문맥 (context)
[청구항 1]
시료를 수용할 수 있는 진공처리실을 구성하는 진공용기와, 상기 진공처리실에 처리가스를 도입하는 가스 도입구와, 상기 진공처리실 내에 유도전장을 형성하는 고주파 유도 안테나와, 상기 진공처리실 내에 자장을 형성하는 자장 코일과, 상기 고주파 유도 안테나에 고주파 전류를 공급하는 플라즈마생성용 고주파 전원과, 상기 자장 코일에 전력을 공급하는 전원을 구비하고, 상기 고주파 유도 안테나에 상기 고주파 전원으로부터 고주파 전류를 공급하고, 진공처리실 내에 공급되는 가스를 플라즈마화하여 시료를 플라즈마처리하는 플라즈마처리장치에 있어서,
상기 진공처리실은, 상기 진공용기의 상부에 기밀하게 고정되는 유전체로 이루어지는 진공처리실 덮개와, 상기 고주파 유도 안테나와 상기 진공처리실 사이에 배치된 패러데이 시일드를 구비하고,
상기 고주파 유도 안테나는, n개(n ≥ 2의 정수)의 고주파 유도 안테나 요소로 분할하고, 당해 분할된 각각의 고주파 유도 안테나 요소를 종렬로 나열하여, 종렬로 배치된 각 고주파 유도 안테나 요소의 세트를 복수 세트 구비하고, 각각의 세트의 각 고주파 유도 안테나의 고주파 유도 안테나 요소에 차례로 λ(고주파 전원의 파장)/n씩 지연시킨 고주파 전류를 일정방향으로 순서대로 지연시켜 흘리고, 상기 자장 코일에 전력을 공급하여 형성한 자장(b)의 자력선방향에 대하여 우방향으로 회전하는 회전유도전장(e)을 상기 고주파 전류에 의해 형성하고, 상기 회전유도전장(e)의 회전 주파수와 상기 자장(b)에 의한 전자 사이클로트론 주파수를 일치시키도록 구성함과 함께, 상기 유도전장(e)과 상기 자장(b)의 사이에 e × b ≠ 0의 관계가 임의의 곳에서 만족되도록, 복수 세트(세트수 : m ≥ 1의 자연수)의 고주파 유도 안테나와 자장을 구성하여 플라즈마를 발생시키고, 이 플라즈마에 의해 시료를 플라즈마처리하도록 구성한 것을 특징으로 하는 플라즈마처리장치
[청구항 2]
제 1항에 있어서,상기 패러데이 시일드는, 상기 진공처리실 덮개의 전체를 덮는구조인것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 3]
제 1항에 있어서,상기 시료를 탑재하는 전극과, 상기 전극에 고주파 전력을 인가하는 바이어스용 고주파 전원과, 상기 패러데이 시일드에 고주파 전력을 인가하는 패러데이 시일드용 고주파 전원과, 상기 바이어스용 고주파 전원과 상기 패러데이 시일드용 고주파 전원에 고주파를 공급하는 발신기와, 상기 바이어스용 고주파 전원과 상기 패러데이 시일드용 고주파 전원의 위상차를 제어하는위상제어기가지는것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 4]
제 3항에 있어서,상기 바이어스용 고주파 전원의 주파수는, 상기 플라즈마생성용 고주파 전원의 주파수보다 낮은 것특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 5]
제 3항에 있어서,상기 패러데이 시일드는 복수개의 필터를 거쳐 접지되어 있고, 상기 필터는 하이패스 필터 또는, 상기 플라즈마생성용 고주파에 대하여 임피던스를 제로라고 간주할 수 있을 만큼노치 필터인것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 6]
제 1항에 있어서,상기 패러데이 시일드는, 상기 고주파 유도 안테나의 가까운 쪽에 배치된 제 1 패러데이 시일드와, 상기 진공처리실 덮개가 가까운 측에 배치된 제 2 패러데이 시일드로 이루어지는구조가지는것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 7]
제 6항에 있어서,상기 제 1 패러데이 시일드는,상기고주파유도안테나주변배치되어있는것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 8]
제 6항에 있어서,상기 제 2 패러데이 시일드는, 상기 진공처리실 덮개의 전체를 덮는구조인것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 9]
제 6항에 있어서,상기 시료를 탑재하는 전극과, 상기 전극에 고주파 전력을 인가하는 바이어스용 고주파 전원과, 상기 제 2 패러데이 시일드에 고주파 전력을 인가하는 패러데이 시일드용 고주파 전원과, 상기 바이어스용 고주파 전원과 상기 패러데이 시일드용 고주파 전원에 고주파를 발신하는 발신기와, 상기 바이어스용 고주파 전원과 상기 패러데이 시일드용 고주파 전원의 위상차를 제어하는위상제어기가지는것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 10]
제 9항에 있어서,상기 바이어스용 고주파 전원의 주파수는, 상기 플라즈마생성용 고주파 전원의 주파수보다 낮은 것특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 11]
제 9항에 있어서,상기 제 1 패러데이 시일드는, 슬릿이 들어간 링 형상의 도전체임과 함께, 전체 주위에 걸쳐 접지되어 있고, 상기 제 1 패러데이 시일드와 접지전위 사이의 임피던스가, 상기 플라즈마생성용 고주파 전원의 주파수에서 보아 제로라고 간주할 수 있을 만큼임피던스인것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플라즈마처리장치에서 회전유도전장(e)의 회전 주파수와 자장(b)에 의한 전자 사이클로트론 주파수는 어떠한 관계를 갖도록 구성되어 있는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation회전유도전장(e)의 회전 주파수와 자장(b)에 의한 전자 사이클로트론 주파수 사이의 관계를 파악해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 1에서 회전유도전장(e)과 전자 사이클로트론 주파수에 관한 기술적 구성을 추출한다.
- 상기 회전유도전장(e)의 회전 주파수와 상기 자장(b)에 의한 전자 사이클로트론 주파수를 일치시키도록 구성함
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3근거 선택
evidence_selection두 주파수가 일치하도록 구성되어 있다는 직접적인 문구를 선택한다.
- 상기 회전유도전장(e)의 회전 주파수와 상기 자장(b)에 의한 전자 사이클로트론 주파수를 일치시키도록 구성함
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4논리 통합
logical_integration추출된 정보를 바탕으로 두 주파수의 관계가 '일치'함에 있음을 논리적으로 연결한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 답변으로 두 주파수가 일치하도록 구성되어 있다는 결론을 도출한다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 답변 형식을 사용하여 최종 답변을 생성한다.
- 상기 회전유도전장(e)의 회전 주파수와 상기 자장(b)에 의한 전자 사이클로트론 주파수를 일치시키도록 구성함
최종 답변 (final_answer)
상기 회전유도전장(e)의 회전 주파수와 상기 자장(b)에 의한 전자 사이클로트론 주파수를 일치시키도록 구성함
핵심 해석 (core_interpretation)
플라즈마 발생 효율을 높이기 위해 회전유도전장의 회전 주파수를 자장에 의한 전자 사이클로트론 주파수와 일치시키는 공명 조건을 형성함.