사중극 또는 비행시간형 질량 분석기를 이용한 화학적 이온화 반응 또는 양자 전이 반응 질량 분석법 document_id 1020107007918

[청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 사중극 또는 비행시간형 질량 분석기 모듈은 상기 비이온화 샘플 가스의 상기 하나 이상의 휘발성 유기 화합물의 질량 또는 피크 강도 중 적어도 하나의 결정하는,시스템. [청구항 13] 제 11 항에 있어서,상기 사중극 또는 비행시간형 질량 분석기 모듈은 상기 비이온화 샘플 가스의 상기 하나 이상의 휘발성 유기 화합물의 정체(identity)의 결정하는,시스템. [청구항 14] 제 11 항에 있어서,상기 하나 이상의 휘발성 유기 화합물은, 다이옥신계 화합물, 푸란계 화합물, 클로로페놀, 나프탈렌, 벤젠, 톨루엔, 에틸벤젠, 크실렌, 넌메탄 유기 화합물, 이차 유기 에어로졸, 동중 원소 화합물, 화학 무기 작용제, 전장 가스, 화재 촉진제, 체액과 곰팡이균과 진균독의 존재를 특징으로 하는 휘발성 유기 화합물, 또는 이들의 임의의 조합포함하는,시스템. [청구항 15] 제 11 항에 있어서,상기 하나 이상의 휘발성 유기 화합물은 인위개변적(anthropogenic) 또는 자연적(biogenic) 휘발성 유기 화합물포함하는,시스템. [청구항 18] 제 17 항에 있어서,상기 마이크로파 에너지원은 마이크로파 플라즈마 발생기포함하는,시스템. [청구항 19] 제 17 항에 있어서,상기 고주파rf 에너지원은 용량성 결합된 rf 플라즈마 발생기포함하는,시스템. [청구항 20] 제 17 항에 있어서,상기 일정 수의 시약 이온은 히드로늄 이온, 산소 이온, 또는 아산화질소 이온포함하는,시스템. [청구항 21] 제 17 항에 있어서,상기 비이온화 가스 샘플은 하나 이상의 휘발성 유기 화합물포함하는,시스템. [청구항 22] 제 17 항에 있어서,상기 일정 수의 시약 이온과 상기 비이온화, 가스 샘플 간의 상호 작용을 용이하게 하고 상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온을 상기 드리프트 챔버의 출구 오리피스를 통과시키기 위한 전자기계를 생성하도록 상기 챔버에 대하여 배치되는 전극들의 세트더 포함하는,시스템. [청구항 23] 제 22 항에 있어서,상기 전극들의 세트는 상기 드리프트 챔버의 축에 대하여 방사상으로 배치되고, 상기 전자기계는 상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온이 축방향하는,시스템. [청구항 24] 제 22 항에 있어서,상기 전극들의 세트와 통신하며 상기 시스템의 동작 파라미터에 기초하여 상기 드리프트 챔버 내의 전자기계의 값을 결정하도록 동작가능한 제어 모듈더 포함하는,시스템. [청구항 25] 제 17 항에 있어서,상기 드리프트 챔버에 입력되는 샘플의 양을 결정하도록 질량 흐름 제어기, 모세관, 또는 누수 밸브더 포함하는,시스템. [청구항 26] 제 17 항에 있어서,상기 시약 이온이 상기 드리프트 챔버 내로 선택적으로 입력될 수 있도록 상기 마이크로파 또는 고주파 rf 에너지원과 상기 챔버에 대하여 배치되는 질량 필터더 포함하는,시스템. [청구항 27] 제 26 항에 있어서,상기 질량 필터는사중극 질량 필터인,시스템. [청구항 28] 제 17 항에 있어서,상기 시스템과 통신하며 상기 사중극 질량 분석기 모듈로부터의 데이터를 분석하도록 동작가능한 다변수 분석 모듈더 포함하는,시스템. [청구항 29] 제 17 항에 있어서,상기 마이크로파 에너지원은,마이크로파 발생기와,상기 플라즈마 챔버가 공진기 내에 배치되며 상기 드리프트 챔버와 통하는, 공진기와,기상 시약 공급원, 상기 드리프트 챔버, 또는 상기 기상 시약 공급원과 드리프트 챔버 둘 다 내부의 마이크로파 에너지의 양을 저감하도록 플라즈마 챔버가 통과하는 하나 이상의 쵸포함하는,시스템. [청구항 30] 제 17 항에 있어서,상기 시스템과 통신하며 상기 시스템의 동작 파라미터에 부분적으로 기초하여 상기 시스템의 입력 파라미터를 변경하도록 동작가능한 제어 모듈더 포함하는,시스템. [청구항 31] 제 30 