마이크로리소그래피를 위한 투영 노출 장치 document_id 1020077007919

[청구항 1] 구조를 감광성 레지스트로 코팅된 기판 위로 투영하는 투영 대물렌즈를 포함하되, 액침 액체가 상기 투영 대물렌즈의 굴절 광학 요소와 상기 코팅된 기판 사이에 배치되어 있고, 상기 액침 액체의 귤절율은 상기 광학 요소의 굴절률보다 크고 상기 레지스트의 굴절률보다 작은 것을 특징으로 하는 투영 노출 장치 [청구항 2] 제1 항에 있어서,상기 액침 액체는 248 nm 의 조사 파장에서 1.19 cm-1 보다 작은 소광 계수갖는투영 노출 장치. [청구항 3] 제1 항에 있어서,상기 액침 액체는 193 nm 의 조사 파장에서 35.6 cm-1 보다 작은 소광 계수갖는투영 노출 장치. [청구항 4] 제1 항 내지 제3 항의 어느 한 항에 있어서,상기 광학 요소와 상기 코팅된 기판 사이의 거리는 상기 액침 액체를 통한 투과율이 70% 이상조절되는투영 노출 장치. [청구항 5] 제1 항 내지 제4 항의 어느 한 항에 있어서,상기 투영 노출 장치는 상기 액침 액체를 위한 재생 회로포함하는투영 노출 장치. [청구항 6] 제5 항에 있어서,상기 재생 회로는 증류 장치포함하는투영 노출 장치. [청구항 7] 제1 항 내지 제6 항의 어느 한 항에 있어서,상기 액침 액체는 포화 고리 또는 다중고리탄화수소인투영 노출 장치. [청구항 8] 제7 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로-알칸 또는 사이클로-알칸유도체인투영 노출 장치. [청구항 9] 제8 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로헥산인투영 노출 장치. [청구항 10] 제8 항에 있어서,상기 액침 액체는 분자식 c6r1r2r3r4r5r6r7r8r9r10r11r12 을 갖는 사이클로헥산 유도체이되, 여기서 r1 내지 r12 는 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹으로부터 각각 선택되며, n은 1과 12 사이의 양의 정수나타내는투영 노출 장치. [청구항 11] 제8 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로옥탄인투영 노출 장치. [청구항 12] 제8 항에 있어서,상기 액침 액체는 분자식 c6r1r2r3r4r5r6r7r8r9r10r11r12 r13r14r15r16 를 갖는 사이클로옥탄 유도체이되, 여기서 r1 내지 r16 는 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹으로부터 각각 선택되며, n 은 1 과 12 사이의 양의 정수나타내는투영 노출 장치. [청구항 13] 제8 항에 있어서,상기 액침 액체는 분자식 ckh2k 을 갖되, k 는 7 내지 12 사이의 양의 정수나타내는투영 노출 장치. [청구항 14] 제8 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로펜탄(cyclopentane), 사이클로헵탄(cycloheptane), 사이클로노난(cyclononane), 사이클로데칸(cyclodecane), 사이클로운데칸(cycloundecane) 및 사이클로도데칸(cyclododecane)으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 15] 제8 항에 있어서,상기 액침 액체는 분자식 ckr1"r2k 을 갖는 사이클로-알칸 유도체이되, 여기서 r1 내지 r2k 는 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹각각 선택되며,k 는 1 과 12 사이의 양의 정수이고, n 은 1 과 12 사이의 양의 정수인 투영 노출 장치. [청구항 17] 제8 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로펜탄, 사이클로헵탄, 사이클로노난, 사이클로데칸, 사이클로운데칸 및 사이클로도데칸으로 구성된 그룹으로부터 선택된 사이클로-알칸의 유도체이되 측쇄 r 을 포함하며, 여기서 r은 -h, -cnh2n+1 을 포함하는 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 18] 제7 항에 있어서,상기 액침 액체는 데카하이드로나프탈렌(decahydronaphthalene, decalin), 퍼하이드로플루오렌(perhydrofluorene), 퍼하이드로인덴(perhydroindene), 퍼하이드로페난트렌(perhydrophenanthrene), 퍼하이드로벤조파이렌(perhydrobenzopyrene), 퍼하이드로안트라젠(perhydroanthrazene), 퍼하이드로플루오란텐(perhydrofluoranthene), 