안테나 및 이를 구비한 반도체 장치 document_id 1020080018791

[청구항 1] 전원에 연결되는 코일을 구비하고, 상기 코일이 360° 이상 연속 회전됨으로써 상기 코일의 회전 중심이 되는 가상축의 원주 방향을 따라 유도 결합형 플라즈마 생성을 위한 전자기장이 균일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 안테나 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 코일은, 상기 전원이 인가되며 회전 중심이 되는 중심 코일;상기 중심 코일에 대하여 축대칭 위치에 복수로 배치되는 것으로, 상기 중심 코일에 일단부가 연결되고 상기 중심 코일로부터 멀어지는 방향으로 연장되다가 다시 상기 중심 코일에 접근되면서 타단부에 전원 접지부를 구비하는 브랜치 코일;을포함하는것을특징으로 하는안테나. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 코일은 회전 중심이 되는 부분을 시작점으로 하여 상기 회전 중심에서 멀어지는 방향을 따라 평균 전압이 일정하게인가되는것을특징으로 하는안테나. [청구항 4] 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코일은 그 내부에 냉각제가 흐르는도체파이프형상인것을특징으로 하는안테나. [청구항 5] 웨이퍼 및 반응 가스가 내부에 위치하는 챔버 전원에 연결되는 코일이 축대칭으로 배치된 안테나 를 포함하며, 상기 코일이 360° 이상 연속 회전됨으로써 상기 코일의 회전 중심이 되는 가상축의 원주 방향을 따라 유도 결합형 플라즈마 생성을 위한 전자기장이 균일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 코일은, 상기 전원이 인가되며 회전 중심이 되는 중심 코일과 상기 중심 코일에 대하여 축대칭 위치에 복수로 배치되는 브랜치 코일을 구비하고, 상기 브랜치 코일의 일단부는 상기 중심 코일에 연결되어 상기 전원을 인가받고 상기 브랜치 코일의 타단부는 상기 중심 코일에 접근된 위치에전원접지부구비하는것을특징으로 하는반도체 장치. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 중심 코일 및 상기 브랜치 코일의 내부를 따라냉각제유동되는것을특징으로 하는반도체 장치. [청구항 8] 제5항에 있어서,상기 안테나는 상기 챔버의 외부 또는 내부에 회전 가능하게설치되는것을특징으로 하는반도체 장치. [청구항 9] 제5항에 있어서,상기 안테나가 조립되어 함께 회전하는 로테이터;상기 로테이터를 회전 가능하게 지지하는하우징더포함하는것을특징으로 하는반도체 장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 하우징은 냉각제 공급부 및 냉각제 배출부를 구비하고,상기 로테이터는 상기 안테나의 내부를 흐르는 냉각제의 전달 통로가 되는 냉각제 채널을 구비하며,상기 냉각제 공급부 및 상기 냉각제 채널 사이와 상기 냉각제 배출부 및 상기 냉각제 채널 사이는시일밀봉되는것을특징으로 하는반도체 장치. [청구항 11] 제9항에 있어서,상기 코일은, 상기 전원이 인가되며 회전 중심이 되는 중심 코일과 상기 중심 코일에 대하여 축대칭 위치에 복수로 배치되는 브랜치 코일을 구비하고, 상기 중심 코일은 상기 로테이터와 전기적으로 절연되며,상기 브랜치 코일의 말단부에 마련되는 전원 접지부는 상기 로테이터에 접촉되어접지되는것을특징으로 하는반도체 장치. [청구항 12] 제5항에 있어서,반지름 방향 및 원주 방향을 따라 상기 반응 가스를 균일하게 분사하는 가스 홈 및 가스 구멍이 형성된가스판더포함하는것을특징으로 하는반도체 장치. [청구항 13] 제5항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코일은 회전 중심이 되는 부분을 시작점으로 하여 상기 회전 중심에서 멀어지는 방향을 따라 평균 전압이 일정하게인가되는것을특징으로 하는반도체 장치.