항에 있어서,상기 시스템의 동작 파라미터는, 비이온화, 가스 샘플의 조성, 드리프트 챔버의 압력, 상기 드리프트 챔버를 통과하는 상기 하나 이상의 생성 이온이나 상기 일정 수의 시약 이온의 속도, 상기 비이온화, 가스 샘플이나 시약 이온이 상기 드리프트 챔버 내로 향하는 유량, 상기 하나 이상의 생성 이온이나 상기 일정 수의 시약 이온의 에너지, 시약 이온과 생성 이온의 화학적 조성, 또는 이들의 임의의 조합 중 적어도 하나포함하는,시스템. [청구항 32] 제 30 항에 있어서,상기 제어 모듈은 상기 동작 파라미터에 부분적으로 기초하여 상기 드리프트 챔버 내에 전자기계를 생성하는 전극들의 세트의 입력 파라미터를 변경하도록 동작가능한,시스템. [청구항 33] 제 17 항에 있어서,상기 시스템과 통신하며 상기 시스템의 동작 파라미터의 결함을 식별하거나 검출하도록 동작가능한 제어 모듈더 포함하는,시스템. [청구항 34] 제 33 항에 있어서,상기 제어 모듈은 상기 결함의 검출이나 식별에 부분적으로 기초하여 상기 동작 파라미터의 값을 변경하도록 동작가능한,시스템. [청구항 35] 제 17 항에 있어서,상기 시스템을 감시하도록 상기 시스템과 통신하며, 상기 감시에 응답하여 상기 시스템의 동작 파라미터의 값을 설정하거나 조절하도록 동작가능한 제어 모듈을 더 포함하고, 상기 제어 모듈은 다변수 통계 분석 알고리즘기초하는,시스템. [청구항 36] 제 17 항에 있어서,상기 드리프트 챔버에 대하여 배치되고, 시약 이온 또는 생성 이온이 사중극 질량 분석기 모듈을 향하여 통과하는 오리피스를 규정하고, 상기 사중극 질량 분석기 모듈에 의한 수집을 위해 상기 시약 이온 또는 생성 이온의 에너지 값을 특정하도록 동작가능한 추출 전극더 포함하는,시스템. [청구항 37] 제 17 항에 있어서,상기 질량 분석기 모듈로 향하는 시약 이온과 생성 이온의 통로를 용이하게 하는 추출 오리피스 상에 상기 시약 이온과 상기 생성 이온을 포커싱하도록 상기 드리프트 챔버에 대하여 배치되는 렌즈 조립체더 포함하는,시스템. [청구항 49] 제 48 항에 있어서,상기 질량 분석기 모듈은, 상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온의 흐름을 상기 비행 영역 내로 펄스화하도록 상기 드리프트 챔버의 출구 오리피스에 대하여 배치되는 이온 빔 조절기와,상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온이 이동하는 상기 경로 길이의 값을 증가시키도록 상기 비행 영역에 배치되는 광학 시스템더 포함하는,시스템. [청구항 50] 제 49 항에 있어서,상기 이온 빔 조절기는 제어기로부터 제공되는 의사 난수 이진 배열에 의해 상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온의 흐름조절하는,시스템. [청구항 51] 제 50 항에 있어서,분석 모듈은 상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온의 각각의 피크 강도 또는 질량의 값을 결정하도록 상기 질량 분석기 모듈로부터 수신되는 데이터에 대하여 최대 우도 신호 처리 알고리즘수행하는,시스템. [청구항 52] 제 49 항에 있어서,분석 모듈은 상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온의 각각의 질량 또는 피크 강도의 값을 결정하도록 상기 질량 분석기 모듈로부터 수신되는 데이터를 디콘볼루션하는,시스템. [청구항 53] 제 49 항에 있어서,상기 컬렉터 영역은 펄스 카운팅 모드에서 동작하는 적층형 마이크로채널 판 검출기 또는 양극 검출기포함하는,시스템. [청구항 54] 제 49 항에 있어서,상기 광학 시스템은 리플렉트론포함하는,시스템. [청구항 55] 제 49 항에 있어서,상기 시약 이온과 상기 생성 이온을 상기 이온 빔 조절기 상으로 포커싱하기 위한 렌즈를 더 포함하고, 상기 이온 빔 조절기는 이온 빔 쵸퍼, 이온 빔 게이트, 이온 빔 변조기, 또는 이들의 임의의 조합포함하는,시스템. [청구항 56] 제 48 항에 있어서,상기 드리프트 챔버와 상기 질량 분석기 모듈에 