퍼하이드로인데노파이렌(perhydroindenopyrene), 퍼하이드로벤조플루오란텐(perhydrobenzofluoranthene), 퍼하이드로크라이센(perhydrochrysene), 퍼하이드로테트라페닐렌(perhydrotetraphenylene), 퍼하이드로펜탈렌(perhydropentalene), 퍼하이드로아줄렌(perhydroazulene), 퍼하이드로헵탈렌(perhydroheptalene), 퍼하이드로바이페닐렌(perhydrobiphenylene), 퍼하이드로인다젠(perhydroindazene), 퍼하이드로세나프틸렌(perhydroacenaphthylene), 퍼하이드로페날렌(perhydrophenalene), 퍼하이드로파이렌(perhydropyrene), 퍼하이드로나프타젠(perhydronaphthazene) 및 퍼하이드로코로넨(perhydrocoronene)으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 19] 제7 항에 있어서,상기 액침 액체는 데카하이드로나프탈렌, 퍼하이드로플루오렌, 퍼하이드로인덴, 퍼하이드로페난트렌, 퍼하이드로벤조파이렌, 퍼하이드로안트라젠, 퍼하이드로플루오란텐, 퍼하이드로인데노파이렌, 퍼하이드로벤조플루오란텐, 퍼하이드로크라이센, 퍼하이드로테트라페닐렌, 퍼하이드로펜탈렌, 퍼하이드로아줄렌, 퍼하이드로헵탈렌, 퍼하이드로바이페닐렌, 퍼하이드로인다젠, 퍼하이드로세나프틸렌, 퍼하이드로페날렌, 퍼하이드로파이렌, 퍼하이드로나프타젠 및 퍼하이드로코로넨으로 구성된 그룹으로부터 선택된 물질의 어느 하나의 유도체이되 측쇄 r 을 포함하며, 여기서 r 은 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 20] 제7 항에 있어서,상기 액침 액체는 가교(bridged) 다중 고리탄화수소인투영 노출 장치. [청구항 21] 제20 항에 있어서,상기 액침 액체는 노보난(norbonane), 아다만탄(adamantane), 트리사이클로데칸(tricyclodecane) 또는 바이사이클로 [3.3.2]-데칸(bicyclo [3.3.2]-decane)으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 22] 제1 항 내지 제6 항의 어느 한 항에 있어서,상기 액침 액체는 고리 포화 탄화수소 또는 다중 고리 포화 탄화수소의 유도체이고, 여기서 적어도 하나의 측쇄가 -oh 및 -cnh2noh 으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 23] 제1 항 내지 제6 항의 어느 한 항에 있어서,상기 액침 액체는 고리 에테르(cyclic ether), 특히 크라운 에테르인투영 노출 장치. [청구항 24] 제23 항에 있어서,상기 액침 액체는 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofurane) 또는 테트라하이드로퓨란의유도체인투영 노출 장치. [청구항 25] 제23 항에 있어서,상기 액침 액체는 15-크라운-5-(1,4,7,10,13)-펜타옥사사이클로펜타데칸인투영 노출 장치. [청구항 26] 제1 항 내지 제6 항의 어느 한 항에 있어서,상기 액침 액체는 메탄올, 아이소프로판올(isopropanol), 사이클로헥산올(cyclohexanol) 및 사이클로헥실메탄올(cyclohexylmethanol)로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 27] 제1 항 내지 제6 항의 어느 한 항에 있어서,상기 액침 액체는 아세토나이트릴인투영 노출 장치. [청구항 28] 제1 항 내지 제6 항의 어느 한 항에 있어서,상기 액침 액체는 3차 아민인투영 노출 장치. [청구항 30] 제29 항에 있어서,상기 액침 액체는 248 nm의 조사 파장에서 1.19 cm-1 보다 작은 소광 계수갖는투영 노출 장치. [청구항 31] 제29 항에 있어서,상기 액침 액체는 193 nm의 조사 파장에서 35.6 cm-1 보다 작은 소광 계수갖는투영 노출 장치. [청구항 32] 제29 항 내지 제31 항의 어느 한 항에 있어서,상기 광학 요소와 상기 코팅된 기판 사이의 거리는 상기 액침 액체를 통한 투과율이 70% 이상조절되는투영 노출 장치. [청구항 33] 제29 항 내지 제32 항의 어느 한 항에 있어서,상기 투영 노출 장치는 상기 액침 액체를 위한 재생 회로포함하는투영 노출 장치. [청구항 34] 제33 항에 있어서,상기 재생 회로는 증류 장치포함하는투영 노출 장치. [청구항 35] 제29 항 내지 제34 항의 어느 한 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로-알칸 또는 사이클로-알칸유도체인투영 노출 장치. [청구항 36] 제35 