유기 기판의 양 표면의 개질 처리 방법 및 그 장치 document_id 1020070061574

[청구항 1] (a) 표면처리를 위하여 반입될 표면처리 전, 10점 평균 거칠기(rz)가 0&lt rz≤2인 표면 조도를 갖는 복수의 유기 기판을 수납하기 위한 로더부 (b) 상기 복수의 유기 기판을 반입하여 표면처리가 수행되는, 광촉매가 분산된 표면처리 용액을 수납하기 위한 기판 처리조 (c) 상기 기판 처리조의 양측에 위치된 에너지광 조사 수단 (d) 상기 기판 처리조로부터 표면처리가 끝나고 반출된 복수의 기판을 수납하기 위한 언로더부; 및 (e) 상기 유기 기판을 상기 로더부로부터 기판 처리조를 거쳐 언로더부로 이송하기 위한 이송 수단 을 포함하며, 상기 이송 수단은 상기 유기 기판의 반입 및 반출 시 양 표면이 노출되어 이송되도록 각 유기 기판을 홀딩하고, 상기 기판 처리조 내에서 그 양측에서 조사되는 에너지광의 방향에 대해 유기 기판의 양 표면이 동시에 연속적으로 노출되어 처리되도록 유기 기판을 홀딩하기 위한 홀딩 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 유기 기판의 양 표면의 개질 처리 장치 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 이송 수단은 상기 로드부로부터 유기 기판을 1매씩 홀딩하여 상기 기판 처리조 내에 1매씩 복수개를 연속적으로 반입시키고, 상기 기판 처리조 내에 홀딩되어 반입된 유기 기판을 수평 방향으로 연속적으로 이송하여 상기 홀딩된 유기 기판이 기판 처리조 내에서 연속적으로 흐르면서 표면처리되도록구성되는것을특징으로 하는유기 기판의 양 표면의 개질 처리 장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 이송 수단은 상기 로드부로부터 유기 기판을 복수매 홀딩하여 상기 기판 처리조 내에 수직 방향으로 동시에 반입시키고, 상기 기판 처리조 내에 홀딩되어 반입된 유기 기판을 침지, 유지한 후 상기 기판 처리조 밖으로 수직 방향으로 동시에 반출시켜 상기 홀딩된 유기 기판이 기판 처리조 내에 디핑되어 표면처리되도록구성되는것을특징으로 하는유기 기판의 양 표면의 개질 처리 장치. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 유기 기판이열경화성 수지기판인것을특징으로 하는유기 기판의 양 표면의 개질 처리 장치. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 광촉매가이산화티탄의나노분체인것을특징으로 하는유기 기판의 양 표면의 개질 처리 장치. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 에너지광이자외선인것을특징으로 하는유기 기판의 양 표면의 개질 처리 장치. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 표면처리가 끝나고 반출된 유기 기판을 세정하기 위한 세정부가상기언로더부더욱부설된것을특징으로 하는유기 기판의 양 표면의 개질 처리 장치. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 기판 처리조에서의 표면처리 조건을 일정하게 유지하기 위한 표면처리 용액 유지 장치가상기기판 처리조더욱부설된것을특징으로 하는유기 기판의 양 표면의 개질 처리 장치.