문맥 (context)
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 나선형 도관은 가스, 액체, 고체 분말, 가스 내에 부유하는 고체, 액체 내에 부유하는 고체 또는 액체 내에 부유하는 가스 또는 이들 중 2 이상의 조합물을 포함하는공정유체전달하도록구성되는 것인챔버 구성품.
[청구항 3]
제 1 항에 있어서,상기 나선형 도관은 상기 공급측으로부터 상기 처리측으로 연장되는 축선을 중심으로 실질적으로 1회전하여 완성되거나, 또는 상기 공급측으로부터 상기 처리측으로 연장되는 축선을 중심으로 1회전을 초과하여 회전함으로써 완성되거나, 또는 상기 공급측으로부터 상기 처리측으로 연장되는 축선을 중심으로 1회전 미만으로 회전함으로써 완성되거나, 또는 상기 공급측으로부터 상기 처리측으로 연장되는 축선을 중심으로 복수회 회전함의해완성되는 것인챔버 구성품.
[청구항 4]
제 1 항에 있어서,상기 공급측으로부터 상기 챔버 소자를 관통하여 상기 처리측으로 복수의 나선형 도관이 연장되며, 상기 복수의 나선형 도관 각각은 공정 유체를 수용하도록 구성된 입구 및 상기 공정 유체를 분배하도록 구성된 출구포함하는 것인챔버 구성품.
[청구항 5]
제 4 항에 있어서,상기 복수의 나선형 도관 각각은 상기 공급측으로부터 상기 처리측으로 연장되는 실질적으로 동일한 축선을 중심형성되는 것인챔버 구성품.
[청구항 6]
제 4 항에 있어서,상기 복수의 나선형 도관 각각은 상이한출구 각도동일한출구 각도로 이루어지는 것인챔버 구성품.
[청구항 7]
제 4 항에 있어서,상기 복수의 나선형 도관 각각은 나선에 대하여 상이한 측방치수로 이루어지는 것인챔버 구성품.
[청구항 8]
제 1 항에 있어서,상기 챔버 소자는 전력 인가 무선 주파수(rf) 전극 상에 또는 상기 전극 내에 형성되는 유전체 부재를 포함하거나, 또는 슬롯형 평면 안테나 상에 공진기 플레이트포함하는 것인챔버 구성품.
[청구항 15]
제 14 항에 있어서,상기 가스 분배 시스템은 상기 입구를 통해 상기 공정 가스의 유동을 수용하고, 플리넘(plenum) 내의 상기 가스 주입 장치를 통해 상기 공정 가스의 유동을 상기 처리 공간과 유체 연통하는복수의개구분배하도록구성되는 것인처리 시스템.
[청구항 16]
제 14 항에 있어서,상기 처리 챔버에 결합되며, 상기 처리 공간에서 상기 공정 가스로부터 플라즈마를 형성하도록 구성된 플라즈마 발생 시스템을 더 포함하며, 상기 가스 분배 시스템은 상기 플라즈마 발생 시스템 상에 또는 상기 플라즈마 발생 시스템 내형성되는 것인처리 시스템.
[청구항 17]
제 14 항에 있어서,상기 처리 챔버에 결합되며, 상기 처리 공간에서 상기 공정 가스로부터 플라즈마를 형성하도록 구성되는 플라즈마 발생 시스템을 더 포함하며, 상기 플라즈마 발생 시스템은 표면파 플라즈마(swp) 공급원이며, 상기 표면파 플라즈마(swp) 공급원은,전력 결합 시스템과,상기 전력 결합 시스템에 결합되며, em 에너지를 상기 전력 결합 시스템으로부터 상기 처리 공간으로 방사하도록 구성되고, 공진기 플레이트를 갖는 슬롯형 평면 안테나를 포함하는 전자(em)파 런처를 포함하며,상기 입구는 상기 슬롯형 평면 안테나 내에 형성되고,상기 가스 주입 장치는상기공진기 플레이트관통하여형성되는 것인처리 시스템.
[청구항 18]
제 17 항에 있어서,상기 전력 결합 시스템은 마이크로파 전력 결합 시스템을 포함하고, 상기 마이크로파 전력 결합 시스템은 2.45ghz에서 마이크로파 에너지를 생성하도록 구성된 마이크로파 공급원과, 상기 마이크로파 공급원의 출구에 결합되는 도파관과, 상기 도파관에 결합되며 상기 마이크로파 공급원으로 마이크로파 에너지가 복귀 전파되는 것을 방지하도록 구성되는 절연체와, 상기 절연체에 결합되며 상기 마이크로파 에너지를 동축 피드에 결합하도록 구성되는 동축 컨버터를 포함하며, 상기 동축 피드는 상기 em파 런처에 추가결합되는 것인처리 시스템.
[청구항 19]
제 18 항에 있어서,상기 전력 결합 시스템은 em 에너지를 상기 em파 런처에 결합하기 위한 동축 피드를 포함하고, 상기 슬롯형 평면 안테나는 상기 동축 피드의 내측 도체에 결합되는 일단부 및 상기 동축 피드의 외측 도체에 결합되는 타단부를 포함하며, 상기 슬롯형 평면 안테나는 상기 내측 도체와 상기 외측 도체 사이에서 상기 슬롯형 평면 안테나 위의 제 1 영역으로부터 상기 슬롯형 평면 안테나 아래의 제 2 영역 내의 상기 공진기 플레이트로 상기 em 에너지를 결합하도록 구성되는 하나 이상의 슬롯포함하는 것인처리 시스템.
[청구항 20]
제 19 항에 있어서,상기 입구는상기내측도체통해형성되는 것인처리 시스템.
지시문 (instruction)
주어진 특허 청구항을 읽고 발명의 구성요소와 구성을 파악하여 질문에 답하라. 문맥에 제시된 표현을 중심으로 답하라.
질문 (question)
표면파 플라즈마(swp) 공급원을 포함하는 처리 시스템에서, 가스 주입 장치는 어떤 구성 요소를 관통하여 형성되는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation표면파 플라즈마(swp) 공급원을 포함하는 처리 시스템에서 가스 주입 장치가 관통하여 형성되는 구성 요소를 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 17에서 표면파 플라즈마(swp) 공급원과 가스 주입 장치에 관한 정보를 추출한다.
- 상기 표면파 플라즈마(swp) 공급원은, ... 상기 가스 주입 장치는 상기 공진기 플레이트 관통하여 형성되는 것인 처리 시스템.
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3근거 선택
evidence_selection가스 주입 장치가 무엇을 관통하는지 명시된 구절을 선택한다.
- 상기 가스 주입 장치는상기공진기 플레이트관통하여형성되는 것
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4논리 통합
logical_integration청구항 17의 문맥을 통해 가스 주입 장치가 공진기 플레이트를 관통하여 형성됨을 확인한다.
- 상기 가스 주입 장치는상기공진기 플레이트관통하여형성되는 것
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 답변으로 '공진기 플레이트'를 도출한다.
- 상기공진기 플레이트관통하여형성되는 것
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6답변 생성
answer_generation추출된 핵심 단어를 사용하여 최종 답변을 작성한다.
- 공진기 플레이트
최종 답변 (final_answer)
공진기 플레이트
핵심 해석 (core_interpretation)
표면파 플라즈마(swp) 공급원을 포함하는 처리 시스템에서, 가스 주입 장치가 공진기 플레이트를 관통하여 형성됨으로써 가스 분배가 이루어지는 구조를 나타낸다.