대하여 배치되는 광학 시스템을 더 포함하고,상기 광학 시스템은 상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온의 흐름이 이온 빔 조절기로 향하게 하는 적어도 하나의 사중극 렌즈포함하는,시스템. [청구항 57] 제 48 항에 있어서,상기 질량 분석기 모듈은 상기 비행 영역을 통해 선형인 축규정하는,시스템. [청구항 58] 제 57 항에 있어서,상기 선형인 축은 상기 비행 영역을 통과하는 제2 축평행한,시스템. [청구항 59] 제 48 항에 있어서,상기 일정 수의 시약 이온의 서브세트가 상기 드리프트 챔버에 선택적으로 입력될 수 있도록 상기 마이크로파 에너지원과 상기 드리프트 챔버에 대하여 배치되는 질량 필터더 포함하는,시스템. [청구항 60] 제 59 항에 있어서,상기 질량 필터는 사중극 질량 필터포함하는,시스템. [청구항 61] 제 48 항에 있어서,상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온의 각각의 질량 또는 피크 강도의 값들을 포함하는 질량 스펙트럼을 생성하도록 상기 질량 분석기 모듈로부터 데이터를 수신하는 분석 모듈더 포함하는,시스템. [청구항 62] 제 48 항에 있어서,상기 질량 분석기 모듈에 의해 생성되는 질량 스펙트럼에 기초하여 상기 비이온화, 가스 샘플의 성분들을 식별하는 다변수 통계 분석 모듈더 포함하는,시스템. [청구항 63] 제 48 항에 있어서,상기 시스템과 통신하며, 상기 시스템의 동작 파라미터에 기초하여 상기 시스템의 결함을 검출하거나 식별하도록 동작가능한 제어 모듈더 포함하는,시스템. [청구항 64] 제 63 항에 있어서,상기 제어 모듈은 상기 결함의 검출이나 식별에 부분적으로 기초하여 상기 동작 파라미터의 값을 변경하도록 동작가능한,시스템. [청구항 65] 제 48 항에 있어서,상기 시스템과 통신하며, 상기 시스템의 동작 파라미터에 기초하여 상기 시스템의 입력 파라미터의 값을 변경하도록 동작가능한 제어 모듈더 포함하는,시스템. [청구항 66] 제 48 항에 있어서,상기 일정 수의 시약 이온과 상기 이온화, 가스 샘플 간의 상호 작용을 용이하게 하고 상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온을 상기 드리프트 챔버의 출구 오리피스를 통과시키기 위한 계(field)를 생성하도록 상기 드리프트 챔버에 대하여 배치되는 전극들의 세트더 포함하는,시스템. [청구항 67] 제 66 항에 있어서,상기 시스템의 동작 파라미터에 기초하여 상기 챔버 내의 계의 값을 결정하도록 동작가능하며 상기 전극들의 세트와 통신하는 제어 모듈더 포함하는,시스템. [청구항 68] 제 67 항에 있어서,상기 시스템의 동작 파라미터는, 이온화, 가스 샘플의 조성, 드리프트 챔버의 압력, 상기 드리프트 챔버를 통과하는 상기 하나 이상의 생성 이온이나 상기 일정 수의 시약 이온의 속도, 상기 샘플이나 시약 이온이 상기 드리프트 챔버 내로 향하는 유량, 상기 하나 이상의 생성 이온이나 상기 일정 수의 시약 이온의 에너지, 시약 이온 또는 생성 이온의 화학적 조성, 또는 이들의 임의의 조합 중 적어도 하나포함하는,시스템. [청구항 69] 제 67 항에 있어서,상기 제어 모듈은 상기 동작 파라미터에 부분적으로 기초하여 상기 전극들의 세트의 입력 파라미터를 변경하도록 동작가능한,시스템. [청구항 71] 제 70 항에 있어서,상기 비행시간형 질량 분석기 모듈은,상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온이 이동하며, 경로 길이를 규정하는 비행 영역과,상기 비행 영역 내로의 상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온의 흐름을 조절하는 이온 빔 조절기와,상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온이 이동하는 상기 경로 길이의 값을 증가시키도록 상기 비행 영역에 배치된 광학 시스템과,상기 비행 영역으로부터 상기 하나 이상의 생성 이온과 상기 일정 수의 시약 이온을 수용하는 컬렉터 영역포함하는,시스템.