반도체 처리 챔버용 가스 배플 및 분배기 document_id 1020070122082

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 바디는 상기 바디의 외주 둘레에 위치되는 플랜지를 포함하며, 상기 플랜지는 상기 오목면으로부터 상기 바디의 외부 가장자리로의 거리로 방사상 외측으로 연장되며, 상기 플랜지의 거리는 상기 가스 분배기를 가로지르는 최대 폭의 단지 약 25%를 포함하는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 오목면은 상기 가스 편향면의 표면적의 약 90% 이상을 포함하는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 오목면은 상기 가스 분배기의 상부에 근접해서 상기 제1 방향을 따라 연장되며 상기 가스 분배기의 하부에 근접해서 상기 제2 방향으로 따라 연장되는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 오목면은 상기 오목면을 형성하는 수 개의 계단부를 포함하며, 상기 계단부는 상기 오목면의 제1 상부로부터 상기 오목면의 제2 하부로 연장되는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 6] 제 1 항에 있어서,상기 배플은 상기 오목면의 주위로 볼록면을 갖춘 플랜지를 포함하며, 상기 배플은 상기 오목면과 상기 볼록면 사이에 편평한 변이면 없이 상기 제1 방향에서 상기 제2 방향으로 가스를 전환시키도록 구성되는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 바디는 상기 제1 방향을 따라 연장되는 상부 및 상기 제2 방향을 따라 연장되는 플랜지 부분을 포함하며, 상기 플랜지 부분은 상기 플랜지 부분의 두께 보다 작은 거리로 상기 오목면을 지나서 상기 제2 방향을 따라 연장되는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 8] 제 1 항에 있어서,상기 바디는 상기 가스 분배기를 장착하도록 가스 공급 포트에 근접해서 위치되는 목부를 포함하며, 상기 목부는 축선을 따라 연장되며, 상기 가스 편향면은 상기 축선을 중심으로 대체로 회전적으로 대칭이며, 상기 제1 방향은 상기 축선을 따라 존재하며, 상기 제2 방향은 상기 축선에서 이격되어 있는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 바디는 증착 가스를 분사하도록 구성되는 노출된 하부면을 포함하며, 상기 노출된 하부면은 중심부, 및 단차진 표면에 의해 상기 중심부로부터 분리된 오목한 둘레 부분을 구비하며, 상기 바디는 가스 유입구, 상기 단차진 표면 내에 배치되는 복수의 가스 유출구, 및 상기 복수의 가스 유출구에 상기 가스 유입구를 연결시키는 가스 통로를 더 포함하는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,단편을 포함하는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 하부면은 중심부, 및 단차진 표면에 의해 상기 중심부로부터 분리된 오목한 둘레 부분을 포함하며, 상기 바디는 가스 유입구, 상기 단차진 표면 내에 배치되는 복수의 가스 유출구, 및 상기 복수의 가스 유출구에 상기 가스 유입구를 연결시키는 가스 통로더 포함하는,기판 처리 챔버. [청구항 13] 제 11 항에 있어서,상기 배플의 상부면을 향해 상기 가스를 인도하도록 구성되는 환형 가스 통로를 형성하기 위해 상기 바디의 일부분 둘레에 배치되는 환형 구조물더 포함하는,기판 처리 챔버. [청구항 15] 제 14 항에 있어서,상기 변이면은 상기 최대 폭의 단지 약 10%에 대해 상기 최대 폭을 따라 연장되는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 16] 제 14 항에 있어서,상기 볼록면은 상기 제1 방향을 따라 두께를 포함하며, 상기 변이면은 상기 볼록면의 두께 보다 작은 거리로 상기 최대 폭을 따라 연장되는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기. [청구항 17] 제 14 항에 있어서,상기 오목면은 오목한 원환체 면을 포함하며, 상기 볼록면은 볼록한 원환체 면을 포함하고, 상기 오목한 원환체 면 및 상기 볼록한 원환체 면은 상기 오목한 원환체 면으로부터 상기 볼록한 원환체 면으로 매끄러운 변이를 제공하도록 구성되는,반도체 처리 챔버 내사용되는가스 분배기.