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플라즈마 반응장치 document_id 1020080043422

출원번호
1020080043422
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 1] 플라즈마 반응공간을 제공하되, 하측 중앙부에는 배기구가 구비되는 챔버 상기 챔버의 일측 벽면에 관통 형성된 삽입공에 결합되는 고정플레이트와, 상기 고정플레이트에 일측이 결합되는 케소드지지축, 및 상기 케소드지지축의 타측에 결합되어 기판이 상기 챔버 내측의 중앙부에 위치하도록 상기 기판을 지지하는 기판지지체로 구성된 캐소드 어셈블리; 및 상기 챔버의 반응공간이 상부와 하부로 분리되도록 상기 기판지지체에 외삽되어 결합되며, 반응가스가 통과될 수 있도록 다수개의 슬롯 형상의 통기구를 이격되게 방사상으로 배열하여 관통 형성하되, 상기 통기구는 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 통기 면적이 작게 형성되도록 비대칭으로 배열 형성되는 베플 플레이트 를 포함하여 구성되는 플라즈마 반응장치 [청구항 2] 제 1항에 있어서,플레이트의 통기구는 상기 케소드지지축의 상측 편보다반대측편의슬롯간의이격거리형성되는것을특징으로 하는플라즈마 반응장치. [청구항 3] 제 1항에 있어서,상기 통기구는 등간격으로 배열하되, 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 슬롯의 길이가 상기 베플 플레이트의 외측에서 내측 방향으로 순차적으로 작아지도록 형성되어 상기 슬롯 전체의 외곽이타원형형성되게한것을특징으로 하는플라즈마 반응장치. [청구항 4] 제 1항에 있어서,상기 통기구는 등간격으로 배열하되, 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 슬롯의 길이가 상기 베플 플레이트의 내측에서 외측 방향으로 순차적으로 작아지도록 형성되어 상기 슬롯 전체의 중심점이 케소드지지축의 반대측 편으로 편심되게 위치하도록형성되는것을특징으로 하는플라즈마 반응장치. [청구항 6] 플라즈마 반응공간을 형성하는 챔버 상기 챔버의 벽면에 일측이 결합되는 케소드지지축과 상기 케소드지지축의 타측에 결합되어 기판이 상기 챔버 내측의 중앙부에 위치하도록 상기 기판을 지지하는 기판지지체로 구성된 캐소드 어셈블리; 및 상기 챔버의 반응공간이 상부와 하부로 분리되도록 상기 기판지지체에 상,하로 이격되게 외삽되어 설치되고, 상기 챔버 내의 반응가스가 통과될 수 있도록 다수개의 통기구가 이격되게 배열되어 관통 형성되는 제1배출판과 제2배출판으로 구성하되, 상기 제1배출판과 제2배출판은 상기 반응가스가 통과하는 통기 면적이 서로 상이하게 형성되는 베플 플레이트 를 포함하여 구성되는 플라즈마 반응장치 [청구항 7] 제 6항에 있어서,플레이트는 상기 제1배출판과 제2배출판이 상기 기판지지체에 외삽되어 결합되는 지지체의 상단부와 하단부에 각각 형성되어일체화되게한것을특징으로 하는플라즈마 반응장치. [청구항 8] 제 6항 또는 제 7항에 있어서,상기제1,2배출판의 통기구는 방사상으로 이격되게 등간격으로 배열되는 다수개의 슬롯으로 각각 형성하되, 상기 제1,2배출판의슬롯의간격형성되는것을특징으로 하는플라즈마 반응장치. [청구항 9] 제 6항 또는 제 7항에 있어서,상기제1,2배출판의 통기구는 이격되게 배열되는 다수개의 원통으로 각각 형성하되, 상기 제1,2배출판 중 적어도 어느 하나는 상기 케소드지지축의 상측 편보다반대측편의원통간의이격거리형성되는것을특징으로 하는플라즈마 반응장치. [청구항 10] 제 6항 또는 제 7항에 있어서,상기제1,2배출판의 통기구는 방사상으로 이격되게 배열되는 다수개의 슬롯으로 각각 형성하되, 상기 제1,2배출판 중 적어도 어느 하나는 상기 케소드지지축의 상측 편보다반대측편의슬롯간의이격거리형성되는것을특징으로 하는플라즈마 반응장치. [청구항 11] 제 6항 또는 제 7항에 있어서,상기제1,2배출판의 통기구는 방사상으로 이격되게 배열되는 다수개의 슬롯으로 각각 형성하되, 상기 제1,2배출판 중 적어도 어느 하나는 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 슬롯의 길이가 순차적으로 작아지도록 형성되어 상기 슬롯 전체의 외곽이타원형형성되게한것을특징으로 하는플라즈마 반응장치. [청구항 12] 제 6항 또는 제 7항에 있어서,상기제1,2배출판의 통기구는 방사상으로 이격되게 배열되는 다수개의 슬롯으로 각각 형성하되, 상기 제1,2배출판 중 적어도 어느 하나는 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 슬롯의 길이가 내측으로부터 순차적으로 작아지도록 형성되어 상기 슬롯 전체의 중심점이 케소드지지축의 반대측 편으로 편심되게 위치하도록형성되는것을특징으로 하는플라즈마 반응장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
청구항 1에 따른 플라즈마 반응장치에서 베플 플레이트의 통기구가 케소드지지축의 상측 편과 반대측 편에 대해 비대칭으로 배열되는 구체적인 기준은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    청구항 1을 바탕으로 베플 플레이트의 통기구가 케소드지지축의 상측 편과 반대측 편에 대해 비대칭으로 배열되는 구체적인 기준을 추출해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 1에서 베플 플레이트의 통기구 배열에 관한 기술적 특징을 확인한다.

    • 상기 통기구는 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 통기 면적이 작게 형성되도록 비대칭으로 배열 형성되는 베플 플레이트
  3. 3근거 선택evidence_selection

    비대칭 배열의 기준이 명시된 구절을 선택한다.

    • 상기 통기구는 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 통기 면적이 작게 형성되도록 비대칭으로 배열 형성되는
  4. 4논리 통합logical_integration

    추출된 정보를 종합하면, 비대칭 배열의 기준은 케소드지지축의 상측 편에 비해 반대측 편의 통기 면적을 작게 형성하는 것이다.

    • 상기 통기구는 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 통기 면적이 작게 형성되도록 비대칭으로 배열 형성되는
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에 대한 직접적인 답변을 구성한다. 기준은 통기 면적의 차이다.

    • 상기 통기구는 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 통기 면적이 작게 형성되도록 비대칭으로 배열 형성되는
  6. 6답변 생성answer_generation

    최종 답변을 작성한다.

    • 상기 통기구는 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 통기 면적이 작게 형성되도록 비대칭으로 배열 형성되는
최종 답변 (final_answer)
상기 통기구는 상기 케소드지지축의 상측 편보다 반대측 편의 통기 면적이 작게 형성되도록 비대칭으로 배열 형성된다.
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 베플 플레이트의 통기 면적을 케소드지지축을 기준으로 상측 편보다 반대측 편이 작게 형성함으로써, 통기구의 비대칭 배열을 통해 플라즈마 반응장치의 가스 흐름을 제어하는 기술을 포함한다.