기판 세정장치 및 방법 document_id 1020080029025

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 플라즈마 세정수단은,대기압 분위기의 하우징;다수개의 홀이 형성된 그라운드 전극; 및 상기 그라운드 전극의 상방에 형성된고전압 전극포함하는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 고전압 전극의 상방에 다수개의 홀이 형성된그라운드전극더설치되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 버블세정수단은,원수 저장탱크;상기 원수 저장탱크에서 공급된 원수와 공기를 혼합하여 미세버블을 형성하는 믹싱부; 상기 믹싱부에서 생성된 미세버블을 저장하는 버블 저장탱크; 및 상기 버블 저장탱크에서 공급된 미세버블을 상기 기판에 도포하는노즐포함하는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 원수는초순수인것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 6] 제4항에 있어서,상기 원수 저장탱크에는 상기 원수를 가열하는가열부더구비되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 가열부는 상기 원수를 25~99℃의범위가열하는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 히팅수단은 적외선히터인것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 플라즈마 세정수단, 버블 세정수단 및 히팅수단은 상기 기판의 상하방향에대칭되게구비되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 10] 제1항에 있어서,상기 기판에 물을 분사하여 세정하는린싱부더구비되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 기판에 공기를 분사하는에어나이프더구비되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 12] 제10항에 있어서,상기 에어나이프는 상기 기판의 이송방향과 직교인 가상선과의 사잇각이 10~20°의범위설치되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 13] 제11항에 있어서,상기 에어나이프는 상기 기판과의 갭을 표시하는인디게이터더구비되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 14] 제1항에 있어서,상기 기판에 남아있는 정전기를 제거하는이오나이저더구비되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 15] 제1항에 있어서,상기 기판을 향하여 청정공기의 다운플로우를 형성하는에어커튼더구비되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 16] 제1항에 있어서,상기 기판은 마그네틱 컨베이어에 의해이송되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 마그네틱 컨베이어는,구동원;상기 구동원에 의해 회전되며, 부채꼴 형태의 자석편들을 조합하여 이루어지는 원형의 구동 디스크;상기 구동 디스크와 마주보고 이격설치되며, 상기 구동 디스크의 회전으로 자력에 의해 회전되는 종동 디스크; 및 상기 종동 디스크에 연결되는이송롤러포함하는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 18] 제17항에 있어서,상기 구동 디스크 또는 종동 디스크는 상기 자석편들을 내장하는원통형의케이싱더구비되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 19] 제18항에 있어서,상기 케이싱은비자성체인것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 20] 제19항에 있어서,상기 케이싱은 스테인리스스틸재질인것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 21] 제18항에 있어서,상기 케이싱에는 n극과 s극의 상기 자석편이교대배치되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 22] 제18항에 있어서,상기 케이싱에는 상기 자석편들의 후측에자성체플레이트더구비되는것을특징으로 하는기판 세정장치. [청구항 23] 제17항에 있어서,상기 이송롤러는 수평면으로부터 경사지게 설치되어, 상기 기판을 기울어진상태이송하는것을특징으로 하는기판 세정장치.