플라즈마 처리 장치 document_id 1020090101621

[청구항 3] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,안테나 부재끼리의 간격은 조정이 가능하게구성되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 안테나 부재의 일단측 및 타단측은 안테나 부재의 배열 방향으로 이동 가능한이동부접속되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 5] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,각각 길이가 동일한 복수의 직선 형상의 안테나 부재는, 서로 인접하고, 또한 서로 병렬 접속하여 이루어지는 세그먼트를 형성하고, 그 세그먼트가복수배치되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 세그먼트는 짝수개 배치되고,상기 전원측 도전로 및 접지측 도전로는, 각 세그먼트의 사이에서 상기 고주파 경로의 물리적 길이가 동일하게 되도록, 서로 인접하는 세그먼트끼리를 결선(結線)하여 토너먼트(tournament)의 조합을 정하는 선도(線圖) 형상이면서계단형상배선되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 7] 제 5 항에 있어서,세그먼트에서도상기안테나 부재의배열간격동일한것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 8] 제 5 항에 있어서,상기 안테나는,복수의 안테나 부재가 서로 안테나 부재의 제 1 배열 간격으로 배열된 복수의 밀(密)한 부분 영역과,이들 밀한 부분 영역끼리의 사이에 마련되고, 복수의 안테나 부재가 서로 상기 제 1 배열 간격보다 큰 안테나 부재의 제 2 배열 간격으로 배열된 소(疎)한부분영역구비하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 제 1 배열 간격은 상기 세그먼트를 구성하는 안테나 부재의 간격이고,상기 제 2 배열 간격은 서로 인접하는세그먼트끼리간격인것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 10] 제 5 항에 있어서,상기 세그먼트끼리의 간격은 조정 가능하게구성되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 세그먼트의 일단 및 타단측은 상기 세그먼트의 배열 방향으로 이동 가능한이동부접속되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 12] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 처리 분위기를 구획하기 위해 상기 탑재대와 안테나 사이에 마련된 유전체창 부재를 더 구비하며,상기 유전체창 부재는 상기 탑재대와 대향하도록 마련된 복수의 판 형상의 유전성 부재와,상기 유전성 부재를 지지하기 위해, 상기 유전성 부재의 길이 방향을 따라, 상기 안테나 부재와 직교하도록 마련된 복수의 칸막이부를구비하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 칸막이부의 내부에는 처리 가스실이 형성됨과 아울러, 상기 칸막이부의 하면에는, 상기 처리 용기에 처리 가스를 공급하기 위해, 상기 처리 가스실과 연통하는가스공급구멍형성되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 14] 제 13 항에 있어서,상기 복수의 칸막이부는 각각 매달림 지지부에 의해 상기 처리 용기의 천장부로부터 매달려지도록 마련되고, 상기 매달림 지지부의 내부에는 상기 칸막이부의 처리 가스실과 연통하는처리가스의통로형성되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 15] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 전위 분포 조정용의 콘덴서는 상기 안테나 부재의 길이 방향 중앙 부위의 전위가 영(zero)으로 되도록 임피던스의 조정을 행하기 위한 것인 것특징으로 하는플라즈마 처리 장치.