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성막장치 및 성막방법 document_id 1020080134724

출원번호
1020080134724
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극은 상기 처리 대상체와 접촉하는 면에 있어서 오목부를 갖고,상기 처리 대상체와 상기 제 1 전극의 단위면적당 접촉면적은 상기 오목부에 따라, 상기 처리 대상체의 상기 중앙부에 대응하는 영역의 접촉면적보다 상기 처리 대상체의 상기 주변부에 대응하는 영역의 접촉면적이 큰 것특징으로 하는성막장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극은 상기 처리 대상체와 접촉하는 면에 있어서, 상기 처리 대상체의 상기 중앙부에 대응하는 영역에 오목부를 갖고, 상기 처리 대상체의 상기 주변부에 대응하는 영역에오목부않는것을특징으로 하는성막장치. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극을 탑재하는탑재대구비하는것을특징으로 하는성막장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 탑재대는 상기 제 1 전극과 접촉하는 면에 있어서 오목부를 갖고,상기 탑재대와 상기 제 1 전극의 단위면적당 접촉면적은 상기 오목부에 따라, 상기 처리 대상체의 상기 중앙부에 대응하는 영역의 접촉면적보다 상기 처리 대상체의 상기 주변부에 대응하는 영역의 접촉면적이 큰 것특징으로 하는성막장치. [청구항 6] 제 4 항에 있어서,상기 탑재대는 상기 제 1 전극과 접촉하는 면에 있어서, 상기 처리 대상체의 상기 중앙부에 대응하는 영역에 오목부를 갖고, 상기 처리 대상체의 상기 주변부에 대응하는 영역에오목부않는것을특징으로 하는성막장치. [청구항 7] 제 4 항에 있어서,상기 제 1 전극은 상기 탑재대와 접촉하는 면에 있어서 오목부를 갖고,상기 탑재대와 상기 제 1 전극의 단위면적당 접촉면적은 상기 오목부에 따라, 상기 처리 대상체의 상기 중앙부에 대응하는 영역의 접촉면적보다 상기 처리 대상체의 상기 주변부에 대응하는 영역의 접촉면적이 큰 것특징으로 하는성막장치. [청구항 8] 제 4 항에 있어서,상기 제 1 전극은 상기 탑재대와 접촉하는 면에 있어서, 상기 처리 대상체의 상기 중앙부에 대응하는 영역에 오목부를 갖고, 상기 처리 대상체의 상기 주변부에 대응하는 영역에오목부않는것을특징으로 하는성막장치. [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 냉각부는 냉각 헤드부를 구비하고,상기 부재는 상기 제 1 전극 또는 상기 제 1 전극을 탑재하는 탑재대이며,상기 냉각 헤드부의 상기 제 1 전극 또는 상기 탑재대와 대향하는면형성된것을특징으로 하는성막장치. [청구항 11] 제 9 항에 있어서,상기 냉각부는 냉각 헤드부를 구비하고,상기 부재는 상기 제 1 전극 또는 상기 제 1 전극을 탑재하는 탑재대이며,상기 냉각 헤드부의 상기 제 1 전극 또는 상기 탑재대와 대향하는 면은 복수의 오목부로 형성되고,상기 오목부는 상기 냉각 헤드부의 주변영역에 비해 중심영역에 많이 형성되며,해당 주변영역에 있어서 상기 냉각 헤드부가 상기 제 1 전극 또는 상기 탑재대에 접촉하는 접촉면적은 해당 중심영역에 있어서 상기 냉각 헤드부가 상기 제 1 전극 또는 상기 탑재대에 접촉하는 접촉 면적보다 큰 것특징으로 하는성막장치. [청구항 12] 제 9 항에 있어서,상기 냉각부는 냉각 헤드부를 구비하고,상기 부재는 상기 제 1 전극 또는 상기 제 1 전극을 탑재하는 탑재대이며,상기 냉각 헤드부의 상기 제 1 전극 또는 상기 탑재대에 대향하는 면은 중심영역이 주변영역에 비해 더욱 거칠게 되어 있고,해당 주변영역에 있어서 상기 냉각 헤드부가 상기 제 1 전극 또는 상기 탑재대에 접촉하는 접촉면적은 해당 중심영역에 있어서 상기 냉각 헤드부가 상기 제 1 전극 또는 상기 탑재대에 접촉하는 접촉면적보다 큰 것특징으로 하는성막장치. [청구항 13] 제 9 항에 있어서,상기 냉각부는 냉각 헤드부를 구비하고,상기 부재는 상기 제 1 전극 또는 상기 제 1 전극을 탑재하는 탑재대이며,상기 냉각 헤드부의 상기 제 1 전극 또는 상기 탑재대에 대향하는 면은 중심영역 및 주변영역에 있어서 각각 제 1 재료와 제 2 재료로 형성되며,상기 제 2 재료의 열전도도는 상기 제 1 재료의 열전도도보다 큰 것특징으로 하는성막장치. [청구항 14] 제 9 항에 있어서,상기 냉각부에는 냉각 매체가 통과하는관로형성되어있는것을특징으로 하는성막장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
성막장치에서 제 1 전극의 오목부 형성에 따라, 처리 대상체의 중앙부에 대응하는 영역과 주변부에 대응하는 영역 중 단위면적당 접촉면적이 더 큰 영역은 어디인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    성막장치의 제 1 전극 오목부 형성에 따른 처리 대상체의 중앙부와 주변부 영역 중 단위면적당 접촉면적이 더 큰 영역을 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 2에서 제 1 전극의 오목부에 따른 단위면적당 접촉면적 관계를 설명한다.

    • 상기 처리 대상체와 상기 제 1 전극의 단위면적당 접촉면적은 상기 오목부에 따라, 상기 처리 대상체의 상기 중앙부에 대응하는 영역의 접촉면적보다 상기 처리 대상체의 상기 주변부에 대응하는 영역의 접촉면적이 큰 것
  3. 3근거 선택evidence_selection

    주변부의 접촉면적이 중앙부의 접촉면적보다 크다는 직접적인 구절을 선택한다.

    • 상기 처리 대상체의 상기 중앙부에 대응하는 영역의 접촉면적보다 상기 처리 대상체의 상기 주변부에 대응하는 영역의 접촉면적이 큰 것
  4. 4논리 통합logical_integration

    청구항 2의 명시적 비교를 통해 주변부 영역의 접촉면적이 중앙부 영역보다 크다는 사실을 도출한다.

    • 상기 처리 대상체의 상기 중앙부에 대응하는 영역의 접촉면적보다 상기 처리 대상체의 상기 주변부에 대응하는 영역의 접촉면적이 큰 것
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    따라서 단위면적당 접촉면적이 더 큰 영역은 주변부에 대응하는 영역이다.

    • 상기 주변부에 대응하는 영역의 접촉면적이 큰 것
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 대한 답변으로 주변부에 대응하는 영역을 제시한다.

    • 상기 주변부에 대응하는 영역의 접촉면적이 큰 것
최종 답변 (final_answer)
주변부에 대응하는 영역
핵심 해석 (core_interpretation)
제 1 전극에 오목부를 형성함으로써 처리 대상체의 중앙부보다 주변부 영역에서 단위면적당 접촉면적이 더 크게 형성되도록 설계된 성막장치에 관한 기술이다.