문맥 (context)
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 중간 플레이트와 상기 브라켓 사이에 착탈가능하게 개재되어 상기 상부 및 하부전극조립체 사이의 간격을 조절하는스페이서더구비되는것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 3]
제 1 항에 있어서,상기 하부전극조립체의 측면과 상기 홀더의 내측벽 사이에는 갭(gap)이 존재하도록 상기 하부전극조립체의 폭방향 길이는 상기 홀더의 대향하는 내측벽간의 길이보다 작은 것특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 4]
제 1 항에 있어서,상기 홀더와 상기 브라켓의 연결시, 상기 홀더의 상면과 상기 브라켓의 하면 사이에는갭존재하는것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 5]
제 1 항에 있어서,상기 중간 플레이트에는 냉매 주입포트 및 냉매 배출포트가 더 마련되고, 상기 냉매 주입포트를 통해 공급되는 냉매를 상기 상부전극조립체로 전달하는 냉매 주입라인 및 상기 상부전극조립체 내부에서 순환된 냉매를 상기 냉매 배출포트로 전달하는 냉매 배출라인이상기중간플레이트와상기상부전극조립체사이더마련되는것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 6]
제 5 항에 있어서,상기 상부전극조립체는상부가 개방된 박스형 형상을 갖는 유전체;상기 유전체의 바닥부 상면에 형성된 상부전극;상기 상부전극의 상면에 접착되어 상기 서포터에 체결되고, 상기 냉매 주입라인 및 냉매 배출라인과 연결되어 공급되는 냉매가 이동하는 냉매유로가 형성된 냉각블럭;상기 상부전극과 상기 상부전극에 고전압을 인가하는 전원공급부를 연결시키는 고전압 와이어; 및상기 유전체의 내부 공간에 충진되어 상기 상부전극 및 상기 냉각블럭을 외부와 차단시키는 에폭시를 포함하여구성되는것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 7]
제 6 항에 있어서,상기 에폭시는 상기 유전체와 비슷한 열팽창계수를 갖는고전압에폭시인것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 8]
제 6 항에 있어서,상기 에폭시는 진공상태하에서 120℃를 유지하여 경화시킴으로써 내부에 형성될 수 있는기포를최소화한것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 9]
제 6 항에 있어서,상기 유전체의 내측벽에는 상기 상부전극과 연결된 리드 단자가 더 마련되고, 상기 고전압 와이어는 상기 리드 단자와 연결됨으로써상기상부전극과전기적연결되는것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 10]
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 하부전극조립체는 상기 복수개의 플라즈마 배출홀이 마련된 평판형상으로서 중심층에 배치되는 하부전극과, 상기 하부전극을 둘러싸도록 형성되어 상기 하부전극이 외부로 노출되지 않도록 하는유전체구성되는것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 11]
제 10 항에 있어서,상기 하부전극조립체는 유전체를 평판형상으로 평면연마하고, 상기 유전체의 상면에 ag를 코팅하여 하부전극을 형성하고, 레이저가공을 통해 상기 하부전극에 복수개의 단차홀을 형성하고, 상기 유전체 및 하부전극을 덮도록 유전체를 용사하고, 상기 단차홀의 중심축을 기준으로 상기 단차홀보다 작은 직경을 갖는 홀을 뚫어 상기 복수개의 플라즈마 배출홀을 형성하여제조된것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 12]
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 홀더에는 냉매 주입포트 및 냉매 배출포트가 더 마련되고,상기 홀더의 내부에는 상기 홀더의 냉매 주입 및 배출포트와 연결되어 공급되는 냉매가 순환하는 냉매유로가 형성되어상기하부전극조립체를간접적냉각시키는것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 14]
제 13 항에 있어서,상기 하부전극조립체는 상기 복수개의 플라즈마 배출홀이 형성된 평판부 및 상기 평판부의 가장자리부를 따라 상방향으로 돌출형성되어 상기 브라켓과 연결되는 사각틀 형상의 연결부가 일체형으로 형성된 알루미늄(al) 전극으로서, 아노다이징(anodizing)을 통해 외면 전체에 걸쳐산화피막형성된것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 15]
