문맥 (context)
[청구항 3]
제 1항 또는 2항에 있어서,흡수막은 단층 또는 다층으로 이루어지는지는것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 4]
제 1항 또는 2항에 있어서,흡수막은 단계적인 스퍼터링 공정 내지 연속적인 스퍼터링 공정을 통해제조되는것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 5]
제 1항 또는 2항에 있어서,흡수막을 구성하는 원소 중 하나 이상의 조성비가 박막의 내부 또는 계면에서 변하는 연속막 구간이 적어도 한구간이상인것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 6]
제 1항 또는 2항에 있어서,흡수막을 구성하는 원소 중 하나 이상의 조성비가 박막의 내부 또는 계면에서 변하는 연속막 구간이 적어도 한 구간 이상 포함하고, 이 때, 조성의 변화가 1 at%내지이내인것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 7]
제 1항 또는 2항에 있어서,흡수막을 구성하는 원소 중 하나 이상의 원소가 박막의 내부 또는 계면에서 조성비가 변하는 연속막 구간이 적어도 한 부분 이상 포함되고 원소성분의 변화율이 1 at% 내지 50 at% 이내로 변하는 구간이 50 å이상의두께가지는것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 8]
제 1항 또는 2항에 있어서,흡수막은 원소의 조성비가 변하는 연속막 구간을 하나이상 포함하고, 흡수막의 깊이 방향으로 식각률의 변화가 적어도 하나 이상의 구간에서 표면 대비 느린 것특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 9]
제 1항 또는 2항에 있어서,흡수막의 원소 조성비 중 질소의 조성비가 필수적으로 연속적인 변화를 가지며, 그 변화 두께가 1 nm 이상인구간적어도포함되는것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 10]
제 1항 또는 2항에 있어서,흡수막은 넓이 방향으로조성비균일도이하인것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 11]
제 1항 또는 2항에 있어서,흡수막에서 박막의 깊이 방향으로의 밀도 변화가 0.2 g/㎤내지인것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 12]
제 1항 또는 2항에 있어서,수막이 연속막으로 형성되고, 레지스트막과 인접한 부분의 흡수막 표면에서 깊이 방향으로질소의함유량지는것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 13]
제 1항 또는 2항에 있어서,흡수막의 표면5 nm의 두께 범위에서의 식각률이 흡수막의 바닥 5 nm의 두께 대비 식각률이 1.2 배 이상 높은 것특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 14]
제 1항 또는 2항에 있어서,수막이 연속막으로 형성되고 이 때, 흡수막의 두께가300내지인것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 15]
제 1항 또는 2항에 있어서,하드마스크막은 흡수막에 대한건식식각 선택비5이상인것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 16]
제 1항 또는 2항에 있어서,하드마스크막은 dc 반응성 마그네트론 스퍼터링 방법을 통해 형성되며, 이때 사용되는 불활성 가스로서 아르곤 (ar), 헬륨 (he), 네온 (ne) 및 크세논 (xe) 으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하고, 반응성 가스로는 산소 (o2), 질소 (n2), 일산화탄소 (co), 이산화탄소 (co2), 이산화질소 (no2), 일산화질소 (no), 아산화질소 (n2o), 암모니아 (nh3) 및 메탄 (ch4)으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종 이상을 사용할 수있는것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 17]
제 1항 또는 2항에 있어서,하드마스크막은 선택적으로 깊이 방향으로 조성비의 변화가 발생하는 연속막을 가질 수있는것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 18]
제 1항 또는 2항에 있어서,하드마스크막은 단층 및 다층으로 형성될 수 있으며, 각각의 단층 및 다층의 내부 및 계면에서 박막을 구성하는 어느 하나 이상의 원소 조성비가 1 at% 내지 50 at% 이내로 변하는 구간을 가지는연속막인것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 19]
제 1항 또는 2항에 있어서,하드마스크막의 조성비 중 질소의 함유량이 연속적으로 변화하는 구간이 5 nm 이상의 두께로 적어도 한구간이상포함되는것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 20]
제 1항 또는 2항에 있어서,하드마스크막의 두께는50내지이하인것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 21]
제 1항 또는 2항에 있어서,유기 박막은 상기 유기 박막 위의 레지스트막 대비 높은농도의강산포함하는것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 22]
제 1항 또는 2항에 있어서,유기 박막은 노광공정 적용 혹은 노광 공정 미적용시에도 현상액에 의해현상되는것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
[청구항 23]
제 1항 또는 2항에 있어서,유기 박막의 두께가 200 å이내인것을특징으로 하는극자외선용 블랭크 마스크.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
극자외선용 블랭크 마스크의 흡수막 구성 요소 중 질소의 조성비가 연속적으로 변화할 때, 그 변화가 나타나는 구간의 최소 두께 조건은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
-
1과제 해석
task_interpretation질문에서 요구하는 것은 흡수막 구성 요소 중 질소의 조성비가 연속적으로 변화할 때, 그 변화가 나타나는 구간의 최소 두께 조건을 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 9에서 흡수막의 원소 조성비 중 질소의 조성비가 연속적인 변화를 가지는 구간에 대한 언급을 확인한다.
- 흡수막의 원소 조성비 중 질소의 조성비가 필수적으로 연속적인 변화를 가지며
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3근거 선택
evidence_selection질소의 조성비 변화 구간의 두께 조건을 명시한 구절을 선택한다.
- 그 변화 두께가 1 nm 이상인구간적어도포함되는것을특징으로 하는
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4논리 통합
logical_integration청구항 9의 내용을 종합하면, 질소 조성비가 연속적으로 변화하는 구간은 최소 1 nm 이상의 두께를 가져야 함을 알 수 있다.
- 질소의 조성비가 필수적으로 연속적인 변화를 가지며, 그 변화 두께가 1 nm 이상인구간적어도포함되는것을특징으로 하는
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 직접적인 답변으로 '1 nm 이상'을 도출한다.
- 1 nm 이상
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6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
- 1 nm 이상
최종 답변 (final_answer)
1 nm 이상
핵심 해석 (core_interpretation)
극자외선용 블랭크 마스크의 흡수막에서 질소 조성비가 연속적으로 변화하는 구간의 두께를 1 nm 이상으로 규정하여 흡수막의 특성을 제어하는 기술이다.