레이저 빔 프로파일을 성형하기 위한 광학 시스템 및 방법 document_id 1020087017328

[청구항 2] 제1항에 있어서,적어도 하나의 각도 선택 광학 소자는 단지 상기 적어도 하나의 제1 방향에서의상기각도분포클리핑하는 것인,광학 시스템. [청구항 3] 제1항에 있어서,적어도 하나의 각도 선택 광학 소자는 제2 방향에서의상기각도분포클리핑하는 것인,광학 시스템. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 제2 방향은 적어도 상기 제1 방향수직인 것인,광학 시스템. [청구항 5] 제1항에 있어서,적어도 하나의 각도 선택 광학 소자는 단지 상기 제1 방향에서의 상기 각도 분포를 클리핑하고, 제2 방향에서의 상기 각도 분포를 클리핑하기 위한 적어도 하나의 제2 각도 선택 소자더 포함하는광학 시스템. [청구항 6] 제1항에 있어서,적어도 하나의 각도 선택 광학 소자는 적어도 하나의 각도 선택 반사 소자포함하는 것인,광학 시스템. [청구항 7] 제6항에 있어서,적어도 하나의 각도 선택 반사 소자는 상기 적어도 하나의 각도 선택 반사 소자와 비교하여 증가된 광 밀도를 갖고, 상기 입사빔은 상기 각도 선택 반사 소자의 적어도 하나의표면에 부딪히는 것인,광학 시스템. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 입사빔이 전반사의 임계각인 각도에서 상기 적어도 하나의 표면에 부딪히도록 상기 적어도 하나의 각도 선택 반사 소자는상기입사빔에대해위치되는 것인,광학 시스템. [청구항 9] 제7항에 있어서,적어도 하나의 표면은 평면, 구형, 원통형, 비구면(asphere), 및 이들의 단면 중하나인 것인,광학 시스템. [청구항 10] 제7항에 있어서,적어도 하나의 표면은 높은 반사성의 코팅재피복되는 것인,광학 시스템. [청구항 11] 제6항에 있어서,적어도 하나의 각도 선택 반사 소자는 입사 표면을 갖고, 상기 적어도 하나의 각도 선택 반사 소자는 상기 입사 표면이 적어도 상기 입사빔에 수직위치되는 것인,광학 시스템. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 입사 표면은 반사 방지 코팅재피복되는 것인,광학 시스템. [청구항 13] 제6항에 있어서,적어도 하나의 각도 선택 반사 소자는 출사면을 갖고, 상기 적어도 하나의 각도 선택 반사 소자는 상기 출사면으로부터 나오는 출사빔이 적어도 상기 출사면에 수직위치되는 것인,광학 시스템. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 출사면은 반사 방지 코팅재피복되는 것인,광학 시스템. [청구항 15] 제6항에 있어서,적어도 하나의 각도 선택 반사 소자는 프리즘, 막대, 입방체, 사다리꼴, 및 다각형, 사다리꼴, 평행사변형 중 적어도 하나의 단면을 갖는 표면을 갖는 본체 중 적어도 하나포함하는 것인,광학 시스템. [청구항 16] 제1항에 있어서,상기 제1 방향에서의 상기 입사빔의 폭을 수백배만큼 초과하는 제2 방향에서의 폭을 갖는 상기 입사빔의 상기 제1 방향에서의 상기 각도 분포를 클리핑할수있는광학 시스템. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 제1 방향에서의 상기 폭것인,광학 시스템. [청구항 18] 제17항에 있어서,상기 제1 방향에서의 상기 폭것인,광학 시스템. [청구항 19] 제18항에 있어서,상기 제1 방향에서의 상기 폭것인,광학 시스템. [청구항 20] 제16항에 있어서,상기 제2 방향에서의 상기 폭인 것인,광학 시스템. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 제2 방향에서의 상기 폭인 것인,광학 시스템. [청구항 22] 제21항에 있어서,상기 제2 방향에서의 상기 폭인 것인,광학 시스템. [청구항 23] 제1항에 있어서,적어도 하나의 각도 선택 소자는 상기 각도 분포의 제1 측면 상에서 상기 각도 분포를 클리핑하는 제1 각도 선택 소자이고, 상기 제1 측면에 대향하는 제2 측면 상에서 상기 각도 분포를 클리핑하는 적어도 하나의 제2 각도 선택 광학 소자더 포함하는광학 시스템. [청구항 24] 제1항에 있어서,상기 입사빔과 상기 적어도 하나의 각도 선택 소자의 상대적 위치는 조절가능한 것인,광학 시스템. [청구항 25] 제1항에 있어서,적어도 3개의 각도 선택 광학 소자들을더 포함하는광학 시스템. [청구항 27] 제26항에 있어서,빔 스플리터를더 포함하는빔 성형 광학 유닛. [청구항 28] 제 27항에 있어서,상기 빔 스플리터는 고체 상태의 링 레이저의 출력 커플러동작하는 것인,빔 성형 광학 유닛. [청구항 29] 제26항에 있어서,상기 빔 성형 광학 유닛은 상기 입사빔의 각도 분포작용하는 것인,빔 성형 광학 유닛. [청구항 30] 제26항에 있어서,상기 입사빔은 폭을 정의하는 상기 제1 차원에서의 폭, 및 상기 제1 차원을 가로지르고 길이를 정의하는 제2 차원에서의 폭을 갖고, 상기 출사빔은 폭을 정의하는 제1 차원에서의 폭, 및 상기 제1 차원을 가로지르고 길이를 정의하는 제2 차원에서의 폭을 가지며, 상기 출사빔의 폭은 상기 입사빔의 폭의 적어도 20% 만큼 벗어나고, 상기 빔의 폭은반치전폭세기에의해정의되는 것인,빔 성형 광학 유닛. [청구항 31] 제30항에 있어서,다각형, 프리즘, 사각형과 같은 단면, 및 사다리꼴 모양 중 적어도 하나로 형성된 단면을 갖는 길이 l의 막대형 본체에 의해 형성되는 적어도 하나의 광학 소자포함하는빔 성형 광학 유닛. [청구항 32] 제31항에 있어서,적어도 하나의 광학 소자는 적어도 하나의 액츄에이터에 의해 상기 입사빔에 수직인 축에 대해 조절가능한 것인,빔 성형 광학 유닛. [청구항 33] 제27항에 있어서,상기 빔 스플리터는 상기 입사빔을 상기 출사빔 및 추가 빔분리시키는 것인,빔 성형 광학 유닛. [청구항 34] 제33항에 있어서,상기 추가 빔은 추가빔 덤프에의해흡수되는 것인,빔 성형 광학 유닛. [청구항 35] 제34항에 있어서,상기 빔 덤프는 수냉식빔 덤프인 것인,빔 성형 광학 유닛. [청구항 36] 제26항에 있어서,전반사 시퀀스에 의해 상기 출사빔의 상기 세기 프로파일형성하는 것인,빔 성형 광학 유닛. [청구항 37] 제26항에 있어서,상기 입사빔의 각도의 퍼짐을 초래하는 분산을 보정하기 위한 적어도 하나의 파장 감지 광학 소자더 포함하는빔 성형 광학 유닛. [청구항 38] 제37항에 있어서,상기 파장 감지 소자는 상기 제1 차원에 수직인 차원으로의 상기 입사빔의 각도 퍼짐에 기인하는 상기 출사빔의 각도 퍼짐보정하는 것인,빔 성형 광학 유닛. [청구항 45] 제44항에 있어서,상기 광학 시스템nan은비정질 실리콘막의지향성결정화위해사용되는 것인,광학 시스템.