제 14 항에 있어서,상기 하부전극조립체에는 냉매 주입포트 및 냉매 배출포트가 더 마련되고,상기 연결부의 내부에는 상기 냉매 주입 및 배출포트와 연결되어 공급되는 냉매가 순환하는냉매유로형성된것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 16]
제 13 항에 있어서,상기 중간 플레이트에는 냉매 주입포트 및 냉매 배출포트가 더 마련되고, 상기 냉매 주입포트를 통해 공급되는 냉매를 상기 상부전극조립체로 전달하는 냉매 주입라인 및 상기 상부전극조립체 내부에서 순환된 냉매를 상기 냉매 배출포트로 전달하는 냉매 배출라인이상기중간플레이트와상기상부전극조립체사이더마련되는것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 17]
제 16 항에 있어서,상기 상부전극조립체는상부가 개방된 박스형 형상을 갖는 유전체;상기 유전체 바닥부 상면에 형성된 상부전극;상기 상부전극의 상면에 접착되어 상기 서포터에 착탈가능하게 체결되고, 상기 냉매 주입포트 및 냉매 배출포트와 연결되어 공급되는 냉매가 이동하는 냉매유로가 형성된 냉각블럭;상기 상부전극과 상기 상부전극에 고전압을 인가하는 전원공급부를 연결시키는 고전압 와이어; 및상기 유전체의 내부 공간에 충진되어 상기 상부전극 및 상기 냉각블럭을 외부와 차단시키는 에폭시를 포함하여구성되는것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 18]
제 17 항에 있어서,상기 에폭시는 상기 유전체와 비슷한 열팽창계수를 갖는고전압에폭시인것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 19]
제 17 항에 있어서,상기 에폭시는 진공상태하에서 120℃를 유지하여 경화시킴으로써 내부에 형성될 수 있는기포를최소화한것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
[청구항 20]
제 17 항에 있어서,상기 유전체의 내측벽에는 상기 상부전극과 연결된 리드 단자가 더 마련되고, 상기 고전압 와이어는 상기 리드 단자와 연결됨으로써상기상부전극과전기적연결되는것을특징으로 하는대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
상부전극조립체의 구성 요소 중, 유전체의 내부 공간에 충진되어 상부전극 및 냉각블럭을 외부와 차단하는 역할을 수행하며, 기포를 최소화하기 위해 진공 상태에서 120℃로 경화되는 물질은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation상부전극조립체의 구성 요소 중 유전체 내부 공간에 충진되어 상부전극 및 냉각블럭을 차단하며, 진공 상태에서 120℃로 경화되어 기포를 최소화하는 물질을 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 6(또는 17)에서 유전체 내부 공간에 충진되어 상부전극 및 냉각블럭을 외부와 차단하는 물질이 '에폭시'임을 확인한다.
- 상기 유전체의 내부 공간에 충진되어 상기 상부전극 및 상기 냉각블럭을 외부와 차단시키는 에폭시
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3근거 선택
evidence_selection에폭시가 진공 상태에서 120℃로 경화되어 기포를 최소화한다는 구체적인 공정 조건이 명시된 청구항 8(또는 19)을 선택한다.
- 상기 에폭시는 진공상태하에서 120℃를 유지하여 경화시킴으로써 내부에 형성될 수 있는기포를최소화한것을특징으로 하는
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4논리 통합
logical_integration추출된 '에폭시'라는 물질이 질문에서 제시한 역할(차단)과 경화 조건(진공, 120℃, 기포 최소화)을 모두 충족함을 확인한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 직접적인 답변으로 '에폭시'를 도출한다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 단어를 바탕으로 최종 답변을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
에폭시
핵심 해석 (core_interpretation)
상부전극조립체의 절연 및 보호를 위해 유전체 내부에 충진되는 에폭시를 진공 및 고온 경화 공정을 통해 기포 없이 형성하는 기술에 관한 것이다.