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로헥산인투영 노출 장치. [청구항 37] 제35 항에 있어서,상기 액침 액체는 분자식 c6r1r2r3r4r5r6r7r8r9r10r11r12 을 갖는 사이클로헥산 유도체이되, 여기서 r1 내지 r12 는 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹으로부터 각각 선택되며, n 은 1과 12 사이의 양의 정수나타내는투영 노출 장치. [청구항 38] 제35 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로옥탄인투영 노출 장치. [청구항 39] 제35 항에 있어서,상기 액침 액체는 분자식 c8r1r2r3r4r5r6r7r8r9r10r11r12 r13r14r15r16 를 갖는 사이클로옥탄 유도체이되, 여기서 r1 내지 r16 는 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹으로부터 각각 선택되며, n 은 1 과 12 사이의 양의 정수나타내는투영 노출 장치. [청구항 40] 제35 항에 있어서,상기 액침 액체는 분자식 ckh2k 을 갖되, k 는 7 내지 12 사이의 양의 정수나타내는투영 노출 장치. [청구항 41] 제40 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로펜탄, 사이클로헵탄, 사이클로노난, 사이클로데칸, 사이클로운데칸 및 사이클로도데칸으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 42] 제35 항에 있어서,상기 액침 액체는 분자식 ckr1"r2k 을 갖는 사이클로알칸 유도체이되, 여기서 r1 내지 r2k는 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹각각 선택되며,k 는 7 과 12 사이의 양의 정수이고 n 은 1 과 12 사이의 양의 정수인 투영 노출 장치. [청구항 44] 제35 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로펜탄, 사이클로헵탄, 사이클로노난, 사이클로데칸, 사이클로운데칸 및 사이클로도데칸으로 구성된 그룹으로부터 선택된 사이클로-알칸의 유도체이되 측쇄 r 을 포함하며, 여기서 r 은 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 45] 제29 항 내지 제34 항의 어느 한 항에 있어서,상기 액침 액체는 데카하이드로프탈렌, 데카하이드로나프탈렌, 퍼하이드로플루오렌, 퍼하이드로인덴, 퍼하이드로페난트렌, 퍼하이드로벤조파이렌, 퍼하이드로안트라젠, 퍼하이드로플루오란텐, 퍼하이드로인데노파이렌, 퍼하이드로벤조플루오란텐, 퍼하이드로크라이센, 퍼하이드로테트라페닐렌, 퍼하이드로펜탈렌, 퍼하이드로아줄렌, 퍼하이드로헵탈렌, 퍼하이드로바이페닐렌, 퍼하이드로인다젠, 퍼하이드로세나프틸렌, 퍼하이드로페날렌, 퍼하이드로파이렌, 퍼하이드로나프타젠 및 퍼하이드로코로넨으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 46] 제29 항 내지 제34 항의 어느 한 항에 있어서,상기 액침 액체는 데카하이드로나프탈렌, 퍼하이드로플루오렌, 퍼하이드로인덴, 퍼하이드로페난트렌, 퍼하이드로벤조파이렌, 퍼하이드로안트라젠, 퍼하이드로플루오란텐, 퍼하이드로인데노파이렌, 퍼하이드로벤조플루오란텐, 퍼하이드로크라이센, 퍼하이드로테트라페닐렌, 퍼하이드로펜탈렌, 퍼하이드로아줄렌, 퍼하이드로헵탈렌, 퍼하이드로바이페닐렌, 퍼하이드로인다젠, 퍼하이드로세나프틸렌, 퍼하이드로페날렌, 퍼하이드로파이렌, 퍼하이드로나프타젠 및 퍼하이드로코로넨으로 구성된 그룹으로부터 선택된 물질의 어느 하나의 유도체이되 측쇄 r 을 포함하며, 여기서 r 은 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 47] 제29 항 내지 제34 항의 어느 한 항에 있어서,상기 액침 액체는 가교 다중고리탄화수소인투영 노출 장치. [청구항 48] 제47 항에 있어서,상기 액침 액체는 노보난, 아다만탄, 트리사이클로데칸 또는 바이사이클로 [3.3.2]-데칸으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치. [청구항 49] 구조를 기판 위로 투영하는 투영 대물렌즈를 포함하되, 액침 액체가 상기 투영 대물렌즈의 굴절 광학 요소와 상기 기판 사이에 배치되어 있고, 상기 액침 액체는 포화 고리 또는 다중고리 탄화수소의 유도체이되 적어도 하나의 측쇄가 -oh 또는 -c n h 2n oh 로 구성된 그룹으로부터 선택된 투영 노출 장치 [청구항 51] 제50 항에 있어서,상기 액침 액체는 테트라하이드로퓨란 또는 테트라하이드로퓨란의유도체인투영 노출 장치. [청구항 52] 제50 