문맥 (context)
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 페데스탈이 상기 플로어의 중앙 개구를 통해 연장하고, 상기 페데스탈의 상기 접지면이 상기 중앙 개구에 의해 형성된 상기 플로어의 에지를 향하는 상기 페데스탈의 외부 실린더 형태의 표면포함하는,플라즈마 반응기.
[청구항 3]
제 1 항에 있어서,상기 실린더 형태의 측벽의 원주부를 통한 슬릿 밸브 개구로서, 상기 슬릿 밸브가 상기 실린더 형태의 측벽의 환형 섹션 내부에서 축방향으로 한정되는, 슬릿 밸브 개구;상기 측벽의 상기 환형 섹션의 축방향 경계에 인접한 상기 실린더 형태의 측벽의 적어도 제 1 유전체 링; 및상기 실린더 형태의 측벽의 상기 환형 섹션을 우회하는 축방향 전류 경로를 제공하는 전도성 스트랩의 배열을 추가로 포함하고,상기 전도성 스트랩 각각이 한 쌍의 단부를 가지며 일단부는 상기 환형 섹션 위에서 상기 측벽으로 전기적으로 연결되고 타단부는 상기 환형 섹션 아래에서 상기 측벽에 전기적으로 연결되며, 상기 스트랩이 상기 슬릿 밸브 개구로의접근방해하는것을우회되는(routed),플라즈마 반응기.
[청구항 4]
제 3 항에 있어서,상기 실린더 형태의 측벽에 있는 제 2 유전체 링을 추가로 포함하고,상기 제 1 유전체 링이 상기 측벽의 상기 환형 섹션의 상부 축방향 경계에 인접하여 있으며 상기 제 2 유전체 링이 상기 측벽의 상기 환형 섹션의 바닥부 축방향 경계인접하여 있는,플라즈마 반응기.
[청구항 5]
제 3 항에 있어서,트랩이 균일한 간격으로 상기 측벽의 원주 주위로 주기적이격되어 있는,플라즈마 반응기.
[청구항 6]
제 5 항에 있어서,트랩이 rf 전류에 균일한 인덕턴스를 제공하도록 구성되어 있고,상기 슬릿 밸브에 인접한 스트랩이 상기 슬릿 밸브의 둘레 주위로 우회하는 것을 가능하게 할 정도의 충분한 길이이고, 나머지 스트랩길이인,플라즈마 반응기.
[청구항 7]
제 3 항에 있어서,트랩이 상기 다수의 스트랩 및 상기 페데스탈의 웨이퍼 지지면 사이의 축방향 거리보다 짧은 방위각 거리만큼상기측벽의원주따라서로 이격되어 있는,플라즈마 반응기.
[청구항 10]
제 9 항에 있어서,상기 환형 배플이 중실형(solid)이고 갭을 통해 가스 유동을 허용할 정도로 충분히 큰 갭에 의해 상기 측벽으로부터 분리된 둘레 에지를 갖는,워크피스처리하기 위한플라즈마 반응기.
[청구항 11]
제 9 항에 있어서,상기 환형 배플이 가스 유동 개구들의 균일한 배열을 포함하고, 상기 배플이 둘레 에지를 가지며, 상기 반응기가 상기 둘레 에지 및 상기 측벽 사이에 결합 장치를 추가로 포함하는,워크피스처리하기 위한플라즈마 반응기.
[청구항 12]
제 11 항에 있어서,상기 결합 장치가,상기 배플의 상기 둘레 에지로부터 축방향으로 연장하는 배플 축방향 플랜지;상기 측벽의 내부면으로부터 방사상으로 내부로 연장하는 환형 쇼울더(shoulder); 및상기 쇼울더로부터 축방향으로 연장하는 측벽 축방향 플랜지를 포함하고,상기 측벽 축방향 플랜지 및 상기 배플 축방향 플랜지가 서로 향하고 있고 rf 주파수에서 갭을 가로질러 용량성 결합이 가능하도록 충분히 작은 갭에 의해 이격되어 있는,워크피스처리하기 위한플라즈마 반응기.
