마이크로리소그래피 투영 노광 장치 document_id 1020080069592

[청구항 3] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,이미지 평면에서의 균질한 강도 분포 또는 이미지 평면에서 얻은 강도 분포에서 보정 요소 없이 존재하는 교란의 적어도 부분적인 보정은 각각, 투영 대물렌즈(20)의 물체 평면에 레티클이 배치되어 있지 않은투영 노광 장치의상태나타내는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 4] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 조명 시스템은 광축(oa) 및 상기 광축(oa)에 대해 경사지게 배치된 적어도 하나의 평면판을 갖는보정요소구비하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 평면판은 그들 통과하는 방사광의 입사각 및 편광 상태에 의존하는투과특성갖는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 6] 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 투영 노광 장치의 동작시에, 이미지 평면에 배치된 기판이 투영 대물렌즈(20)에 대하여 미리 정해진 스캐닝 방향(s)으로 이동 가능하며, 상기 적어도 하나의 평면판의 광축(oa)에 대한 경사의 중심이 되는 회전 축이 상기 스캐닝 방향(s)에 평행하게연장되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 7] 제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 평면판nan은유전체코팅갖는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 8] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 조명 시스템은 적어도 하나의 평면판(931,932)을 갖는 적어도 하나의 보정 요소를 포함하며, 상기 평면판(931,932)은 적어도 부분적인 흡수성 및/또는 적어도 부분적인 반사성 재료가 적어도 부분적으로 도포되어 있는적어도하나의표면갖는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,적어도 부분적인 흡수성 및/또는 적어도 부분적인 반사성 재료는 상기 평면판(931,932) 위에 비대칭적인구조물형성하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 비대칭적인 구조물(931a,932a)은 각각, 상기 투영 노광 장치의 동작 파장의 1.5배 이하이며 바람직하게는 50nm 내지 200nm의 범위에 있는최대크기갖는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 11] 제 3 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 보정 요소는 적어도 두개의평면판포함하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 평면판(931,932)은 서로에 대해 이동 가능하도록배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 13] 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,상기 판(911-914)은 광축(oa)에 대한 경사각에 있어서 서로 독립적으로조절가능한것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 14] 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 조명 시스템(10)과 투영 대물렌즈(20)는 각각 편광-의존적인 투과 및/또는 반사 특성을 갖는 적어도 하나의 편광-민감 광학 요소를 구비하며, 상기 조명 시스템의 편광-민감 광학 요소들 전체와 상기 투영 대물렌즈(20)의 편광-민감 광학 요소들 전체가 상호 반대되는 디어테뉴에이션갖는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 15] 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 조명 시스템(10)과 투영 대물렌즈(20)는 각각 편광-의존적인 투과 및/또는 반사 특성을 갖는 적어도 하나의 편광-민감 광학 요소를 구비하며, 상기 조명 시스템의 편광-민감 광학 요소들 전체와 상기 투영 대물렌즈(20)의 편광-민감 광학 요소들 전체가 상호 일치하는 디어테뉴에이션갖는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 16] 제 15 항에 있어서,선편광된 투과광의 양호한 편광 방향을 90°± 3°만큼 유효 회전시키는 추가적인 광학 요소(760)가 상기 조명 시스템(10)과 투영 대물렌즈(20)사이배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 17] 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 편광-민감 광학 요소는 ar-층이 제공된 렌즈 또는 hr-층이 제공된미러인것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 18] 제 2 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 보정 요소는동공 평면의적어도직근방배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 19] 제 2 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 보정 요소(930)는필드 평면의적어도직근방배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 20] 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 조명 시스템(10)은적어도하나의편향 미러구비하는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 21] 제 20 항에 있어서,상기 편향 미러(245,745)는동공 평면의적어도직근방배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 22] 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,상기 조명 시스템(10)은 광축(oa)을 가지며 상기 투영 대물렌즈(20)의 물체 평면에 있는 직사각형의 레티클 필드(f)를 조명하고, 상기 직사각형의 레티클 필드(f)의 종축은 상기 편향 미러(245)의 광축(oa)에 대한 경사의 중심이 되는 회전 축에 대해 90°± 3°의각도배치되는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치. [청구항 23] 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 조명 시스템(10) 및/또는 투영 대물렌즈(20)에 있는 적어도 하나의 렌즈에 ts가 tp보다 큰 반사방지 코팅이 제공되며, 여기서 tp는 상기 코팅에 입사하는 광의 p-성분에 대한 투과도를 나타내고 ts는 s-성분에 대한투과도나타내는것을특징으로 하는마이크로리소그래피 투영 노광 장치.