항에 있어서,상기 액침 액체는 15-크라운-5-(1,4,7,10,13)-펜타옥사사이클로펜데칸인투영 노출 장치. [청구항 53] 구조를 기판 위로 투영하는 투영 대물렌즈를 포함하되, 액침 액체가 상기 투영 대물렌즈의 굴절 광학 요소와 상기 기판 사이에 배치되어 있고, 상기 액침 액체는 메탄올, 아이소프로판올, 사이클로헥산올 및 사이클로헥실메탄올로 구성된 그룹으로부터 선택된 투영 노출 장치 [청구항 56] 제55 항에 있어서,이상이고,동시50 이상인투영 노출 장치. [청구항 57] 제56 항에 있어서,이상이고,동시50 이상인투영 노출 장치. [청구항 59] 제58 항에 있어서,상기 물질은 248 nm의 조사 파장에서 1.19 cm-1 보다 작은 소광 계수갖는투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 60] 제58 항에 있어서,상기 물질은 193 nm의 조사 파장에서 35.6 cm-1 보다 작은 소광 계수갖는투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 61] 제58 항 내지 제60 항의 어느 한 항에 있어서,상기 물질은 포화 고리 또는 다중고리탄화수소인투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 62] 제58 항 내지 제60 항의 어느 한 항에 있어서,상기 물질은 사이클로-알칸 또는 사이클로-알칸유도체인투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 63] 제62 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클헥산인투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 64] 제62 항에 있어서,상기 물질은 분자식 c6r1r2r3r4r5r6r7r8r9r10r11r12 을 갖는 사이클로헥산 유도체이되, 여기서 r1 내지 r12는 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹으로부터 각각 선택되며, n은 1과 12 사이의 양의 정수나타내는투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 65] 제62 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로옥탄인투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 66] 제62 항에 있어서,상기 물질은 분자식 c8r1r2r3r4r5r6r7r8r9r10r11r12 r13r14r15r16 를 갖는 사이클로옥탄 유도체이되, 여기서 r1 내지 r16 는 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹으로부터 각각 선택되며, n 은 1 과 12 사이의 양의 정수나타내는투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 67] 제62 항에 있어서,상기 물질은 분자식 ckh2k 을 갖되, k는 7 내지 12 사이의 양의 정수나타내는투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 68] 제62 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로펜탄, 사이클로헵탄, 사이클로노난, 사이클로데칸, 사이클로운데칸 및 사이클로도데칸으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 69] 제62 항에 있어서,상기 물질은 분자식 ckr1"r2k 을 갖는 사이클로-알칸 유도체이되, 여기서 r1 내지 r2k는 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹각각 선택되며,k 는 7 과 12 사이의 양의 정수이고 n 은 1 과 12 사이의 양의 정수인 투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 71] 제62 항에 있어서,상기 액침 액체는 사이클로펜탄, 사이클로헵탄, 사이클로노난, 사이클로데칸, 사이클로운데칸 및 사이클로도데칸으로 구성된 그룹으로부터 선택된 사이클로-알칸의 유도체이되 측쇄 r 을 포함하며, 여기서 r 은 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 72] 제61 항에 있어서,상기 물질은 데카하이드로나프탈렌, 퍼하이드로플루오렌, 퍼하이드로인덴, 퍼하이드로페난트렌, 퍼하이드로벤조파이렌, 퍼하이드로안트라젠, 퍼하이드로플루오란텐, 퍼하이드로인데노파이렌, 퍼하이드로벤조플루오란텐, 퍼하이드로크라이센, 퍼하이드로테트라페닐렌, 퍼하이드로펜탈렌, 퍼하이드로아줄렌, 퍼하이드로헵탈렌, 