리프트 핀 어셈블리 및 그것을 구비한 기판 처리 장치 document_id 1020070063455

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 리프트 핀 어셈블리는상기 가이드부재에 의해 이동하는 상기 핀 지지부재의 이동방향과 상기 수평대의 이동방향 간의 각도 차이를 허용하기 위해 상기 핀 지지부재와 상기 수평대를 상호 연결하는플로팅 조인트더포함하는것을특징으로 하는리프트 핀 어셈블리. [청구항 3] 제1항 또는 제2항에 있어서,지지부재는 상기 수평대의 양단에 대칭되게 지지되는제1핀지지부재와제2핀지지부재포함하는것을특징으로 하는리프트 핀 어셈블리. [청구항 4] 제1항 또는 제2항에 있어서,지지부재는상기 리프트 핀들이 수직하게 설치되며, 일단이 개방된 말발굽 형상의 리프트 후프; 상기 리프트 후프에 연결되는 샤프트; 및상기 샤프트가 고정되고 상기 가이드부재와 연결되는브라켓포함하는것을특징으로 하는리프트 핀 어셈블리. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 기판 처리 장치는상기 제1핀 지지부재가 일단에 지지되고, 상기 제2핀 지지부재가 타단에 지지되며, 중심에는 상기 구동부재와 연결되어 상승 또는 하강하는수평대더포함하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기제1,2가이드부재에 의해 이동하는 상기 제1,2핀 지지부재의 이동방향과, 상기 수평대의 이동방향 간의 각도 차이를 허용하기 위해 상기 제1,2핀 지지부재와 상기 수평대는 플로팅 조인트에 의해각각상호연결되는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항 8] 제5항에 있어서,상기제1,2핀 지지부재 각각은상기 핀 홀들에 삽입되는 리프트 핀들이 수직하게 설치되고 일단이 개방된 말발굽 형상의 리프트 후프;상기 리프트 후프에 연결되며 상기 공정챔버에 관통되어 설치되는 샤프트; 및상기 공정 챔버로부터 외측으로 노출된 상기 샤프트의 하단에 고정되고 상기 공정 챔버의 외측 저면에 고정되는 상기 제1,2가이드부재와 연결되는브라켓포함하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 리프트 핀 어셈블리는상기 제1,2핀 지지부재의 상기 브라켓과 상기 수평대 사이에 설치되어 상기 제1,2가이드부재에 의해 이동하는 상기 제1,2핀 지지부재의 이동방향과, 상기 수평대의 이동방향 간의 각도 차이를 허용하기 위한플로팅 조인트더포함하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항 11] 제9항 또는 제10항에 있어서,상기 공정 챔버는 상기 제1서셉터가 위치되는 제1공간과, 상기 제2서셉터가 위치되는 제2공간 그리고 상기 제1공간과 제2공간이 동등한 구조를 갖도록 상기 공정 챔버 내부를 구획하는구획벽더포함하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 기판 처리 장치는 상기 공정 챔버의 제1 공간의 상부에 설치되며, 상기 제1공간으로 플라즈마(plasma)와 공정가스를 공급하는 분사하는 제1공급부재와,상기 공정 챔버의 제2 공간의 상부에 설치되며, 상기 제2공간으로 플라즈마(plasma)와 공정가스를 공급하는 분사하는제2공급부재더포함하는것을특징으로 하는기판 처리 장치.