가공 특허 1020077009379

출원번호: 1020077009379
분류: 전기(H섹션)

문맥 (context)

[청구항 2] 청구항 1에 있어서,상기n 원자와 h 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가, nh3 가스, nh2nh2 가스, 및 이들 가스의 혼합 가스로부터 선택된가스인것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 3] 청구항 1에 있어서,상기n 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스와 h 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스의 혼합 가스가 n2 가스와 h2가스의혼합가스인것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 4] 청구항 3에 있어서,상기n2 가스와 h2 가스의 혼합 가스가 유량 기준으로식만족하는것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 5] 청구항 1 내지 4의 어느 한 항에 있어서,상기si 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가실라놀류가스인것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 6] 청구항 5에 있어서,상기 실라놀류가 화학식: h3sioh, r3sioh(식중, r는 알킬기를 나타냄) 및 r2si(oh)2(식중, r는 상기 정의와 동일)를 가지는 화합물로부터 선택된적어도일종인것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 7] 청구항 6에 있어서,상기 실라놀류가 트리에틸실라놀인것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 8] 청구항 1 내지 7의 어느 한 항에 있어서,상기n 원자와 h 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스, n 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스와 h 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스의 혼합 가스, 및 h 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가 플라즈마의 발생에 의해 또는 촉매에 의해 분해되어 활성화된 상태로, 또한 si 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가 그대로의 생가스 또는 플라즈마의 발생에 의해 분해되어 활성화된 상태로,진공챔버내도입되는것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 10] 청구항 9에 있어서,상기n 원자와 h 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가 nh3 가스, nh2nh2 가스, 및 이들 가스의 혼합 가스로부터 선택된가스인것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 11] 청구항 9에 있어서,상기n 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스와 h 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스의 혼합 가스가 n2 가스와 h2가스의혼합가스인것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 12] 청구항 11에 있어서,상기n2 가스와 h2 가스의 혼합 가스가 유량 기준으로식만족하는것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 13] 청구항 9 내지 12의 어느 한 항에 있어서,상기si 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가실라놀류가스인것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 14] 청구항 13에 있어서,상기 실라놀류가 화학식: h3sioh, r3sioh(식중, r는 알킬기를 나타냄) 및 r2si(oh)2(식중, r는 상기 정의와 동일)를 가지는 화합물로부터 선택된적어도일종인것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 15] 청구항 14에 있어서,상기 실라놀류가 트리에틸실라놀인것을특징으로 하는선택 w-cvd법. [청구항 16] 청구항 9 내지 15의 어느 한 항에 있어서,상기n 원자와 h 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스, n 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스와 h 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스의 혼합 가스, 및 h 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가 플라즈마의 발생에 의해 또는 촉매에 의해 분해되어 활성화된 상태로, 또한 si 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가 그대로의 생가스 또는 플라즈마의 발생에 의해 분해되어 활성화된 상태로,진공챔버내도입되는것을특징으로 하는선택 w-cvd법.

지시문 (instruction)

주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.

질문 (question)

선택 W-CVD법에서 n 원자와 h 원자를 포함하는 화합물 가스가 플라즈마 또는 촉매에 의해 활성화된 상태로 진공챔버 내에 도입될 때, si 원자를 포함하는 화합물 가스는 어떠한 상태로 도입될 수 있는가?

추론 과정 (compact_reasoning)

1과제 해석task_interpretation

질문은 n 원자와 h 원자를 포함하는 가스가 활성화된 상태로 도입될 때, si 원자를 포함하는 화합물 가스가 도입될 수 있는 상태를 묻는다.
2정보 추출information_extraction

청구항 8 및 16에서 si 원자를 포함하는 화합물 가스의 도입 상태에 관한 기술적 내용을 추출한다.
- si 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가 그대로의 생가스 또는 플라즈마의 발생에 의해 분해되어 활성화된 상태로,진공챔버내도입되는것
3근거 선택evidence_selection

si 원자 포함 가스의 상태를 직접적으로 명시한 구절을 선택한다.
- si 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가 그대로의 생가스 또는 플라즈마의 발생에 의해 분해되어 활성화된 상태로
4논리 통합logical_integration

n/h 포함 가스의 활성화 조건과 상관없이, si 포함 가스는 '그대로의 생가스' 또는 '플라즈마에 의해 분해되어 활성화된 상태'로 도입될 수 있음을 연결한다.
- si 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가 그대로의 생가스 또는 플라즈마의 발생에 의해 분해되어 활성화된 상태로
5결론 도출conclusion_formulation

질문에 대한 답변으로 si 원자 포함 가스의 두 가지 가능한 상태를 정리한다.
- 그대로의 생가스 또는 플라즈마의 발생에 의해 분해되어 활성화된 상태
6답변 생성answer_generation

추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
- si 원자를 화학식 내에 포함하는 화합물 가스가 그대로의 생가스 또는 플라즈마의 발생에 의해 분해되어 활성화된 상태로,진공챔버내도입되는것

최종 답변 (final_answer)

그대로의 생가스 또는 플라즈마의 발생에 의해 분해되어 활성화된 상태

핵심 해석 (core_interpretation)

선택 W-CVD법에서 n/h 포함 가스는 활성화된 상태로 도입되는 반면, si 포함 가스는 생가스 상태 또는 플라즈마에 의해 활성화된 상태로 도입될 수 있음을 규정한다.