퍼하이드로바이페닐렌, 퍼하이드로인다젠, 퍼하이드로세나프틸렌, 퍼하이드로페날렌, 퍼하이드로파이렌, 퍼하이드로나프타젠 및 퍼하이드로코로넨으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 73] 제61 항에 있어서,상기 액침 액체는 데카하이드로나프탈렌, 퍼하이드로플루오렌, 퍼하이드로인덴, 퍼하이드로페난트렌, 퍼하이드로벤조파이렌, 퍼하이드로안트라젠, 퍼하이드로플루오란텐, 퍼하이드로인데노파이렌, 퍼하이드로벤조플루오란텐, 퍼하이드로크라이센, 퍼하이드로테트라페닐렌, 퍼하이드로펜탈렌, 퍼하이드로아줄렌, 퍼하이드로헵탈렌, 퍼하이드로바이페닐렌, 퍼하이드로인다젠, 퍼하이드로세나프틸렌, 퍼하이드로페날렌, 퍼하이드로파이렌, 퍼하이드로나프타젠 및 퍼하이드로코로넨으로 구성된 그룹으로부터 선택된 물질의 어느 하나의 유도체이되 측쇄 r를 포함하며, 여기서 r 은 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 74] 제61 항에 있어서,상기 물질은 가교 다중고리탄화수소인투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 75] 제74 항에 있어서,상기 물질은 노보난, 아다만탄, 트리사이클로데칸 또는 바이사이클로 [3.3.2]-데칸으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 76] 제58 항 내지 제60 항의 어느 한 항에 있어서,상기 물질은 고리 또는 다중고리 포화 탄화수소의 유도체이되 적어도 하나의 측쇄가 -oh 또는 -cnh2noh 로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 77] 제58 항 내지 제60 항의 어느 한 항에 있어서,상기 물질은 고리 에테르특히 크라운 에테르인투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 78] 제77 항에 있어서,상기 물질은 테트라하이드로퓨란 또는 테트라하이드로퓨란의유도체인투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 79] 제78 항에 있어서,상기 물질은 15-크라운-5-(1,4,7,10,13)-펜타옥사사이클로펜데칸인투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 80] 제58 항 내지 제60 항의 어느 한 항에 있어서,상기 물질은 메탄올, 아이소프로판올, 사이클로헥산올 및 사이클로헥실메탄올로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 81] 제58 항 내지 제60 항의 어느 한 항에 있어서,상기 물질은 아세나이트릴인투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 82] 제58 항 내지 제60 항의 어느 한 항에 있어서,상기 물질은 3차아민인투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 84] 제83 항에 있어서,포화 고리 또는 다중고리 탄화수소는 사이클로헥산, 사이클로옥탄, 사이클로펜탄, 사이클로헵탄, 사이클로노난, 사이클로데칸, 사이클로운데칸, 사이클로도데칸, 데카하이드로나프탈렌, 퍼하이드로플루오렌, 퍼하이드로인덴, 퍼하이드로페난트렌, 퍼하이드로벤조파이렌, 퍼하이드로안트라젠, 퍼하이드로플루오란텐, 퍼하이드로인데노파이렌, 퍼하이드로벤조플루오란텐, 퍼하이드로크라이센, 퍼하이드로테트라페닐렌, 퍼하이드로펜탈렌, 퍼하이드로아줄렌, 퍼하이드로헵탈렌, 퍼하이드로바이페닐렌, 퍼하이드로인다젠, 퍼하이드로세나프틸렌, 퍼하이드로페날렌, 퍼하이드로파이렌, 퍼하이드로나프타젠 및 퍼하이드로코로넨으로 구성된 그룹선택된투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용. [청구항 85] 제83 항에 있어서,포화 고리 또는 다중고리 탄화수소는 사이클로헥산, 사이클로옥탄, 사이클로펜탄, 사이클로헵탄, 사이클로노난, 사이클로데칸, 사이클로운데칸, 사이클로도데칸, 데카하이드로나프탈렌, 퍼하이드로플루오렌, 퍼하이드로인덴, 퍼하이드로페난트렌, 퍼하이드로벤조파이렌, 퍼하이드로안트라젠, 퍼하이드로플루오란텐, 퍼하이드로인데노파이렌, 퍼하이드로벤조플루오란텐, 퍼하이드로크라이센, 퍼하이드로테트라페닐렌, 퍼하이드로펜탈렌, 퍼하이드로아줄렌, 퍼하이드로헵탈렌, 퍼하이드로바이페닐렌, 퍼하이드로인다젠, 퍼하이드로세나프틸렌, 퍼하이드로페날렌, 퍼하이드로파이렌, 퍼하이드로나프타젠 및 퍼하이드로코로넨으로 으로 구성된 그룹으로부터 선택된 물질의 유도체이되 측쇄 r를 포함하며, 여기서 r 은 -h 및 -cnh2n+1 로 구성된 그룹선택되고,n 은 1과 5 사이의 정수인 투영 노출 장치에서 액침 액체로서의 물질의 사용.