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와이어 본딩 장치 document_id 1020100029502

출원번호
1020100029502
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 가스 공급 튜브는상기 수직홀을 향해 형성된 복수개의 수평홀을 통해 상기 수직홀에 가스공급하는와이어 본딩 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 가스 공급 튜브의 수평홀은상기 수직홀에 수직한 방향으로 형성되어 연결된 제 1 홀; 및상기 제 1 홀로부터 분리되고, 상기 케필러리 헤드의 수직홀에 수직한 방향으로 형성되어 연결된 적어도 하나의 제 2 홀포함하는와이어 본딩 장치. [청구항 4] 제 2 항에 있어서,상기 가스 공급 튜브의 수평홀은상기 수직홀과 연결된 부분을 제외한 나머지 부분밀봉된와이어 본딩 장치. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 가스 공급 튜브는상기 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성된 수평홀을 통해 상기 수직홀에 가스공급하는와이어 본딩 장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 가스 공급 튜브의 수평홀은상기 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성된 제 1 홀; 및상기 제 1 홀의 하면을 관통하여 형성되어 상기 수직홀에 가스를 공급하는 복수개의 제 2 홀포함하는와이어 본딩 장치. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 가스 공급 튜브의 제 2 홀은상기 제 1 홀의 하면을 따라 동일한간격이격되어형성된와이어 본딩 장치. [청구항 8] 제 6 항에 있어서,상기 가스 공급 튜브의 제 2 홀은상기 제 1 홀의 하면으로부터 경사면형성된와이어 본딩 장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 경사면은상기 제 2 홀의 하부가 상기 수직홀의 하부형성된와이어 본딩 장치. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 가스 공급 튜브는일측으로부터 가스를 공급받고, 타측에 상기 수직홀이 형성된 제 1 튜브; 및상기 제 1 튜브의 타측 상부에 결합된 제 2 튜브를 포함하고,상기 제 2 튜브는 내부에 상기 수직홀에 대응되는 위치에 형성된 제 1 홀과 상기 제 1 홀의 주변을 따라 형성되어 상기 가스를 분산시키는 제 2 홀포함하는와이어 본딩 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 제 2 튜브의 제 2 홀은상기 제 2 튜브의 하면형성된와이어 본딩 장치. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 제 2 튜브의 제 2 홀은 상기 제 1 홀을 형성하는외벽의둘레따라형성된와이어 본딩 장치. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 제 1 튜브의 수직홀과 상기 제 2 튜브의 제 2 수직홀의 사이에는 공간형성된와이어 본딩 장치. [청구항 14] 제 11 항에 있어서,상기 제 1 튜브는 상기 타측 단부에 단차를 구비하고, 상기 제 2 튜브는 상기 단차결합되는와이어 본딩 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
가스 공급 튜브의 수평홀이 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성된 경우, 상기 수평홀은 어떠한 구조의 제 1 홀 및 제 2 홀을 포함하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    가스 공급 튜브의 수평홀이 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성된 경우, 해당 수평홀을 구성하는 제 1 홀과 제 2 홀의 구조를 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 5에서 수평홀이 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성됨을 확인하고, 청구항 6에서 그 구성을 추출한다.

    • 상기 가스 공급 튜브는상기 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성된 수평홀을 통해 상기 수직홀에 가스공급하는와이어 본딩 장치
    • 상기 가스 공급 튜브의 수평홀은상기 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성된 제 1 홀
    • 상기 제 1 홀의 하면을 관통하여 형성되어 상기 수직홀에 가스를 공급하는 복수개의 제 2 홀포함하는와이어 본딩 장치
  3. 3근거 선택evidence_selection

    제 1 홀은 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성된 구조이며, 제 2 홀은 제 1 홀의 하면을 관통하여 형성되어 가스를 공급하는 복수개의 구조임을 선택한다.

    • 상기 가스 공급 튜브의 수평홀은상기 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성된 제 1 홀
    • 상기 제 1 홀의 하면을 관통하여 형성되어 상기 수직홀에 가스를 공급하는 복수개의 제 2 홀포함하는와이어 본딩 장치
  4. 4논리 통합logical_integration

    청구항 6의 내용을 종합하면, 수평홀은 제 1 홀과 제 2 홀로 구성되며 각각의 구체적인 형성 방식이 정의되어 있다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    제 1 홀은 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성되고, 제 2 홀은 제 1 홀의 하면을 관통하여 형성되어 수직홀에 가스를 공급하는 복수개의 홀이다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 대한 답변으로 제 1 홀과 제 2 홀의 구조를 리스트 형식으로 작성한다.

최종 답변 (final_answer)
제 1 홀은 상기 케필러리 헤드의 주변을 따라 형성된 구조이고, 제 2 홀은 상기 제 1 홀의 하면을 관통하여 형성되어 상기 수직홀에 가스를 공급하는 복수개의 구조이다.
핵심 해석 (core_interpretation)
가스 공급 튜브의 수평홀을 케필러리 헤드 주변의 제 1 홀과 그 하면을 관통하는 복수의 제 2 홀로 구성하여 수직홀에 가스를 공급하는 기술적 구조를 나타낸다.