갭이 제어되는 베벨 에처 document_id 1020097017727

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 메커니즘은 상기 상부 전극 어셈블리에 고정된 평면판 및 복수의 레벨링 스크류들을 포함하고,각 레벨링 스크류는 회전될 때 상기 평면판으로 하여금 상기 하부 전극 어셈블리에 대하여 틸팅되게 하여 상기 저면이 상기 최상면에 대하여 틸팅되게 하는,베벨 에처. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 메커니즘은 상기 평면판 바로 밑에 배치되고 상기 평면판에 고정된 어댑터판을 포함하고, 상기 어댑터판은 상기 상부 전극 어셈블리가 상기 하부 전극 어셈블리에 대하여 전이되도록 상기 최상면에 평행한 평면 상에서 슬라이딩되도록 구성되고; 또는(b) 갭 드라이브 어셈블리가 상기 평면판에 고정되고, 상기 최상면에 대해 수직한 방향으로 상기 평면판을 이동시켜상기최상면과상기저면사이의갭을상기방향조정하도록동작되는,베벨 에처. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 갭 드라이브 어셈블리는,상기 평면판에 고정된 복수의 슬라이드 탑재 블록들로서, 각 슬라이드 탑재 블록은 상기 방향에 대하여 기울어진 저면을 갖는, 상기 복수의 슬라이드 탑재 블록들;최상면들을 갖는 복수의 블록 드라이빙 판들을 포함하는 슬라이딩 컴포넌트로서, 상기 블록 드라이빙 판들의 최상면들을 따라 상기 저면들이 슬라이딩되어 상기 슬라이드 탑재 블록들로 하여금 상기 방향으로 이동하게 할 수 있는, 상기 슬라이딩 컴포넌트;출력 샤프트를 갖는 모터;상기 출력 샤프트에 커플링된 나사 로드 (threaded rod); 및상기 나사 로드 및 상기 슬라이딩 컴포넌트에 커플링되고, 상기 출력 샤프트의 회전 운동을 상기 슬라이딩 컴포넌트의 슬라이딩 운동으로 변환하여 상기 방향을 따른 상기 평면판의 운동을 실행하도록 동작하는 액츄에이터포함하는,베벨 에처. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 메커니즘은 그것을 통해서 상기 상부 전극 어셈블리까지 연장되는 적어도 하나의 프로세스 가스 통로포함하는,베벨 에처. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 상부 전극 어셈블리는,상기 메커니즘에 고정된 상부 금속 컴포넌트; 및상기 상부 금속 컴포넌트 바로 밑에 배치되고 상기 상부 금속 컴포넌트에 고정된 상부 유전체판포함하는,베벨 에처. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 상부 금속 컴포넌트 및 상기 상부 유전체판은 상기 프로세스 가스 통로에 커플링되어 가스 유출구를 형성하는 적어도 하나의 홀을 포함하고, 프로세스 가스는 상기 가스 유출구를 통해 상기 갭으로 도입되고; 또는(b) 상기 상부 유전체판은 상기 갭의 수직 높이를 측정하기 위한 적어도 하나의 갭 센서포함하는,베벨 에처. [청구항 8] 제 7 항에 있어서,상기 갭 센서는 유도성 센서, 레이저 센서, 용량성 센서, 음향 센서 및 lvdt (linear variable differential transformer) 센서로 이루어지는그룹선택된센서인,베벨 에처. