플라즈마 프로세싱을 위해 샤워헤드 전극 및 가열기를포함하는 장치 document_id 1020067025017

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 열 경로 부재는, 고리 형상의 플레이트인 열 전도성의 전기 절연 물질포함하는,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 열 경로 부재는 질화물 재료포함하는,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 열 경로 부재는 알루미늄 질화물 또는 붕소 질화물포함하는,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 진공 챔버의 상기 온도 제어된 상부벽은, 상기 가열기, 상기 열 경로 부재, 상기 가스 분배 부재 및 상기 샤워헤드 전극을 통과하는 열 경로를 통해 상기 샤워헤드 전극으로부터 열회수하는,진공 챔버. [청구항 7] 제 5 항에 있어서,상기 샤워헤드 전극은 라디오 주파수(rf) 전력공급된 전극이고,상기 가스 분배 부재는, rf 전력을 상기 가스 분배 부재의 상기 허브로부터 상기 가스 분배 부재의 상기 측방향으로 연장되는 금속 플레이트로, 다음에 상기 샤워헤드 전극으로 분배하는 전기적으로 전도성재료로 이루어지는,진공 챔버. [청구항 8] 제 7 항에 있어서,상기 가스 분배 부재의 상기 측방향으로 연장되는 금속 플레이트는, 상기 샤워헤드 전극의 이면의 단면적의 0.1% 내지 99.9% 와 접촉하는 돌출부를 포함하고, 그리고 상기 돌출부는 상기 가스 분배 부재와 상기 샤워헤드 전극의 이면 사이에 플리형성하는,진공 챔버. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 샤워헤드 전극을 둘러싸며, 상기 갭을 향하는 노출면을 포함하는 고리형상의 접지 전극을 더 포함하고,상기 접지 전극의 내주 (inner periphery) 와 상기 샤워헤드 전극의 외주 사이에 전기 절연체위치되는,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 25] 제 1 항에 있어서,상기 가열기의 상부 표면에 위치하는 열 초크들;상기 측방향으로 연장되는 금속 플레이트의 하부 표면과 샤워헤드 전극 위에 위치하는 접촉 포인트들; 상기 샤워헤드 전극의 상부 표면과 측방향으로 연장되는 금속 플레이트의 사이에 위치한 백킹 부재로서, 상기 백킹 부재의 하부 표면은 상기 샤워헤드 전극의 상부 표면과 접촉하는, 상기 백킹 부재; 및상기 샤워헤드 전극으로 프로세스 가스를 공급하기 위한 가스 부재 내에, 방사상으로 연장되는 통로들, 고리 형상의 분배 도관, 출구들 및 가스 공급기들더 포함하는,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 26] 제 1 항에 있어서,상기 가스 분배 부재는 상기 샤워헤드 전극과 상기 측방향으로 연장되는 금속 플레이트 사이의 중심 플리넘으로 프로세스 가스를 공급하는 제 1 가스 통로와 상기 샤워헤드 전극과 상기 측방향으로 연장되는 금속 플레이트 사이의 외부 플리넘에 프로세스 가스를 공급하는 제 2 가스 통로포함하는,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 27] 제 8 항에 있어서,상기 가스 분배 부재는, 상기 샤워헤드 전극의 이면의 단면적의 15% 내지접촉하는,진공 챔버. [청구항 28] 제 1 항에 있어서,접촉 볼트들은, 상기 샤워헤드 전극 어셈블리의 부분들을 함께 기계적고정시키는,샤워헤드 전극 어셈블리.