접근 용이한 조리개 또는 구경 조리개를 구비한마이크로리소그래피 투영 시스템 document_id 1020077020465

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 조리개(b)는 상기 조리개 평면(1000)에서의 지점(bo)에 배치되고 그리고 상기 지점(bo)까지 광경로의 상기 제2의 섹션의 방사상 거리는 상기 투영시스템의 구조길이의 1%, 특히 5%, 바람직하게는 10%, 특히 바람직하게는 15%, 가장 바람직하게는 20%, 더욱 바람직하게는 25%, 특히 바람직하게는 30%, 가장 바람직하게 35%와 같거나 크고, 여기에서 상기 투영시스템의 구조길이는 비춰질 상기 물체필드로부터 상기 이미지필드까지축거리정의되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 조리개(b)는 상기 조리개 평면(1000)에서의 지점(bo)에 배치되고 그리고 상기 지점(bo)까지 광경로의 상기 제1의 섹션의 방사상 거리는 상기 투영시스템의 구조길이의 1%, 특히 5%, 바람직하게는 10%, 특히 바람직하게는 15%, 가장 바람직하게는 20%, 더욱 바람직하게는 25%, 특히 바람직하게는 30%, 가장 바람직하게 35%와 같거나 크고, 여기에서 상기 투영시스템의 구조길이는 비춰질 상기 물체필드로부터 상기 이미지필드까지축거리정의되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 조리개(b)는 상기 제1 거울 그룹(sg1)의 제1 거울(s1)과 상기 제2 거울 그룹(sg2)의 제2 거울(s6) 사이에 위치되고, 상기에서 상기 제1 거울은 상기 이미지 평면(102)까지 제1 축거리(a1)를 구비하고 상기 제2 거울은 상기 이미지 평면(102)까지의 제2 축거리(a2)를 구비하고, 상기에서 제1 축거리(a1)는 항상 상기 제2 축거리(a2)보다 큰 것특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 제2 축거리(a2)는 0.3 × 상기 제1 축거리(a1), 바람직하게는 0.4 × 상기 제1 축거리(a1), 바람직하게는 0.5 × 상기 제1 축거리, 가장 바람직하게는 0.6 × 상기 제1 축거리, 가장 바람직하게는 0.7 × 상기 제1 축거리, 더 바람직하게는 0.8 × 상기 제1 축거리, 특히 0.9 ×상기제1축거리인것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 11] 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 조리개는아이리스 조리개인것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 12] 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투영 시스템은 적어도 네 개의 사용된 영역들, 즉 제1의 사용된 영역, 제2의 사용된 영역, 제3의 사용된 영역 및 제4의 사용된영역포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제1의 사용된 영역 및 제2의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 14] 제 12 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제2의 사용된 영역 및 제3의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 15] 제 12 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제3의 사용된 영역 및 제4의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 16] 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 다섯 개의 사용된 영역들, 즉 제1의 사용된 영역, 제2의 사용된 영역, 제3의 사용된 영역, 제4의 사용된 영역 및 제5의 사용된영역포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 17] 제 16 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제1의 사용된 영역 및 제2의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 18] 제 16 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제2의 사용된 영역 및 제3의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 19] 제 16 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제3의 사용된 영역 및 제4의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 20] 제 16 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제4의 사용된 영역 및 제5의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 21] 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 여섯 개의 사용된 영역들, 즉 제1의 사용된 영역, 제2의 사용된 영역, 제3의 사용된 영역, 제4의 사용된 영역, 제5의 사용된 영역 및 제6의 사용된영역포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 22] 제 21 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제2의 사용된 영역 및 제3의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 23] 제 21 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제3의 사용된 영역 및 제4의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 24] 제 21 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제4의 사용된 영역 및 제5의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 25] 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 일곱 개의 사용된 영역들, 즉 제1의 사용된 영역(n1), 제2의 사용된 영역(n2), 제3의 사용된 영역(n3), 제4의 사용된 영역(n4), 제5의 사용된 영역(n5), 제6의 사용된 영역(n6) 및 제7의 사용된영역포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 26] 제 25 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제3의 사용된 영역 및 제4의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 27] 제 25 항에 있어서,상기 조리개는 상기 제4의 사용된 영역 및 제5의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 28] 제 1 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서,이미지에서 개구수(na)는 0.26보다 큰, 바람직하게는 