샤워 플레이트 및 그 제조 방법, 그리고 그 샤워 플레이트를 이용한 플라즈마 처리 장치, 플라즈마 처리 방법 및, 전자 장치의 제조 방법 document_id 1020087027932

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 다공질 가스 유통체가 알루미나계 재료로 이루어지며, 유전 손실(dielectric loss)이 1×10-3 이하, 평균 결정 입자경이 10㎛ 이하, 기공률이 20∼75％의 범위, 평균 기공경이 10㎛ 이하, 최대 기공경이 75㎛ 이하, 굽힘 강도이상인샤워 플레이트. [청구항 3] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 세로 구멍의 가스 방출측에 가스방출공이 형성되어 있으며, 상기 다공질 가스 유통체가 상기 가스방출공의 가스 도입측배치되어 있는샤워 플레이트. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 가스방출공의 공경이 샤워 플레이트의 바로 아래에 형성되는 플라즈마의 시스(sheath) 두께의 2배이하인샤워 플레이트. [청구항 5] 제3항 또는 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 다공질 가스 유통체의 가스 도입측에, 상기 가스방출공보다도 공경이 큰가스통과공연속하여형성한샤워 플레이트. [청구항 6] 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,복수의 가스방출공이 뚫린 세라믹스 부재를 샤워 플레이트에 뚫은 세로 구멍장착하여 이루어지는샤워 플레이트. [청구항 8] 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,가스방출공이 샤워 플레이트에 뚫은 세로 구멍의 가스 방출측에 형성되어 있으며, 상기 세로 구멍의 가스 도입측의 모서리부에 모따기 가공행한샤워 플레이트. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 세로 구멍의 상기 가스 방출측은 가스 도입측보다도 좁고, 상기 부재는 상기 좁은 부분에 형성됨과 아울러 가스 도입측에도 연재하고 있는샤워 플레이트. [청구항 11] 제9항 또는 제10항에 있어서,상기 부재는 세라믹스의 압출성형품인샤워 플레이트. [청구항 12] 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 가스방출공에 접하도록 상기 세로 구멍의 가스 도입측에, 가스 유통 방향으로 연이어 통하는 기공을 갖는 다공질 가스 유통체배치한샤워 플레이트. [청구항 13] 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가스방출공의 공경이 샤워 플레이트의 바로 아래에 형성되는 플라즈마의 시스 두께의 2배이하인샤워 플레이트. [청구항 14] 제12항에 있어서,상기 다공질 가스 유통체의 기공의 공경이 샤워 플레이트의 바로 아래에 형성되는 플라즈마의 시스 두께이하인샤워 플레이트. [청구항 15] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 다공질 가스 유통체가, 상기 세로 구멍의 적어도 선단부에, 끼워맞춤또는소결결합함장착되어 있는샤워 플레이트. [청구항 16] 제15항에 있어서,다공질 가스 유통체의 상면및 하면이, 상기 플라즈마 처리 장치 내를 향하여, 모두 볼록 곡면 형상 또는 오목 곡면 형상만곡하고 있는샤워 플레이트. [청구항 17] 제15항에 있어서,다공질 가스 유통체의 상면 및 하면을 제외한 외주(outer circumference)가, 치밀질(high dense) 세라믹스층형성되어 있는샤워 플레이트. [청구항 18] 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,다공질 가스 유통체의 가스 도입측의 세로 구멍에, 가스유통공을 뚫은 세라믹스 부재 또는 상기 다공질 가스 유통체보다도 기공률이 큰 다른 다공질 가스 유통체장착한샤워 플레이트.