문맥 (context)
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 폴드 거울은 상기 제 1 및 제 2 공초점 거울들 사이등거리에 있는펄스 스트레처 또는 펄스 변경기.
[청구항 3]
제 1 항에 있어서,상기 1 이상의 광학 요소들은 상기 빔 스플리터에 의한 상기 입력 광빔의 분할 이전에 상기 입력 광빔의 발산(divergence) 및 수렴(convergence) 중 하나제공하는펄스 스트레처 또는 펄스 변경기.
[청구항 4]
제 3 항에 있어서,상기 수정된 빔을 다시 컨디셔닝(condition)하기 위해, 상기 수정된 빔의 광학 경로 내에 1 이상의 추가 광학 요소들더 포함하는펄스 스트레처 또는 펄스 변경기.
[청구항 5]
제 1 항에 있어서,상기 빔 스플리터, 상기 공초점 공진기, 상기 폴드 거울 및 상기 1 이상의 광학 요소들은 리소그래피 장치의 빔 전달 시스템포함하는펄스 스트레처 또는 펄스 변경기.
[청구항 6]
제 1 항에 있어서,상기 빔 스플리터와 직렬로 1 이상의 추가 빔 스플리터들을 더 포함하고, 상기 1 이상의 추가 빔 스플리터들 각각은 추가 광학 지연을 생성하기 위해 상기 광학 구성을 통해추가제1빔지향하도록구성되는펄스 스트레처 또는 펄스 변경기.
[청구항 7]
제 1 항에 있어서,상기 폴드 거울은 2 이상의 폴드 거울들포함하는펄스 스트레처 또는 펄스 변경기.
[청구항 9]
제 8 항에 있어서,상기 수정된 빔을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템;패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해 상기 수정된 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 패터닝 디바이스 지지체;기판을 유지하도록 구성된 기판 지지체; 및상기 기판의 타겟부 상에 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템더 포함하는리소그래피 장치.
[청구항 10]
제 8 항에 있어서,상기 폴드 거울은 상기 제 1 및 제 2 공초점 거울들 사이등거리에 있는리소그래피 장치.
[청구항 11]
제 8 항에 있어서,상기 1 이상의 광학 요소들은 상기 빔 스플리터에 의한 상기 입력 광빔의 분할 이전에 상기 입력 광빔의 발산 및 수렴 중 하나제공하는리소그래피 장치.
[청구항 12]
제 11 항에 있어서,상기 수정된 빔을 다시 컨디셔닝하기 위해, 상기 수정된 빔의 광학 경로 내에 1 이상의 추가 광학 요소들더 포함하는리소그래피 장치.
[청구항 13]
제 8 항에 있어서,상기 빔 스플리터와 직렬로 1 이상의 추가 빔 스플리터들을 더 포함하고, 상기 1 이상의 추가 빔 스플리터들 각각은 추가 광학 지연을 생성하기 위해 상기 광학 구성을 통해추가제1빔지향하도록구성되는리소그래피 장치.
[청구항 14]
제 8 항에 있어서,상기 폴드 거울은 2 이상의 폴드 거울들포함하는리소그래피 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
리소그래피 장치에서 수정된 빔을 다시 컨디셔닝(condition)하기 위해 광학 경로 내에 추가되는 구성 요소는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
-
1과제 해석
task_interpretation리소그래피 장치에서 수정된 빔을 다시 컨디셔닝하기 위해 광학 경로 내에 추가되는 구성 요소가 무엇인지 찾는 과업이다.
-
2정보 추출
information_extraction청구항 12에서 수정된 빔을 다시 컨디셔닝하기 위한 구성 요소에 대한 언급을 추출한다.
- 상기 수정된 빔을 다시 컨디셔닝하기 위해, 상기 수정된 빔의 광학 경로 내에 1 이상의 추가 광학 요소들더 포함하는
-
3근거 선택
evidence_selection질문에서 요구하는 '컨디셔닝을 위해 추가되는 구성 요소'와 직접적으로 대응하는 구절을 선택한다.
- 상기 수정된 빔을 다시 컨디셔닝하기 위해, 상기 수정된 빔의 광학 경로 내에 1 이상의 추가 광학 요소들더 포함하는
-
4논리 통합
logical_integration청구항 12의 문맥을 통해, 수정된 빔의 컨디셔닝을 위해 광학 경로 내에 '1 이상의 추가 광학 요소들'이 포함됨을 확인한다.
- 상기 수정된 빔을 다시 컨디셔닝하기 위해, 상기 수정된 빔의 광학 경로 내에 1 이상의 추가 광학 요소들더 포함하는
-
5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 답변으로 '1 이상의 추가 광학 요소들'을 도출한다.
- 1 이상의 추가 광학 요소들
-
6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
- 1 이상의 추가 광학 요소들
최종 답변 (final_answer)
1 이상의 추가 광학 요소들
핵심 해석 (core_interpretation)
리소그래피 장치에서 수정된 빔의 상태를 복원하거나 조정(conditioning)하기 위해 광학 경로상에 추가적인 광학 요소를 배치하는 기술적 구성을 나타냄.