0.30보다 큰, 가장 바람직하게는 0.35보다 큰, 특히 바람직하게는 0.40보다 큰 것특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 29] 제 1 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은적어도하나의중간이미지구비하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 30] 제 1 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 두개의중간이미지구비하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 31] 제 1 항 내지 제 30 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은반사투영시스템인것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 32] 제 1 항 내지 제 30 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 반사 굴절(catadioptric)투영시스템인것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 35] 제 33 항 또는 제 34 항에 있어서,개의 거울 중의 하나로부터 다른 하나까지 상기 광축에 다른 축거리는 상기 투영 시스템의 구조길이의 40%보다 크고, 바람직하게는 50%보다 크고, 더 바람직하게는 60%보다 크고, 특히 바람직하게는 70%보다 크고, 가장 바람직하게는 80%보다 크고, 상기에서 상기 투영시스템의 상기 구조길이는 물체평면으로부터 이미지평면까지축거리정의되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 36] 제 33 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투영 시스템은, 물체평면으로부터 이미지평면까지 상기 투영 시스템을 통과하는 광빔의 광선들이 하나의 사용된 영역(n1, n2, n3)에서 부딪치는 적어도 세개의거울들포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 37] 제 36 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제1의 사용된 영역(n1) 및 상기 제2의 사용된 영역(n2)사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 38] 제 36 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제2의 사용된 영역(n2) 및 상기 제3의 사용된 영역(n3)사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 39] 제 33 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투영 시스템은 적어도 네 개의 사용된 영역들, 즉 제1의 사용된 영역(n1), 제2의 사용된 영역(n2), 제3의 사용된 영역(n3) 및 제4의 사용된영역포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 40] 제 39 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제1의 사용된 영역 및 상기 제2의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 41] 제 39 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제2의 사용된 영역 및 상기 제3의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 42] 제 39 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제3의 사용된 영역(n3) 및 상기 제4의 사용된 영역(n4)사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 43] 제 33 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투영 시스템은 적어도 다섯 개의 사용된 영역들, 즉 제1의 사용된 영역(n1), 제2의 사용된 영역(n2), 제3의 사용된 영역(n3), 제4의 사용된 영역(n4) 및 제5의 사용된영역포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 44] 제 43 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제1의 사용된 영역 및 상기 제2의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 45] 제 43 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제2의 사용된 영역 및 상기 제3의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 46] 제 43 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제3의 사용된 영역 및 상기 제4의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 47] 제 43 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제4의 사용된 영역 및 상기 제5의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 48] 제 33 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 여섯 개의 사용된 영역들, 즉 제1의 사용된 영역(n1), 제2의 사용된 영역(n2), 제3의 사용된 영역(n3), 제4의 사용된 영역(n4), 제5의 사용된 영역(n5) 및 제6의 사용된영역포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 49] 제 48 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제2의 사용된 영역 및 상기 제3의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 50] 제 48 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제3의 사용된 영역 및 상기 제4의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 51] 제 48 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제4의 사용된 영역 및 상기 제5의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 52] 제 33 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 일곱 개의 사용된 영역들, 즉 제1의 사용된 영역(n1), 제2의 사용된 영역(n2), 제3의 사용된 영역(n3), 제4의 사용된 영역(n4), 제5의 사용된 영역(n5), 제6의 사용된 영역(n6) 및 제7의 사용된영역포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 53] 제 52 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제3의 사용된 