유도 결합 플라즈마 처리 장치 document_id 1020100121412

[청구항 1] 피처리 기판을 수용하여 플라즈마 처리를 실시하는 처리실과, 상기 처리실의 외부에 유전체 부재를 사이에 두고 배치되며, 고주파 전력이 공급됨으로써 상기 처리실 내에 유도 전계를 형성하는 고주파 안테나와, 상기 유도 전계에 의해 상기 처리실 내에 형성되는 유도 결합 플라즈마의 발광을 검출하는 플라즈마 발광 검출 수단과, 상기 고주파 안테나를 포함하는 안테나 회로의 특성을 조절하는 조절 수단과, 상기 플라즈마 발광 검출 수단의 플라즈마 발광 정보에 기초해서 상기 조절 수단을 제어하여 플라즈마의 상태를 제어하는 제어 수단 을 구비하는 것을 특징으로 하는 유도 결합 플라즈마 처리 장치 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 고주파 안테나는 나선형으로 배열된 복수의 안테나부를 갖고,상기 조절 수단은 상기 각 안테나부를 포함하는 안테나 회로 중 적어도 하나에 접속되고, 그 접속된 안테나 회로의 임피던스를 조절하고,상기 제어 수단은, 상기 조절 수단을 제어하여, 상기 복수의 안테나부의 전류값을 제어해서, 그것에 의해 상기 처리실 내에 형성되는유도결합플라즈마의플라즈마밀도 분포제어하는것을특징으로 하는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 조절 수단nan은가변콘덴서갖는것을특징으로 하는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 4] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 항에 있어서,상기 제어 수단은 애플리케이션마다 최적의 플라즈마 상태가 얻어지는 상기 조절 수단의 조절 파라미터가 미리 설정되고, 상기 플라즈마 발광 검출 수단에 의한 검출 정보에 기초해서, 실행하는 애플리케이션에 대응하는조절파라미터선택하는것을특징으로 하는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 5] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제어 수단은, 상기 플라즈마 발광 검출 수단에 의한 검출 정보에 기초해서, 최적의 플라즈마 상태로 되도록 실시간으로상기조절수단의조절파라미터제어하는것을특징으로 하는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 6] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 플라즈마 발광 검출 수단은,플라즈마로부터의 발광을 수광하는 수광부와,상기 수광부에서 수광한 광으로부터 소정 파장의 광의 발광 강도를 검출하는광 검출부갖는것을특징으로 하는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 광 검출부는 소정 파장의 검출광과 상기 검출광 파장 근방의 파장을 갖는 참조광을 검출하고,상기 검출광의 발광 강도를 상기 참조광의 발광 강도로 규격화한발광 강도를상기유도결합플라즈마의상태이용하는것을특징으로 하는유도 결합 플라즈마 처리 장치.