문맥 (context)
[청구항 2]
제1항에 있어서,상기euv광은파장인것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
[청구항 3]
제1항에 있어서,상기 광원부는 euv광을 방출하는 광원; 상기 euv광의 광량을 조절하기 위한 셔터; 상기 셔터를 통과한 euv광의 간섭 및 빔의 크기 조절을 위한 핀홀; 상기 핀홀을 통과한 euv광 이외의 광을 선택적으로 제거하기 위한 지르코늄 필터; 및 상기 광원에서 방출되는 euv광을 소정 경로를 따라 반사하기 위한미러구비한것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
[청구항 4]
제3항에 있어서,상기 미러는구면미러또는평면미러인것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
[청구항 5]
제3항에 있어서,상기 미러는 mo-si다층 박막구조갖는것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
[청구항 6]
제1항에 있어서,상기euv광은 반사형 마스크에 법선에서 6° 기울어진 각도로 입사될 수구성하는것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
[청구항 7]
제1항에 있어서,상기 결함 검출부는 반사광을 수집하여 전기 신호로 변환하여 출력하는 반사도 측정기와 상기 전기 신호 정보를 통해 결함 영역을 검출하는검출기구비하는것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
[청구항 8]
제7항에 있어서,상기 반사도측정기포토다이오드인것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
[청구항 9]
제1항에 있어서,상기 결함 이미징부는 광원부로부터 나오는 euv광이 입사하기 위한 광원부재와, 반사광의 필드 스펙트럼을 수집하여 전기 신호로 변환하여 출력하는 이미징 장치, 및 상기 전기 신호 정보를 통해 결함 영역을 이미징화하는연산장치구비하는것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
[청구항 10]
제9항에 있어서,이미징 장치는 ccd(charge coupled device)인것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
[청구항 11]
제1항에 있어서,상기 결함 검출부와 결함이미징부는동일스테이지구동축설치하는것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
[청구항 12]
제1항에 있어서,추가로 상기 장치는 마스크 결함 특성을 분석하기 위한 타원계,또는질량분석기구비하는것을특징으로 하는극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치에서 광원부의 구성 요소들과 각각의 기능적 역할을 기술하시오.
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation광원부의 구성 요소와 각각의 기능적 역할을 추출하여 리스트 형식으로 기술해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 3에서 광원부의 구성 요소인 광원, 셔터, 핀홀, 지르코늄 필터, 미러를 확인하고 각각의 기능을 추출한다.
- 상기 광원부는 euv광을 방출하는 광원; 상기 euv광의 광량을 조절하기 위한 셔터; 상기 셔터를 통과한 euv광의 간섭 및 빔의 크기 조절을 위한 핀홀; 상기 핀홀을 통과한 euv광 이외의 광을 선택적으로 제거하기 위한 지르코늄 필터; 및 상기 광원에서 방출되는 euv광을 소정 경로를 따라 반사하기 위한미러
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3근거 선택
evidence_selection광원부의 구성과 기능이 명시된 청구항 3의 문구를 핵심 근거로 선택한다.
- 상기 광원부는 euv광을 방출하는 광원; 상기 euv광의 광량을 조절하기 위한 셔터; 상기 셔터를 통과한 euv광의 간섭 및 빔의 크기 조절을 위한 핀홀; 상기 핀홀을 통과한 euv광 이외의 광을 선택적으로 제거하기 위한 지르코늄 필터; 및 상기 광원에서 방출되는 euv광을 소정 경로를 따라 반사하기 위한미러
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4논리 통합
logical_integration추출된 각 구성 요소와 그에 대응하는 기능을 매칭하여 정리한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에서 요구한 구성 요소와 기능적 역할을 결합하여 최종 답변을 구성한다.
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6답변 생성
answer_generation리스트 형식으로 광원부의 구성 요소와 기능을 명확하게 작성한다.
최종 답변 (final_answer)
- 광원: EUV광을 방출함
- 셔터: EUV광의 광량을 조절함
- 핀홀: 셔터를 통과한 EUV광의 간섭 및 빔의 크기를 조절함
- 지르코늄 필터: 핀홀을 통과한 EUV광 이외의 광을 선택적으로 제거함
- 미러: 광원에서 방출되는 EUV광을 소정 경로를 따라 반사함
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 EUV광의 방출, 광량 조절, 빔 크기 조절, 불필요한 광 제거 및 경로 반사를 수행하는 광원부의 세부 구성을 통해 극자외선 노광 공정용 마스크의 결함을 검출하기 위한 광학계를 제공한다.