속 함유층은 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층의 두께의 약 1∼5배의 두께갖는
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.

    • 상기 금속 함유층은 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층의 두께의 약 1∼5배의 두께갖는
최종 답변 (final_answer)
상기 금속 함유층은 상기 제1 및 제2 칼코게나이드 유리층의 두께의 약 1∼5배의 두께를 갖는다.
핵심 해석 (core_interpretation)
가변 저항 메모리 소자의 성능 최적화를 위해 금속 함유층의 두께를 인접한 칼코게나이드 유리층 두께의 일정 배수(약 1~5배)로 조절함을 의미한다.