캐스케이드공급원과 캐스케이드공급원을 제어하는 방법 document_id 1020097004439

[청구항 1] 캐소드하우징과, 하나 이상의 플라즈마채널로 접촉되어 서로 절연되고 서로의 상단으로 적재된 다수의 캐스케이드플레이트 및, 상기 플라즈마채널에 연결된 유출개방부를 갖춘 아노드플레이트를 구비한 캐스케이드공급원에 있어서, 상기 플라즈마채널마다 하나의 캐소드를 구비하되, 상기 캐소드는 상기 플라즈마채널의 방향으로 상기 캐소드하우징에 대해서 조정가능한 전극을 구비하며, 상기 캐소드하우징은 비전도성 소재로 제작되고, 상기 캐소드하우징은 상기 전극과 플라즈마의 존재의 육안 검사가 가능하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 캐스케이드공급원 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 전극nan은표준용접전극있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 캐소드하우징은 상기 전극을 조정가능하게 부착하는 체결설비를 갖춘전극하우징연결된것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 5] 제3항에 있어서,상기 전극의 팁은 상기 캐소드하우징의 바닥면에 위치되고, 상기 체결설비를 갖춘 전극하우징은 상기 캐소드하우징의 상부에 위치되며, 상기 전극은 상기 캐소드하우징으로 뻗은전극채널관통하여뻗는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 전극채널의 직경은 상기 전극의 직경보다 큰 것특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 비전도성 소재는석영있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 캐소드하우징에적어도하나의센서구비되어있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 센서로 수신된 신호는 가스공급의 변화 또는 캐소드와 아노드 사이의 포텐셜(potential) 차의 변화로써 공정을 조정할 수제어하는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 11] 제9항에 있어서,상기 센서는 상기 캐소드하우징에 형성된 플라즈마의 화학분석을 목적으로 광학방출분광기법(optical emission spectroscopy)을 실시하는장치의일부있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 12] 제3항에 있어서,상기 체결설비는콜릿척유형있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 13] 제3항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트와 캐소드하우징은 제1부착수단으로 상호 유지되되, 전극하우징은 제2부착수단을 매개로 캐소드하우징에 연결되어, 상기 전극하우징이 캐스케이드플레이트와 캐소드하우징 사이에 상호연결을 파괴하지 않고서 캐스케이드플레이트를 갖춘 캐소드하우징을 제거할 수있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 14] 제5항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트와 캐소드하우징은 아노드플레이트에서 상기 캐스케이드플레이트에서 떨어져 있는 캐소드하우징의 측면으로 뻗는 나사산단부-너트 조립체 또는 볼트-너트 조립체로 상호연결되고, 상기 나사산단부 또는 볼트는 상기 캐소드하우징에 오목부에 도달하는 세라믹부쉬(ceramic bush)로절열되는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트에서 떨어져 있는 캐소드하우징의 측면에 오목부가 구비되어 나사산단부-너트 조립체 또는 볼트-너트 조립체의 너트를 수용하고, 상기 너트와 나사산단부 또는 볼트의 단부가 상기 전극하우징에서 이격되어있는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 16] 제1항에 있어서,상기 플라즈마채널은 기판에 손상을 끼치지 않는 소재로 제작된 일부에 의해완전히접촉되는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트와 유출개방부를 함유한 노즐을 갖춘 아노드플레이트는 기판에 손상을 끼치지 않는소재제작되는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 18] 제16항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트와 아노드플레이트는 구리로 제작되고, 이 플레이트에 플라즈마채널의 위치에서 삽입구가 삽입되고 상기 기판에 손상을 끼치지 않는소재제작된것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 19] 제1항에 있어서,전도성 캐스케이드플레이트 사이로 절연플레이트가 수용되며, 이 절연플레이트의 외경은 캐스케이드플레이트의 외경보다 큰 것특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 20] 제1항에 있어서,하나 이상의 전극과 이에 대응하는 갯수만큼의플라즈마채널구비한것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 플라즈마채널의 위치는 처리될 기판의 형상과 일치하여, 기판에 대한 필요한 처리작업이전체표면상에서일어나는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 22] 제1항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트의 적어도 하나에 가스공급채널이 구비되어 상기적어도하나의플라즈마채널안으로뻗는것을특징으로 하는캐스케이드공급원. [청구항 23] 제1항에 있어서,상기 캐스케이드플레이트와 중간절연플레이트 사이에서의 연결은납땜연결로이루어진것을특징으로 하는캐스케이드공급원.