가스 방전 출력광 코히어런시 감소를 위한 방법 및 장치 document_id 1020067026805

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는적어도하나의빔이미지인버터포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는적어도하나의빔공간회전기포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 4] 제2항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는적어도하나의빔공간회전기더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 적어도 하나의 공간 코히어런시 셀포지션시프터포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 6] 제2항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 적어도 하나의 공간 코히어런시 셀포지션시프터더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 7] 제3항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 적어도 하나의 공간 코히어런시 셀포지션시프터더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 8] 제4항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 적어도 하나의 공간 코히어런시 셀포지션시프터더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 10] 제2항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 11] 제3항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 12] 제4항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 13] 제5항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 14] 제6항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 15] 제7항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 16] 제8항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 17] 제1항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 18] 제2항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 19] 제3항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 20] 제4항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 21] 제5항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 22] 제6항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 23] 제7항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 24] 제8항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 25] 제1항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 26] 제2항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 27] 제3항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 28] 제4항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 29] 제5항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 30] 제6항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 31] 제7항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 32] 제8항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 33] 제1항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 34] 제2항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 35] 제3항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 36] 제4항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 37] 제5항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 38] 제6항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 39] 제7항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 40] 제8항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 41] 제1항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 42] 제2항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 43] 제3항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 44] 제4항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 45] 제5항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 46] 제6항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 47] 제7항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 48] 제8항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 50] 제49항에 있어서,상기 빔 호모제나이저는적어도하나의빔이미지인버터포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 51] 제49항에 있어서,상기 빔 호모제나이저는적어도하나의빔공간회전기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 52] 제50항에 있어서,상기 빔 호모제나이저는적어도하나의빔공간회전기더포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 53] 제49항에 있어서,상기 빔 호모제나이저는 적어도 하나의 공간 코히어런시 셀포지션시프터포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 54] 제50항에 있어서,상기 빔 호모제나이저는 적어도 하나의 공간 코히어런시 셀포지션시프터더포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 55] 제51항에 있어서,상기 빔 호모제나이저는 적어도 하나의 공간 코히어런시 셀포지션시프터더포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 56] 제52항에 있어서,상기 빔 호모제나이저는 적어도 하나의 공간 코히어런시 셀포지션시프터더포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 57] 제53항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 58] 제50항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 59] 제51항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 60] 제52항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 61] 제53항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 62] 제54항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 63] 제55항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 64] 제56항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 65] 제49항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 66] 제50항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 67] 제51항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 68] 제52항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 69] 제53항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 70] 제54항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 71] 제55항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 72] 제56항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 각각의 결합된 표면에 부분 반사 코팅을 갖는 한 쌍의 결합된도브 프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 73] 제49항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 74] 제50항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 75] 제51항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 76] 제52항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 77] 제53항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 78] 제54항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 79] 제55항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 80] 제56항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 빗변면 및 전반사 인접 측면을 포함하는직삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 81] 제49항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 82] 제50항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 83] 제51항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 84] 제52항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 85] 제53항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 86] 제54항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 87] 제55항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 88] 제56항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 상기 소스 빔과 마주하는 면 및 전반사 인접 측면을 포함하는이등변삼각형프리즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 89] 제49항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 90] 제50항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 91] 제51항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 92] 제52항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 93] 제53항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 94] 제54항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 95] 제55항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 96] 