후막유전 전계발광 디스플레이용 개선된 후막 유전구조 document_id 1020067023533

[청구항 1] 후막 유전층으로 사용하기 위한 평활층에 있어서, 상기 평활층은 평방 밀리미터당 약100이하 결함의 피트결함의 영역밀도를 갖는 고 유전상수 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용 소결된 유전구조 [청구항 2] 제1항에 있어서,유전상수 재료는 압전 또는 강유전 재료인 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 압전 또는 강유전 재료는 리드 지르코네이트 티타네이트(pzt)인 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 4] 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 평활층은 상기 후막 유전층상에 실질적으로 소결된 유기금속 전구체 화합물의 졸겔 또는 금속 유기용액에 계면활성제를 첨가함으로써 제조되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 계면활성제는 금속 유기용액에 첨가되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 계면활성제는 상기 금속 유기용액의 약0.1-약5중량%로서 제공되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 계면활성제는 상기 금속 유기용액의 약1.0-약2중량%로서 제공되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 8] 제2항에 있어서,상기 압전 또는 강유전 재료 평활층은 리드 란타늄 지르코네이트 티타네이트, 바리움 티타네이트, 바리움 스트론튬 티타네이트, 바리움 탄탈레이트 및 탄탈륨 옥사이드중에서 한가지 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 9] 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 계면활성제는 비이온성 계면활성제 및 양이온 계면활성제로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 비이온성 계면활성제는 서피놀(surfynol)™ 61, 디메틸 헥시놀, 서피놀™ 420, 에톡시레이티드 아세틸레닉 디올스, 트리톤(triton)™ x-100, p-3급 옥티페녹시 폴리에틸 알콜 및 그의 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 11] 제10항에 있어서,상기 비이온성 계면활성제는 서피놀™ 61인 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 12] 제9항에 있어서,상기 양이온 계면활성제는 엠포스(emphos)™ ps-200, 알킬 에테르 포스페이트, 세틸트리메틸 암모니움 브로마이드 및 그의 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 13] 제4항에 있어서,상기 평활층은 약850℃까지의 온도에서 소결되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 14] 제1항에 있어서,상기 평활층은 상기 후막 유전층상에 약1500nm까지의 총두께를 갖는 2이상의 층들로서 제공되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된유전구조. [청구항 15] 전계발광 디스플레이용 소결된 합성후막 유전구조에 있어서, 후막 유전층 및 상기 후막 유전층상의 평활층을 포함하며, 상기 평활층은 평방밀리미터당 약100 결함 이하의 피트결함의 영역밀도를 갖는 고 유전상수 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용 소결된 합성후막 유전구조 [청구항 16] 제15항에 있어서,유전상수 재료는 압전 또는 강유전 재료인 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 압전 또는 강유전 재료는 리드 지르코네이트 티타네이트(pzt)인 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 18] 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,상기 평활층은 리드 란타늄 지르코네이트 티타네이트, 바리움 티타네이트, 바리움 스트론티움 티타네이트, 바리움 탄탈레이트 및 탄탈륨 옥사이드로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 19] 제15항에 있어서,상기 평활층은 상기 후막 유전층상에 실질적으로 소결된 유기금속 전구체 화합물의 졸겔 또는 금속 유기용액에 계면활성제를 첨가함으로써 제조되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 20] 제19항에 있어서,상기 계면활성제는 상기 금속 유기용액 약0.1-약5중량%로서 제공되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 계면활성제는 상기 금속 유기용액 약1.0-약2중량%로서 제공되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 22] 제19항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,상기 계면활성제는 비이온성 계면활성제 및 양이온성 계면활성제로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 23] 제22항에 있어서,상기 비이온성 계면활성제는 서피놀™ 61, 디메틸 헥시놀, 서피놀™ 420, 에톡시레이티드 아세틸레닉 디올스, 트리톤™ x-100, p-3급 옥티페녹시 폴리에틸 알콜 및 그의 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 24] 제22항에 있어서,상기 비이온성 계면활성제는 서피놀™ 61인 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 25] 제22항에 있어서,상기 양이온 계면활성제는 엠포스™ ps-200, 알킬 에테르 포스페이트, 세틸트리메틸암모니움 브로마이드 및 그의 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 26] 제15항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서,상기 평활층은 상기 후막 유전층상에 약1500nm까지의 총두께를 갖는 2이상의 층들로서 제공되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 27] 제26항에 있어서,상기 후막 유전층에 바로 인접하지 않은 상기 평활층은 계면활성제가 첨가되지 않은 유기금속 전구체 화합물의 졸겔 또는 금속 유기용액에 제조되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 28] 제15항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서,상기 후막 유전층은 하기 성분들:(a) 리드 마그네슘 니오베이트(pmn), 리드 마그네슘 니오베이트 티타네이트(pmn-pt), 리드 티타네이트 및 리드 옥사이드중에서 한가지 이상;(b) 리드 옥사이드, 보론 옥사이드, 보론 옥사이드 및 실리콘 옥사이드를 포함하는 유리 플릿 조성물;(c) 솔벤트; 및(d) 폴리머 바인더를 포함하는 페이스트로부터 소결된 합성체로부터 형성되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 29] 제28항에 있어서,상기 소결온도는 약850℃까지인 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 30] 전계발광 디스플레이용 소결된 합성후막 유전구조에 있어서, (a) 리드 마그네슘 니오베이트(pmn), 리드 마그네슘 니오베이트 티타네이트(pmn-pt), 리드 티타네이트, 바리움 티타네이트 및 리드 옥사이드중에서 한가지 이상 및 리드 옥사이드, 보론 옥사이드, 보론 옥사이드 및 실리콘 옥사이드를 포함하는 유리 플릿 조성물 을 포함하는 후막 유전층 조성물의 하부층; 및 (b) 적어도 하나의 리드 지르코네이트 티타네이트(pzt)층을 포함하는 상부 평활층을 포함하며, 상기 (a)에 바로 인접한 상기 적어도 하나의 층은 평방 밀러미터당 약100 결함 이하의 피트결함의 영역밀도를 갖는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용 소결된 합성후막 유전구조 [청구항 31] 제30항에 있어서,상기 평활층은 유기금속 전구체 화합물의 졸겔 또는 금속 유기용액에 계면활성제를 첨가함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 32] 제31항에 있어서,상기 계면활성제는 비이온성 계면활성제 및 양이온성 계면활성제로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 33] 제32항에 있어서,상기 비이온성 계면활성제는 서피놀™ 61, 디메틸 헥시놀, 서피놀™ 420, 에톡시레이티드 아세틸레닉 디올스, 트리톤™ x-100, p-3급 옥티페녹시 폴리에틸 알콜 및 그의 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 34] 제33항에 있어서,상기 비이온성 계면활성제는 서피놀™ 61인 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 35] 제32항에 있어서,상기 양이온 계면활성제는 엠포스™ ps-200, 알킬 에테르 포스페이트, 세틸트리메틸암모니움 브로마이드 및 그의 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이용소결된합성후막 유전구조. [청구항 40] 전계발광 디스플레이에 있어서, 기판과; 상기 기판상에 제15항 내지 제35항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 합성후막 유전구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계발광 디스플레이 [청구항 41] 제40항에 있어서,상기 합성후막 유전구조는 평방 밀리미터당 약100 결함 이하의 피트결함의 영역밀도를 갖는평활층포함하는것을특징으로 하는전계발광 디스플레이.