[청구항 13]
제 12 항에 있어서,상기 환형 쇼울더가 상기 슬릿 밸브의 축방향 위치 및 상기 프로세스 존의 축방향 위치 사이의 축방향 위치에 있고, 이에 의해 상기 측벽의 rf 그라운드 귀환 전류 유동을 상기 슬릿 밸브를 함유한 상기 측벽의 축방향 섹션으로부터 전환시키는, 워크피스처리하기 위한플라즈마 반응기.
[청구항 14]
제 9 항에 있어서,상기 슬릿 밸브가 원형 상부 및 바닥부 경계에 의해 형성된 상기 실린더 형태의 측벽의 축방향 섹션에 포함되고, 상기 반응기가 상기 경계 중 하나에 인접한 상기 측벽에 제 1 절연 링을 추가로 포함하는,워크피스처리하기 위한플라즈마 반응기.
[청구항 15]
제 14 항에 있어서,상기 경계 중 나머지에 인접한 상기 측벽에 제 2 절연 링을 추가로 포함하고, 이에 의해 상기 슬릿 밸브를 포함한 상기 실린더 형태의 측벽의 상기 축방향 섹션을 통한 rf 그라운드 귀환 전류 유동을 막는,워크피스처리하기 위한플라즈마 반응기.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플라즈마 반응기에서 슬릿 밸브 개구로의 접근을 방해하는 것을 우회하여 축방향 전류 경로를 제공하는 구성 요소는 무엇이며, 해당 구성 요소의 각 단부는 어디에 전기적으로 연결되는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation슬릿 밸브 개구로의 접근을 방해하는 것을 우회하여 축방향 전류 경로를 제공하는 구성 요소와 그 단부의 전기적 연결 위치를 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 3에서 슬릿 밸브 개구의 환형 섹션을 우회하는 축방향 전류 경로를 제공하는 구성 요소인 '전도성 스트랩'을 확인한다.
- 상기 환형 섹션을 우회하는 축방향 전류 경로를 제공하는 전도성 스트랩
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3근거 선택
evidence_selection전도성 스트랩의 단부 연결에 관한 구절인 '일단부는 상기 환형 섹션 위에서 상기 측벽으로 전기적으로 연결되고 타단부는 상기 환형 섹션 아래에서 상기 측벽에 전기적으로 연결되며'를 선택한다.
- 상기 전도성 스트랩 각각이 한 쌍의 단부를 가지며 일단부는 상기 환형 섹션 위에서 상기 측벽으로 전기적으로 연결되고 타단부는 상기 환형 섹션 아래에서 상기 측벽에 전기적으로 연결되며
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4논리 통합
logical_integration전도성 스트랩이 슬릿 밸브 개구로의 접근 방해를 우회하며, 한 단부는 환형 섹션 위에서 측벽에, 다른 단부는 환형 섹션 아래에서 측벽에 연결됨을 통합한다.
- 상기 스트랩이 상기 슬릿 밸브 개구로의접근방해하는것을우회되는(routed)
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5결론 도출
conclusion_formulation구성 요소는 전도성 스트랩이며, 일단부는 환형 섹션 위에서 측벽에, 타단부는 환형 섹션 아래에서 측벽에 연결된다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 최종 답변을 작성한다.
최종 답변 (final_answer)
전도성 스트랩이며, 일단부는 상기 환형 섹션 위에서 상기 측벽으로 전기적으로 연결되고 타단부는 상기 환형 섹션 아래에서 상기 측벽에 전기적으로 연결된다.
핵심 해석 (core_interpretation)
슬릿 밸브 개구로 인한 전류 흐름의 방해를 해결하기 위해, 전도성 스트랩을 사용하여 환형 섹션의 상부와 하부 측벽을 연결함으로써 축방향 전류 경로를 우회하여 제공하는 기술이다.