가공데이터 · 특허 지식베이스

건습식 혼합된 웨이퍼 텍스처링 장치 document_id 1020100058122

출원번호
1020100058122
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 카세트유닛과 이송유닛 및 텍스처링유닛은 각각 하나씩 순차적으로 배열되며,상기 이송유닛에 의해 카세트유닛의 카세트가 텍스처링유닛으로 이송되어 각각의 웨이퍼 면을 동시에 텍스처링한 다음, 카세트는 이송유닛에 의해 다시 카세트유닛으로 이송되는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 카세트유닛은,텍스처링을 하기 위한 다수의 웨이퍼가 거치된 카세트가 위치되는 카세트공급부; 및상기 텍스처링유닛을 거친 웨이퍼가 거치된 카세트가 위치되는 카세트배출부를 포함하여 이루어지는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 카세트유닛과 이송유닛 및 텍스처링유닛은 각각 하나씩 순차적으로 배열되되, 상기 카세트공급부와 카세트배출부는 상기 이송유닛과 연결되도록 병렬로 배열되고,상기 이송유닛에 의해 카세트공급부의 카세트가 텍스처링유닛으로 이송되어 각각의 웨이퍼 면을 동시에 텍스처링한 다음, 카세트는 이송유닛에 의해 카세트배출부로 이송되는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 5] 제3항에 있어서,상기 카세트공급부와 이송유닛, 텍스처링유닛 및 카세트배출부는 각각 하나씩 배열되고,상기 이송유닛에 의해 카세트공급부의 카세트가 텍스처링유닛으로 이송되어 각각의 웨이퍼 면을 동시에 텍스처링한 다음, 카세트는 이송유닛에 의해 카세트배출부로 이송되는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 6] 제3항에 있어서,상기 텍스처링유닛은 적어도 두 개 이상 구비되고, 상기 카세트공급부와 카세트배출부와 함께 상기 이송유닛에 연결되도록 배열되며,상기 이송유닛에 의해 카세트공급부의 카세트가 다수의 텍스처링유닛에 순차적으로 이송되어 각각의 웨이퍼 면을 동시에 텍스처링한 다음, 각 카세트는 이송유닛에 의해 카세트배출부에 순착적으로 이송되는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 텍스처링유닛은,xef2(제논다이프로라이드)과 clf3(chlorine trifluoride: 크롤린트라이프로라이드) 중 선택된 어느 하나 이상의 반응가스를 공급하여 이송된 웨이퍼의 면을 1차 텍스쳐링하고,불산(hf)과 알코올(alcohol)의 반응용액을 증기 또는 버블상태 중 어느 하나 이상으로 변화시켜 공급하여 웨이퍼의 면을 2차 텍스처링하는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 텍스처링유닛은,내부에 공간부가 형성되고, 이 내부 공간부의 하단부에 카세트가 유입되거나 배출되기 위한 출입구가 형성되며, 상단부에는 유입된 카세트에 수납된 웨이퍼의 면이 텍스처링되는 챔버;상기 챔버의 내부 공간부에 구비되어 상기 카세트 하측을 지지하는 척;상기 챔버의 상단부에 설치되며, 다수의 샤워공이 형성된 샤워헤드;상기 샤워헤드를 통해 상기 챔버 내부에 xef2(제논다이프로라이드), clf3(chlorine trifluoride: 크롤린트라이프로라이드) 중 어느 하나 이상의 반응가스 및 불산(hf), 알코올의 반응용액을 증기상태나 버블상태 중 어느 하나의 상태로 상측에서 하측 수직방향으로 균일하게 공급하는 가스공급부;상기 챔버 하단부에 설치되며, 상기 가스공급부에서 공급된 반응가스가 균일하게 배출되기 위한 다수의 배플공을 갖는 배플; 및상기 배플을 통해 상기 챔버에 공급된 반응가스를 배출시킴에 따라 챔버 내부를 진공상태로 유지시키는 진공배기부를 포함하여 이루어지고,상기 척에 카세트가 위치된 상태에서 상기 가스공급부의 반응가스가 다수의 웨이퍼를 향해 상측에서 하측으로 공급되어 각 웨이퍼의 면을 텍스처링하는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 챔버 내부 상단 가장자리에 보조가스공급부가 다수 개 더 구비되어 상기 카세트에 거치된 웨이퍼 중 외측에 위치된 웨이퍼의 면을 향하여 반응가스와 증기 또는 버블상태 중 어느 하나 이상으로 변화시킨 반응용액 중 어느 하나 이상을 공급하는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 10] 제8항에 있어서,상기 척은,상기 챔버 내부에서 상하방향으로 이동 가능하게 구비되며,상기 척을 승강시키고, 승강된 위치를 고정시킬 수 있는 승강수단이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 11] 제8항에 있어서,상기 척의 상단에는 다수의 지지핀이 돌출 형성되고, 상기 지지핀의 상단은 상측으로 볼록하게 라운딩되는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 12] 제1항에 있어서,상기 카세트는,내부에 웨이퍼 수납공간이 형성되고, 이 수납공간의 전후 좌우 상하가 개방된 카세트 프레임이 구비되고, 이 카세트 프레임의 마주보는 내측면에는 하나의 웨이퍼의 양측부가 거치될 수 있도록 거치홈이 형성되되, 이 거치홈은 카세트 프레임의 길이방향을 따라 다수 개 형성되는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 인접한 거치홈 간의 간격은 3 ~ 7mm인 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치. [청구항 14] 제1항에 있어서,상기 웨이퍼는 태양전지용과 엘이디(led)용 및 반도체용 중 어느 하나 이상에 사용되는 것을 특징으로 하는 건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
건습식혼합된웨이퍼 텍스처링 장치의 텍스처링유닛에서 1차 텍스처링과 2차 텍스처링을 수행하기 위해 각각 공급되는 물질과 그 상태는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    텍스처링유닛에서 수행되는 1차 및 2차 텍스처링에 사용되는 물질과 그 상태를 추출해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 7에서 1차 텍스처링 물질과 2차 텍스처링 물질 및 상태에 대한 정보를 확인한다.

