가공데이터 · 특허 지식베이스

피처리물의 디척킹과 함께 반응 챔버 내부 및 정전 척의 드라이 클리닝을 실행하는 플라즈마 반응기의 피처리물 디척킹 장치 및 방법 document_id 1020090083252

출원번호
1020090083252
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 제어부는, 상기 피처리물의 식각 공정을 위해, 상기 소스 파워 제어 신호와 척킹 제어 신호를 출력하고, 상기 식각 공정 동안 상기 반응 챔버내에 주입되는 식각 가스의 유량과 상기 반응 챔버의 압력을 제어하고,상기 반응 챔버내에 상기 식각 가스가 주입되고, 상기 유도성 코일에 자기장이 형성됨에 따라, 상기 반응 챔버 내부에 식각 플라즈마가 발생하고,상기 척킹 제어 신호에 응답하여, 상기 척킹 전원 공급부가 상기 정전 척의 전극에, 상기 척킹 전원공급하는플라즈마 반응기의 피처리물 디척킹 장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 피처리물의 디척킹 시, 상기 제어부는 상기 소스 파워 제어 신호를 상기 rf 전원 공급부에 출력하고, 상기 디척킹 제어 신호를 척킹 전원 공급부에 출력한 후, 상기 상승 제어 신호를 상기 리프팅부에 출력하고,상기 rf 전원 공급부는, 상기 소스 파워 제어 신호에 응답하여 기준 전력값의 상기 rf 전원을 상기 유도성 코일공급하는플라즈마 반응기의 피처리물 디척킹 장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 제어부는 상기 기준 전력값과 디척킹 전력값을 저장하는 저장 공간을 포함하고, 상기 기준 전력값이 상기 디척킹 전력값과 동일하지 않을 때, 상기 상승 제어 신호를 상기 리프팅부에 출력하기 전에 파워 조절 신호를 상기 rf 전원 공급부에 더 출력하고,상기 rf 전원 공급부는 상기 파워 조절 신호에 응답하여, 상기 유도성 코일에 공급하는 상기 rf 전원의 전력값을 상기 디척킹 전력값변경하는플라즈마 반응기의 피처리물 디척킹 장치. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 리프팅부는 상기 하강 제어 신호에 응답하여, 상기 피처리물이 상기 정전 척의 상부면에 접촉할 때까지 상기 피처리물을 하강시키고, 상기 제어부의 제어에 따라, 상기 피처리물의 상승 및 하강 동작을 적어도 1회 실행한 후, 상기 제어부가 다시 출력한 상기 상승 제어 신호에 응답하여, 상기 피처리물상승시키는플라즈마 반응기의 피처리물 디척킹 장치. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 설정된 지연 시간은 t(0 003c# t ≤ 0.6초만족하는시간인플라즈마 반응기의 피처리물 디척킹 장치. [청구항 7] 제5항에 있어서,상기 리프팅부는, 3.125㎜/s이상 12.5㎜/s이하 범위의 속도로 상기 피처리물을 상승하강시키는플라즈마 반응기의 피처리물 디척킹 장치. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 리프팅부는,상기 정전 척를 관통하여 설치되고, 상기 피처리물의 상승 시, 상기 피처리물의 하부면을 일단부로 지지하는 복수의 리프트핀(pin);상기 정전 척의 하부에 설치되고, 상기 복수의 리프트핀의 타단부에 결합되어, 상기 복수의 리프트핀을 지지하는 리프트핀 지지부;상기 리프트핀 지지부에 결합된 피스톤(piston)을 구비하고, 외부로부터 주입되는 공기의 압력에 의해 상기 피스톤이 이동되어 상기 리프트핀 지지부를 상승시키는 실린더(cylinder); 및상기 상승 제어 신호에 응답하여, 상기 실린더에 공기를 주입하는 실린더 구동부를 포함하고,상기 실린더가 상기 리프트핀 지지부를 상승시킴에 따라, 상기 복수의 리프트핀상승되는플라즈마 반응기의 피처리물 디척킹 장치. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 제어부는, 상기 실린더의 일측 상부에 설치되어 상기 실린더 내부의 피스톤(piston)을 센싱하는 상승 센서의 센싱 정보에 기초하여, 상기 리프트핀의 상승이 완료되는 시점을 인식하고, 상기 리프트핀의 상승이 완료되고 설정된 지연 시간 이 후에, 소스 파워 오프 신호를 상기 rf 전원 공급부에 출력하고,상기 rf 전원 공급부는 상기 소스 파워 오프 신호에 응답하여 상기 유도성 코일에 상기 rf 전원의 공급을 정지하고,상기 설정된 지연 시간 동안, 상기 제전 및 클리닝 플라즈마가, 상기 정전 척 표면의 드라이 클리닝지속하는플라즈마 반응기의 피처리물 디척킹 장치. [청구항 10] 제1항에 있어서,상기 디척 가스는 아르곤(ar), 또는 산소(o2), 또는 아르곤(ar)과 산소(o2)의 혼합 가스포함하는플라즈마 반응기의 피처리물 디척킹 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
피처리물의 디척킹 과정에서 제어부가 기준 전력값과 디척킹 전력값이 서로 다름을 인식했을 때, 리프팅부에 상승 제어 신호를 출력하기 전 수행하는 동작은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    제어부가 기준 전력값과 디척킹 전력값의 불일치를 인식했을 때, 리프팅부에 상승 제어 신호를 출력하기 직전에 수행하는 동작을 찾는다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 4에서 기준 전력값과 디척킹 전력값이 동일하지 않을 때의 조건과 그에 따른 동작을 추출한다.

    • 상기 기준 전력값이 상기 디척킹 전력값과 동일하지 않을 때, 상기 상승 제어 신호를 상기 리프팅부에 출력하기 전에 파워 조절 신호를 상기 rf 전원 공급부에 더 출력하고
  3. 3근거 선택evidence_selection

    질문에서 요구하는 '상승 제어 신호 출력 전 수행하는 동작'에 해당하는 구절을 선택한다.

    • 상기 상승 제어 신호를 상기 리프팅부에 출력하기 전에 파워 조절 신호를 상기 rf 전원 공급부에 더 출력하고
  4. 4논리 통합logical_integration

    전력값의 차이가 발생하면, 리프팅부를 상승시키기 전에 RF 전원 공급부에 파워 조절 신호를 먼저 출력하여 전력값을 조정하는 절차임을 확인한다.

    • 상기 기준 전력값이 상기 디척킹 전력값과 동일하지 않을 때, 상기 상승 제어 신호를 상기 리프팅부에 출력하기 전에 파워 조절 신호를 상기 rf 전원 공급부에 더 출력하고
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에 대한 직접적인 답변으로 '파워 조절 신호를 상기 rf 전원 공급부에 더 출력하는 동작'을 도출한다.

    • 파워 조절 신호를 상기 rf 전원 공급부에 더 출력하고
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.

    • 파워 조절 신호를 상기 rf 전원 공급부에 더 출력하고
최종 답변 (final_answer)
파워 조절 신호를 상기 rf 전원 공급부에 더 출력한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
디척킹 과정에서 기준 전력과 실제 디척킹 전력의 차이가 발생할 경우, 리프팅 동작을 수행하기 전 RF 전원의 전력값을 조정하기 위해 파워 조절 신호를 출력하는 제어 절차를 포함한다.