문맥 (context)
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부는 전기적으로 도통하고 있고,상기외측 링부와상기탑재대사이절연되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 3]
제 2 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부와 상기 탑재대의 사이에절연부재배치되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 4]
제 2 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부는,일체적형성되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 5]
제 4 항에 있어서,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면과 그것에 대향하는 상기 포커스링의 내주면과의 간격은, 상기 내측 링부의 상면과 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부의 하면과의 간격보다 넓은 것특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 6]
제 2 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부는, 그라운드에 대하여전기적절연되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 7]
제 6 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부와 그라운드 사이의 정전 용량을 가변으로구성한것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 8]
제 6 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부에가변직류전원을전기적접속한것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 9]
제 1 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부는전기적절연되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 10]
제 9 항에 있어서,상기 외측 링부는 상기 탑재대에전기적도통하고있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 11]
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 외측 링부의 상면은, 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주위에 배치된, 외측을 향하여 점차로 높아지는 경사면부와, 상기 경사면부의 외측에 연속하여 형성된수평면부갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 12]
제 1 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부를 구성하는 도전성 재료는, si, c, sic중하나인것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 14]
제 13 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부는 전기적으로 도통하고 있고, 상기 외측 링부 및 상기 내측 링부와 상기 탑재대 사이를 절연하기 위한절연부재구비하는것을특징으로 하는포커스링.
[청구항 15]
제 14 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부는일체적형성되어있는것을특징으로 하는포커스링.
[청구항 16]
제 15 항에 있어서,상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면에 대향하는 내주면에오목부형성되어있는것을특징으로 하는포커스링.
[청구항 17]
제 14 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부와 그라운드 사이의 정전 용량을 가변으로 하게 하기 위한정전용량가변수단구비하는것을특징으로 하는포커스링.
[청구항 18]
제 14 항에 있어서,상기 외측 링부 및 상기 내측 링부에 전기적으로 접속된가변직류전원구비하는것을특징으로 하는포커스링.
[청구항 19]
제 13 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부를 전기적으로 절연시키는절연부재구비하는것을특징으로 하는포커스링.
[청구항 20]
제 19 항에 있어서,상기 외측 링부는, 상기 탑재대에 전기적으로 도통하여설치되는것을특징으로 하는포커스링.
[청구항 21]
제 13 항에 있어서,상기 외측 링부의 상면은, 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주위에 배치된, 외측을 향하여 점차로 높아지는 경사면부와, 상기 경사면부의 외측에 연속하여 형성된수평면부갖는것을특징으로 하는포커스링.
[청구항 22]
제 13 항에 있어서,상기 외측 링부와 상기 내측 링부를 구성하는 도전성 재료는, si, c, sic중하나인것을특징으로 하는포커스링.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플라즈마 처리 장치에서 피처리 기판의 외주면과 포커스링의 내주면 사이의 간격은 내측 링부의 상면과 피처리 기판의 주연부 하면 사이의 간격과 비교하여 어떠한 관계를 갖는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation피처리 기판의 외주면과 포커스링 내주면 사이의 간격과 내측 링부 상면과 기판 주연부 하면 사이의 간격을 비교하여 그 관계를 파악해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 5에서 두 간격에 대한 비교 정보가 명시되어 있다.
- 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면과 그것에 대향하는 상기 포커스링의 내주면과의 간격은, 상기 내측 링부의 상면과 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부의 하면과의 간격보다 넓은 것
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3근거 선택
evidence_selection질문에서 요구하는 두 대상의 간격 관계를 직접적으로 설명하는 구절을 선택한다.
- 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면과 그것에 대향하는 상기 포커스링의 내주면과의 간격은, 상기 내측 링부의 상면과 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부의 하면과의 간격보다 넓은 것
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4논리 통합
logical_integration기판 외주면-포커스링 내주면 간격이 내측 링부 상면-기판 주연부 하면 간격보다 '넓다'는 논리적 관계를 확인한다.
- 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면과 그것에 대향하는 상기 포커스링의 내주면과의 간격은, 상기 내측 링부의 상면과 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부의 하면과의 간격보다 넓은 것
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대해 '더 넓다'는 결론을 도출한다.
- 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면과 그것에 대향하는 상기 포커스링의 내주면과의 간격은, 상기 내측 링부의 상면과 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부의 하면과의 간격보다 넓은 것
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6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
- 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면과 그것에 대향하는 상기 포커스링의 내주면과의 간격은, 상기 내측 링부의 상면과 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부의 하면과의 간격보다 넓은 것
최종 답변 (final_answer)
상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 외주면과 그것에 대향하는 상기 포커스링의 내주면과의 간격은, 상기 내측 링부의 상면과 상기 탑재대 상에 탑재된 피처리 기판의 주연부의 하면과의 간격보다 넓다.
핵심 해석 (core_interpretation)
플라즈마 처리 장치에서 포커스링의 내주면과 기판 외주면 사이의 간격을 내측 링부 상면과 기판 주연부 하면 사이의 간격보다 넓게 형성하여 구조적 특징을 정의한다.