    • xef2(제논다이프로라이드)과 clf3(chlorine trifluoride: 크롤린트라이프로라이드) 중 선택된 어느 하나 이상의 반응가스를 공급하여 이송된 웨이퍼의 면을 1차 텍스쳐링하고,불산(hf)과 알코올(alcohol)의 반응용액을 증기 또는 버블상태 중 어느 하나 이상으로 변화시켜 공급하여 웨이퍼의 면을 2차 텍스처링
  3. 3근거 선택evidence_selection

    1차 텍스처링은 반응가스(XeF2 또는 ClF3)를 사용하며, 2차 텍스처링은 불산과 알코올의 반응용액을 증기 또는 버블 상태로 사용함을 확인한다.

    • xef2(제논다이프로라이드)과 clf3(chlorine trifluoride: 크롤린트라이프로라이드) 중 선택된 어느 하나 이상의 반응가스를 공급하여 이송된 웨이퍼의 면을 1차 텍스쳐링하고,불산(hf)과 알코올(alcohol)의 반응용액을 증기 또는 버블상태 중 어느 하나 이상으로 변화시켜 공급하여 웨이퍼의 면을 2차 텍스처링
  4. 4논리 통합logical_integration

    추출된 정보를 바탕으로 1차는 반응가스 공급, 2차는 반응용액의 증기 또는 버블 상태 공급으로 정리한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에 따라 1차와 2차의 물질과 상태를 구분하여 답변을 구성한다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    최종 답변을 구조화된 형식으로 작성한다.

최종 답변 (final_answer)
1. 1차 텍스처링: XeF2(제논다이프로라이드) 또는 ClF3(chlorine trifluoride: 크롤린트라이프로라이드) 중 선택된 어느 하나 이상의 반응가스를 공급한다. 2. 2차 텍스처링: 불산(HF)과 알코올(alcohol)의 반응용액을 증기 또는 버블 상태 중 어느 하나 이상으로 변화시켜 공급한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 반응가스를 이용한 1차 텍스처링과 반응용액의 상변화(증기 또는 버블)를 이용한 2차 텍스처링을 결합하여 웨이퍼의 면을 처리하는 건습식 혼합 방식의 기술을 포함한다.