화학 응고물 포집 장치 및 이를 구비하는 반도체 제조 장치 document_id 1020080041458

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 포집부를 냉각하는 냉각수를 투입하기 위한 제 1 냉각수 투입구;상기 투입된 냉각수가 흐르는 제 1 냉각수 유로; 및상기 냉각수를 배출시키는 제 1 냉각수 배출구더 포함하는화학 응고물 포집 장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 포집부는상기 제 1 포집부 내를 가로질러 연장되며, 내부에 냉각수가 흐르는 통로가 마련된 제 2 냉각수 유로;상기 제 2 냉각수 유로 외벽에 소정 간격으로 이격 고정되며, 복수의 홀이 형성된 복수의 제 1 디스크;회전 운동을 하며, 상기 제 1 디스크와 이격된 선단부를 구비한 회전부; 및상기 회전부의 일부에 고정되며, 상기 복수의 제 1 디스크와 교호로 설치된 복수의 제 1 스페이셔포함하는화학 응고물 포집 장치. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 제 2 냉각수 유로는 외벽에 요철 구조가 형성되며, 복수의 제 1 디스크는 각각 중앙부에 상기 제 2 냉각수 유로 외벽의 요철 구조에 삽입 고정하기 위한 소정의 요철 구조를 갖는 중앙홀; 및 상기 중앙홀이 형성된 영역 이외의 영역에 소정 간격 이격되어 형성된 복수의 홀을 포함하며,상기 중앙홀과 상기 요철 구조의 삽입 위치를 조절하여 상기 복수의 홀을 통한 상기 가스의 흐름조절하는화학 응고물 포집 장치. [청구항 5] 제 3 항에 있어서,웹 플레이트는 상기 회전부의 타 선단부에 설치되고, 상기 제 1 포집부 내벽에 부착되는 응고물을 제거하기 위한 스웹 플레이트더 포함하는화학 응고물 포집 장치. [청구항 6] 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 제 2 포집부는상기 제 2 포집부내를 가로질러 연장되며, 회전 운동을 하는 회전축;상기 회전축 외벽에 소정 간격으로 이격 고정되며, 복수의 홀이 형성된 복수의 제 2 디스크; 및상기 복수의 제 2 디스크들과 교호로 설치된 복수의 제 2 스페이셔포함하는화학 응고물 포집 장치. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 복수의 제 2 디스크는 상기 제 1 포집부에 인접한 부분에서 배출구로 가까울수록 상기 홀의 크기 및 간격더 작아지는화학 응고물 포집 장치. [청구항 8] 제 6 항에 있어서,상기 회전부와 상기 회전축은 서로 연결되어 동일 속도로 회전운동하는화학 응고물 포집 장치. [청구항 9] 반응 가스를 이용하여 소정의 공정을 수행하며, 미반응 가스 및 반응 부산물 가스를 배출하는 반응 챔버 고정 설치된 복수의 제 1 디스크와 회전하는 복수의 제 1 스페이셔를 구비하는 제 1 포집부와 고정 설치된 복수의 제 2 스페이셔와 회전하는 복수의 제 2 디스크를 구비하는 제 2 포집부를 포함하며, 상기 반응 챔버로부터 유입되는 가스가 응고되어 상기 제 1 및 제 2 디스크에 부착되고, 상기 제 1 및 제 2 스페이셔에 의해 상기 제 1 및 제 2 디스크에 부착된 응고물이 제거되는 예비 포집부; 및 상기 예비 포집부에 의해 포집되지 않은 배출 가스가 유입되고, 유입된 배출 가스를 응고시켜 포집하는 주 포집 장치를 포함하는 반도체 제조 장치 [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 예비 포집부는상기 제 1 포집부와 상기 제 2 포집부를 둘러싸여 내벽과 외벽 사이에 냉각수 유로가 설치된 하우징;상기 하우징 내에서 생성된 응고물이 낙하되어 저장되는 응고물 저장 챔버; 및상기 복수의 제 1 스페이셔와 복수의 제 2 디스크를 회전시키기 위한회전 구동부를포함하는화학 응고물 포집 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,고물 저장 챔버의 외부에 상기 응고물 저장 챔버에 저장된 상기 응고물의 양을 확인하기 위한 투명 윈도더 포함하는화학 응고물 포집 장치.