제56항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 97] 제49항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는회전확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 98] 제50항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는회전확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 99] 제51항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는회전확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 100] 제52항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는회전확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 101] 제53항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는회전확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 102] 제54항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는회전확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 103] 제55항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는회전확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 104] 제56항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이저는회전확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 105] 제97항에 있어서,상기 회전 확산기는그라운드글라스확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 106] 제98항에 있어서,상기 회전 확산기는그라운드글라스확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 107] 제99항에 있어서,상기 회전 확산기는그라운드글라스확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 108] 제100항에 있어서,상기 회전 확산기는그라운드글라스확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 109] 제101항에 있어서,상기 회전 확산기는그라운드글라스확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 110] 제102항에 있어서,상기 회전 확산기는그라운드글라스확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 111] 제103항에 있어서,상기 회전 확산기는그라운드글라스확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 112] 제104항에 있어서,상기 회전 확산기는그라운드글라스확산기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 114] 제113항에 있어서,상기 공초점 에탈론에 입사되는 상기 콜리메이팅된 광의 입사각을 스캐닝하는스캐닝 메커니즘더포함하는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 115] 제114항에 있어서,상기 스캐닝 메커니즘은 상기 공초점 에탈론에 걸쳐 상기 콜리메이팅된광스캐닝하는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 116] 제114항에 있어서,상기 스캐닝 메커니즘은 상기 콜리메이팅된 광을 걸쳐상기에탈론스캐닝하는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 117] 제114항에 있어서,상기 스캐닝 메커니즘은 음향광학 스캐너인것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 118] 제115항에 있어서,상기 스캐닝 메커니즘은 음향광학 스캐너인것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 119] 제113항에 있어서,상기 공초점 에탈론은 측정되는 빔의 대략 e95 폭인자유 스펙트럼 범위있는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 120] 제114항에 있어서,상기 공초점 에탈론은 측정되는 빔의 대략 e95 폭인자유 스펙트럼 범위있는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 121] 제115항에 있어서,상기 공초점 에탈론은 측정되는 빔의 대략 e95 폭인자유 스펙트럼 범위있는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 122] 제116항에 있어서,상기 공초점 에탈론은 측정되는 빔의 대략 e95 폭인자유 스펙트럼 범위있는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 123] 제117항에 있어서,상기 공초점 에탈론은 측정되는 빔의 대략 e95 폭인자유 스펙트럼 범위있는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 124] 제118항에 있어서,상기 공초점 에탈론은 측정되는 빔의 대략 e95 폭인자유 스펙트럼 범위있는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 125] 제113항에 있어서,상기 검출기는 상기 스캐닝 메커니즘에 의해 유도된 광의 파장을 변화시키기 위한 강도 패턴을 검출하는포토멀티플라이어인것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 126] 제114항에 있어서,상기 검출기는 상기 스캐닝 메커니즘에 의해 유도된 광의 파장을 변화시키기 위한 강도 패턴을 검출하는포토멀티플라이어인것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 127] 제115항에 있어서,상기 검출기는 상기 스캐닝 메커니즘에 의해 유도된 광의 파장을 변화시키기 위한 강도 패턴을 검출하는포토멀티플라이어인것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 128] 제116항에 있어서,상기 검출기는 상기 스캐닝 메커니즘에 의해 유도된 광의 파장을 변화시키기 위한 강도 패턴을 검출하는포토멀티플라이어인것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 129] 제117항에 있어서,상기 검출기는 상기 스캐닝 메커니즘에 의해 유도된 광의 파장을 변화시키기 위한 강도 패턴을 검출하는포토멀티플라이어인것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 130] 제118항에 있어서,상기 검출기는 상기 스캐닝 메커니즘에 의해 유도된 광의 파장을 변화시키기 위한 강도 패턴을 검출하는포토멀티플라이어인것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 파장계. [청구항 132] 제131항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이징 수단은 적어도 하나의 빔 이미지 인버팅수단포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 133] 제131항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이징 수단nan은적어도하나의빔공간회전수단포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 134] 제132항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이징 수단nan은적어도하나의빔공간회전수단더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 135] 제131항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이징 수단은 적어도 하나의 공간 코히어런시 셀포지션시프팅수단포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 136] 제131항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이징 수단은 상기 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 137] 제131항에 있어서,상기 투과 빔 호모제나이징 수단은 소스 빔 멀티플 교번 반전된이미지생성메커니즘포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저. [청구항 139] 제138항에 있어서,상기 빔 호모제나이징 수단은 적어도 하나의 빔 이미지 인버팅수단포함하는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 대역폭 검출기. [청구항 140] 제138항에 있어서,상기 빔 호모제나이징 수단nan은적어도하나의빔공간회전수단포함하는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 대역폭 검출기. [청구항 141] 제139항에 있어서,상기 빔 호모제나이징 수단nan은적어도하나의빔공간회전수단더포함하는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 대역폭 검출기. [청구항 142] 제131항에 있어서,상기 빔 호모제나이징 수단은 적어도 하나의 공간 코히어런시 셀포지션시프팅수단포함하는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 대역폭 검출기. [청구항 143] 제131항에 있어서,상기 빔 호모제나이징 수단은 상기 소스 빔의 템포럴 코히어런스 길이보다 길지만 대략 동일한 지연을 갖는지연경로포함하는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 대역폭 검출기. [청구항 145] 제144항에 있어서,상기 공초점 에탈론에 입사되는 상기 콜리메이팅된 광의 입사각을 스캐닝하기 위한스캐닝수단더포함하는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 대역폭 검출기. [청구항 146] 제144항에 있어서,상기 스캐닝 수단nan은음향광학스캐닝수단포함하는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 대역폭 검출기. [청구항 147] 제144항에 있어서,상기 공초점 에탈론은 측정되는 빔의 대략 e95 폭인자유 스펙트럼 범위있는것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 대역폭 검출기. [청구항 148] 제114항에 있어서,상기 검출 수단은 상기 스캐닝 메커니즘에 의해 유도된 광의 파장을 변화시키기 위한 강도 패턴을 검출하기 위한포토멀티플라이어수단인것을특징으로 하는출력 레이저 빔 대역폭 측정 대역폭 검출기. [청구항 152] 제49항에 있어서,상기 광 스펙트로미터는분산광학엘리먼트포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 153] 제152항에 있어서,상기 광 스펙트로미터는투과성분산광학엘리먼트포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 154] 제49항에 있어서,상기 광 스펙트로미터는에탈론더포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 155] 제49항에 있어서,상기 광 스펙트로미터는회절광학엘리먼트더포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 156] 제49항에 있어서,상기 광 스펙트로미터는 반사에 사용되는격자더포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 157] 제49항에 있어서,상기 광 스펙트로미터는 투과에 사용되는격자더포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 158] 제49항에 있어서,상기 빔 호모제나이저는 타임 및/또는포지션종속웨이브프론트변조기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 159] 제49항에 있어서,상기 검출기상의 이미지의 타임 애브리지를 기록하는이미지기록메커니즘포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 160] 제49항에 있어서,상기 빔 호모제나이저는 스펙클유도이미지강도변조억제기포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기. [청구항 161] 제49항에 있어서,상기 빔 호모제나이저는 스펙클로 인한 이미지의 강도 변조를 억제하기 위한수단포함하는것을특징으로 하는대역폭 검출기.