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 하부 전극 어셈블리는 상기 최상면을 둘러싸고 바로 밑에 위치된 하부 전극 링을 포함하고, 상기 상부 전극 어셈블리는 상기 저면을 둘러싸는 상부 전극 링포함하는,베벨 에처. [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 상부 전극 링 및 상기 하부 전극 링 중 하나의 전극 링은 접지되고 다른 전극 링은 무선 주파수 (rf) 전력을 공급하는 rf 전원에 커플링되어 동작 동안 상기 플라즈마를 생성하고;(b) 상기 베벨 에지를 따라 중공 (hollow) 캐소드 링이 배치되고, 상기 중공 캐소드 링 및 상기 상부 전극 링과 상기 하부 전극 링 중 하나의 링은 무선 주파수 (rf) 전력을 공급하는 rf 전원에 커플링되어 상기 플라즈마를 생성하고, 나머지 링들은 접지되며; 또는,(c) 유도 코일이 무선 주파수 (rf) 전원에 커플링되고 상기 베벨 에지를 동심으로 둘러싸며 상기 rf 전원으로부터 rf 전력의 공급시 상기 플라즈마를 생성하도록 동작되고, 상기 상부 전극 링 및 상기 하부 전극 링접지되는,베벨 에처. [청구항 11] 제 1 항에 있어서,상기 하부 전극 어셈블리는,척 바디; 및상기 척 바디의 상부 에지를 둘러싸서 상기 척 바디의 최상면과 유전체 링에 의해 둘러싸인 진공 영역을 형성하는 상기 유전체 링으로서, 상기 유전체 링은 상기 반도체 기판의 저면이 상기 진공 영역을 둘러싸도록 상기 반도체 기판을 지지하도록 구성되는, 상기 유전체 링; 을 포함하고,상기 진공 영역은 동작 동안 진공 펌프에 의해 배기되어, 상기 반도체 기판을 상기 유전체 링 상의 제자리유지하는,베벨 에처. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 척 바디의 최상부는 유전성 재료로 형성되고; 또는(b) 상부 전극 링 및 하부 전극 링은 접지되고,상기 척 바디는, 무선 주파수 (rf) 전력을 공급하는 rf 전원에 커플링되어 동작 동안 상기 플라즈마를 생성하는 도전성재료인,베벨 에처. [청구항 13] 제 1 항에 있어서,상기 하부 전극 어셈블리는 동작 동안 상기 반도체 기판을 제자리에 클램핑하기 위한 정전 척 및 상기 정전 척이 배치되는 지지부를 포함하고, 또는(b) 상기 베벨 에처는, 상기 하부 전극 어셈블리 및 상기 상부 전극 어셈블리를 부분적으로 둘러싸는 챔버 벽, 및 상기 챔버 벽 및 상기 메커니즘에 고정되고 상기 메커니즘이 상기 챔버 벽에 대하여 수직으로 이동하는 것을 허용하면서 상기 챔버 벽과 상기 메커니즘 사이에 진공 밀봉 (vacuum seal) 을 형성하도록 동작하는 금속 벨로우즈더 포함하는,베벨 에처. [청구항 14] 제 2 항에 있어서,상기 메커니즘은 상기 상부 전극 어셈블리에 고정된 평면판 및 상기 평면판 바로 밑에 배치되고 상기 평면판에 고정된 어댑터판을 포함하고,상기 어댑터판은 상기 최상면에 평행한 평면 상에서 슬라이딩되도록 구성되어 상기 상부 전극 어셈블리가 상기 하부 전극 어셈블리에 대하여 수평전이되는,베벨 에처. [청구항 15] 제 14 항에 있어서,상기 평면판에 고정되고, 상기 최상면에 대해 수직한 수직 방향으로 상기 평면판을 이동시켜 상기 최상면과 상기 저면 사이의 갭을 상기 수직 방향으로 조정하도록 동작하는 갭 드라이브 어셈블리더 포함하는,베벨 에처. [청구항 16] 제 15 항에 있어서,상기 갭 드라이브 어셈블리는,상기 평면판에 고정된 복수의 슬라이드 탑재 블록들로서, 각 슬라이드 탑재 블록은 상기 수직 방향에 대하여 각을 이루는 저면을 갖는, 상기 복수의 슬라이드 탑재 블록들;최상면들을 갖는 복수의 블록 드라이빙 판들을 포함하는 슬라이딩 컴포넌트로서, 상기 블록 드라이빙 판들의 최상면들을 따라 상기 저면들이 슬라이딩되어 상기 슬라이드 탑재 블록들로 하여금 상기 수직 방향으로 이동하게 할 수 있는, 상기 슬라이딩 컴포넌트;출력 샤프트를 갖는 모터;상기 출력 샤프트에 커플링된 나사 로드; 및상기 나사 로드 및 상기 슬라이딩 컴포넌트에 커플링되고, 상기 출력 샤프트의 회전 운동을 상기 슬라이딩 컴포넌트의 슬라이딩 운동으로 변환하여 상기 수직 방향을 따른 상기 평면판의 운동을 실행하도록 동작하는 액츄에이터포함하는,베벨 에처.