영역 및 상기 제4의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 54] 제 52 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제4의 사용된 영역 및 상기 제5의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 55] 제 33 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 여덟 개의 사용된 영역들, 즉 제1의 사용된 영역(n1), 제2의 사용된 영역(n2), 제3의 사용된 영역(n3), 제4의 사용된 영역(n4), 제5의 사용된 영역(n5), 제6의 사용된 영역(n6), 제7의 사용된 영역(n7) 및 제8의 사용된영역포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 56] 제 55 항에 있어서,상기 구경 조리개는 상기 제4의 사용된 영역 및 상기 제5의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 57] 제 33 항 내지 제 56 항 중 어느 한 항에 있어서,이미지측 개구수(na)는 0.26과 같거나 큰, 바람직하게는 0.30과 같거나 큰, 가장 바람직하게는 0.35와 같거나 큰, 특히 바람직하게는 0.40과 같거나 큰 것특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 58] 제 33 항 내지 제 57 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은적어도하나의중간이미지구비하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 59] 제 33 항 내지 제 58 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 두개의중간이미지구비하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 60] 제 33 항 내지 제 58 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 파장λ를 구비하여 물체평면 내의 물체를 이미지평면 내의 이미지로 결상시키고, 상기에서 파장λ는 λ≤248nm, 바람직하게는 λ≤193nm이고, 특히 λ는 euv리소그래피용범위인것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 61] 제 33 항 내지 제 60 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은반사투영시스템인것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 62] 제 33 항 내지 제 61 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 반사 굴절(catadioptric)투영시스템인것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 64] 제 63 항에 있어서,상기 반사 투영 시스템은 하나의 사용된 영역을 구비한적어도하나의거울포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 65] 제 63 항 또는 제 64 항에 있어서,상기 구경 조리개는아이리스 조리개인것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 66] 제 63 항 내지 제 65 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 구경 조리개는 하나의 사용된 영역으로부터 큰 축거리, 특히 상기 투영시스템의 구조길이의 0.1%, 바람직하게는 구조길이의 1%, 가장 바람직하게는 구조길이의 5%, 특히 바람직하게는 구조길이의 10%보다 큰축거리배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 67] 제 62 항 내지 제 66 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투영 시스템은 상기 광경로에 적어도 두개의중간이미지포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 68] 제 63 항 내지 제 67 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투영 시스템은 네 개의 사용된 영역을 구비한 적어도 네 개의 거울, 바람직하게는 여섯 개의 사용된 영역을 구비한 적어도 여섯 개의 거울, 가장 바람직하게는 여덟 개의 사용된 영역을 구비한적어도여덟개의거울포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 69] 제 62 항 내지 제 67 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 파장λ를 구비하여 물체평면 내의 물체를 이미지평면 내의 이미지로 결상시키고, 상기에서 파장λ는 λ≤248nm, 바람직하게는 λ≤193nm이고, 특히 λ는 euv리소그래피용범위인것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 71] 제 63 항 내지 제 70 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 세 개의 사용된 영역들을 구비한제3서브시스템포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 72] 제 63 항 내지 제 71 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 두 개의 사용된 영역들을 구비한제1서브시스템포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 73] 제 63 항 내지 제 72 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 두 개의 사용된 영역들을 구비한제2서브시스템포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 74] 제 62 항 내지 제 73 항에 있어서,상기 마이크로리소그래피 투영 시스템은 적어도 제1의 사용된 영역, 제2의 사용된 영역, 제3의 사용된 영역, 제4의 사용된 영역 및 제5의 사용된 영역을 포함하고, 상기에서 조리개 또는 구경 조리개는 제4의 사용된 영역과 제5의 사용된영역사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 75] 제 62 항 내지 제 74 항 중 어느 한 항에 있어서,이미지측 개구수(na)는 0.26과 같거나 큰, 바람직하게는 0.30과 같거나 큰, 더 바람직하게는 0.35와 같거나 큰, 가장 바람직하게는 0.40과 같거나 큰 것특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 76] 제 1 항 내지 제 75 항 중 어느 한 항에 있어서,주광선은 물체의 모든 포인트(point)로부터 방출되고, 상기 시스템은 입사동을 구비하고, 주광선들은 발산하며상기입사동으로들어가는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템. [청구항 77] 제 1 항 내지 제 75 항 중 어느 한 항에 있어서,하나의 거울 또는 거울 표면은 두 개의 사용된영역포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 시스템.