용량-결합형 ＲＦ 플라즈마 반응기에서 전극 갭을 조정하는 장치 document_id 1020097017053

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 기판 지지체는 기판을 지지하는 상면을 갖는 하부 전극 어셈블리를 포함하고;플라즈마 프로세싱 챔버는 상기 기판 지지체의 상면으로부터 이격되어 상기 상면에 대향하는 하면을 가져 그 사이에 갭을 형성하는 상부 전극 어셈블리를 더 포함하며;상기 하부 전극 어셈블리는 무선 주파수 (rf) 전원연결되는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 하부 전극 어셈블리는 플라즈마 프로세싱 중에상기기판을적소유지하는척을포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 암 유닛은 내부 캐비티를 포함하고;플라즈마 프로세싱 챔버는,상기 내부 캐비티에 위치하고, rf 전원에 연결되는 일단을 가지며, 상기 rf 전원으로부터 rf 전력을 송전하도록 동작하는 rf 튜브; 및상기 rf 튜브의 타단에 연결되고, 상기 rf 전력을 수집하고 상기 rf 전력을 상기 기판 지지체에 전송하도록 동작하는 rf 도전체더 포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기rf 전원은, 상기 rf 전원이 상기 작동 메커니즘에 의해 상기 캔틸레버 어셈블리와 함께 이동하도록, 상기 암 유닛의 상기 외부 부분 상설치되는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 6] 제 4 항에 있어서,상기 암 유닛은 상기 rf 튜브에 전기적으로 연결되고;상기 캔틸레버 어셈블리는 상기 기판 지지체로부터 상기 암 유닛을 전기적으로 절연시키는 절연체 및 측벽에 전기적으로 접속되고 상기 암 유닛 상에 설치된 도전 링더 포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 도전 링 및 상기 측벽에 접속된 적어도 하나의 가요성 도전체더 포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 8] 제 7 항에 있어서,상기 가요성 도전체는 becu 로구성되는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 암 유닛은 단부가 개방된 내부 캐비티를 포함하고, 상기 기판 지지체에 연결되고 상기 단부가 개방된 내부 캐비티를 관통하는 적어도 하나의 시설 라인더 포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 진공 격리 부재는 상기 벽 및 상기 암 유닛의 상기 외부 부분에 접속된 2 개의 벨로스를 포함하고, 상기 캔틸레버 어셈블리가 상기 작동 메커니즘에 의해 이동하는 경우에 상기 벨로스 중 하나는 신장되며 다른 하나수축되는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 벨로스는 금속구성되는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 12] 제 1 항에 있어서,상기 작동 메커니즘은,상기 암 유닛에 회전가능하게 고정되어, 회전하는 경우에 상기 암 유닛을 이동시키도록 동작하는 볼 스크루; 및상기 볼 스크루를 회전시키는 모터포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 13] 제 2 항에 있어서,상기 상부 전극 어셈블리는 프로세스 가스를 상기 갭에 공급하는 적어도 하나의 배플을 포함하고;상기 rf 전원은 rf 전력을 상기 하부 전극 어셈블리에 공급하여 상기 프로세스 가스를 여기시킴으로써 플라즈마를 형성하도록 동작가능한,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 14] 제 2 항에 있어서,상기 갭을 에워쌈으로써 상기 갭에 상기 플라즈마를 한정하도록 구성된 적어도 하나의 컨파인먼트 링을 포함하는 컨파인먼트 링 어셈블리더 포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 15] 제 14 항에 있어서,상기 상면에 평행한 평면에 배치되는 cam 링으로서, 상기 cam 링의 제 1 표면 상에 형성된 복수의 cam 영역을 포함하는, 상기 cam 링;상기 cam 링의 상기 제 1 표면에 롤링 접촉하는 복수의 cam 종동부; 및상기 상면에 실질적으로 직각인 방향으로 배향되고, 일단에서 상기 cam 종동부 중 하나에 연결되고 타단에서 상기 컨파인먼트 링 어셈블리에 각각 연결되는 복수의 플런저를 더 포함하며;상기 cam 링이 회전함에 따라, 상기 플런저가 상기 상면에 실질적으로 수직인 방향으로 이동함으로써, 상기 내부 영역의 플라즈마 압력을 제어하도록 상기 컨파인먼트 링 사이의 간격변화시키는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 16] 제 15 항에 있어서,상기cam 링에 연결되고 상기 cam 링을 회전시키도록 동작가능한 모터더 포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 17] 제 15 항에 있어서,상기cam 영역의 각각은 적어도 하나의 경사 표면포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 20] 제 19 항에 있어서,상기 내부 영역 밖의 상기 벽 및 상기 캔틸레버 어셈블리에 접속된 2 개의 벨로스를 더 포함하며,상기 벨로스는 상기 벽 및 상기 캔틸레버 어셈블리에 의해 부분적으로 둘러싸인 공간을 에워싸고 상기 내부 영역과 유체 연통하며, 상기 캔틸레버 어셈블리에 대한 대기 부하가 완화되도록 상기 공간에 진공 격리제공하는,플라즈마 프로세싱 챔버. [청구항 21] 제 19 항에 있어서,상기 개구는 측벽에 있고,상기 캔틸레버 어셈블리는 상기 개구로부터 상기 내부 영역에서 수평하게 연장되는 암 유닛포함하는,플라즈마 프로세싱 챔버. [청구항 22] 제 19 항에 있어서,상기 기판 지지체는 하부 전극 어셈블리를 포함하고;상기 플라즈마 프로세싱 챔버는,상기 기판 지지체 표면으로부터 갭 만큼 이격되어 상기 상면에 대향하는 하면을 갖는 상부 전극 어셈블리; 및상기 갭을 에워쌈으로써 상기 갭에 상기 플라즈마를 한정하도록 구성된 적어도 하나의 컨파인먼트 링을 포함하는 컨파인먼트 링 어셈블리더 포함하는,플라즈마 프로세싱 챔버. [청구항 24] 제 23 항에 있어서,상기 내부 영역 밖의 상기 벽 및 상기 캔틸레버 어셈블리에 접속되도록 구성된 2 개의 벨로스를 더 포함하며,상기 벨로스는 상기 벽 및 상기 캔틸레버 어셈블리에 의해 부분적으로 둘러싸인 공간을 에워싸고 상기 내부 영역과 유체 연통하며, 상기 캔틸레버 어셈블리에 대한 대기 부하가 완화되도록 상기 공간에 진공 격리제공하는,전극간 갭 조정 장치.