액체 금속 이온원, 이차 이온 질량 분석기, 이차 이온 질량 분석법 및 그 사용 document_id 1020107010314

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 합금은 제2 금속으로서망간포함하는것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 제2 금속의 천연의 혹은 농축된 주 동위 원소는 액체 금속 이온원에서 상기 제2 금속의 총비율갖는것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 비스무스와 상기 제2 금속은 이온빔 생성 중에 전체 방사 스펙트럼에 대해 ≤10%의 비스무스와 제2 금속을 포함하는혼합클러스터형성하는것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 6] 제1항에 있어서,액체 금속 이온원에 의해 생성된 일차 이온빔에서 상기 제2 금속의 비율은 상기 합금에서 제2 금속의 정량적인 비율에 대응되거나그것동일한것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 합금에서상기비스무스의함량인것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 합금에서상기제2금속의함량인것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 합금에서상기제2금속의함량인것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 10] 제1항에 있어서,상기 합금에서 상기 비스무스와 상기 제2 금속의 합은 ≥90%비율갖는것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 합금은 비스무스를 포함하는저융점 합금인것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 12] 제1항에 있어서,상기 합금은 순수 비스무스의 융점보다 낮은융점갖는것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 13] 제1항에 있어서,상기 금속 합금은 ni, cu, zn, sc, ga, mn 또는 se 중 하나 이상을 갖는제2금속과비스무스합금인것을특징으로 하는액체 금속 이온원. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 질량-순 여과된 비스무스 이온빔은 타입 binp+의 이온만을 포함하고,여기각각정수인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석기. [청구항 16] 제14항에 있어서,질량-순 이온빔으로 여과된 상기 이온은 bi2+, bi3+, bi4+, bi5+, bi6+, bi7+, bi32+, bi52+, 혹은 bi72+중하나타입에속하는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석기. [청구항 17] 제14항에 있어서,상기 액체 금속 이온원에 의해 방사된 일차 이온빔에서 비스무스이온비율인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석기. [청구항 18] 제14항에 있어서,상기 액체 금속 이온원에 의해 방사된 일차 이온빔에서제2금속의이온비율인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석기. [청구항 19] 제14항에 있어서,상기 액체 금속 이온원에 의해 방사된 일차 이온빔에서제2금속의이온비율인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석기. [청구항 20] 제14항에 있어서,상기 액체 금속 이온원에 의해 방사된 일차 이온빔에서 비스무스 이온과 제2 금속 이온의 합은 ≥90%비율갖는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석기. [청구항 22] 제21항에 있어서,방사된 일차 이온빔에서 제1 금속의 이온과 제2 금속 이온의 합은 ≥90%비율갖는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 23] 제21항 또는 제22항에 있어서,상기 제1 금속은 비스무스,금혹은납중하나인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 24] 제21항 또는 제22항에 있어서,상기 제2 금속은 리튬, 베릴늄, 붕소, 나트륨, 마그네슘, 알루미늄, 규소, 칼륨, 칼슘, 스칸듐, 티탄, 바나듐, 크롬, 망간, 철, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 갈륨, 게르마늄, 비소, 셀렌,루비듐및이트륨중하나인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 25] 제21항 또는 제22항에 있어서,상기 분석 빔은 일차 이온빔의 생성을 위해 제1 금속과 제2 금속을 포함하는 금속 합금을 구비하는 액체 금속 이온원에 의해생성되는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 26] 제21항 또는 제22항에 있어서,상기 제2 금속은 상기 제1 금속에서 ≥1%의용해도갖는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 27] 제21항에 있어서,다원자 비스무스 이온과 제2 금속의 이온을 포함하는 일차 이온빔이 생성되며, 상기 제2 금속은 원자량 ≤90u, 비스무스 ≥1%의 용해도를 갖으며,상기 이온들은 교대로 여과되고, 그 질량이 1회 이상 하전된 단원자 비스무스 이온 bi1p+의 배수인 다수의 비스무스 이온 타입들 중 한 타입은 질량-순 여과된 일차 이온빔으로서 여과되고 또 상기 제2 금속의 다수의 이온 타입들 중 한 타입은 질량-순 여과된 일차 이온빔으로서 여과되고, 이차 입자 스펙트럼은 비스무스를 포함하는 여과된 일차 이온빔으로 측정되고, 이차 입자 스펙트럼은 제2 금속을 포함하는 여과된일차 이온빔측정되는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 28] 제21항 또는 제22항에 있어서,상기 제2 금속은망간인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 29] 제21항에 있어서,다원자 비스무스 이온과 제2 금속의 이온을 포함하는 일차 이온빔이 생성되고, 상기 제2 금속은 망간이며,상기 이온들은 교대로 여과되고, 그 질량이 1회 이상 하전된 단원자 비스무스 이온 bi1p+의 배수인 다수의 비스무스 이온 타입들 중 한 타입은 질량-순 여과된 일차 이온빔으로서 여과되고 또 망간의 다수의 이온 타입들 중 한 타입은 질량-순 여과된 일차 이온빔으로서 여과되고, 이차 입자 스펙트럼은 비스무스를 포함하는 여과된 일차 이온빔으로 측정되고, 이차 입자 스펙트럼은 망간을 포함하는 여과된일차 이온빔측정되는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 30] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,상기 제2 금속의 천연의 혹은 농축된 주요 동위 원소는 방사 스펙트럼에서 상기 제2 금속의 총비율갖는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 31] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,상기 비스무스와 상기 제2 금속은 이온빔 생성 중에 전체 방사 스펙트럼에 대해 ≤10%의 비스무스와 제2 금속을 포함하는혼합클러스터형성하는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 32] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,방사된 일차 이온빔에서상기비스무스이온의비율인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 33] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,방사된 일차 이온빔에서상기제2금속의이온의비율인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 34] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,방사된 일차 이온빔에서상기제2금속의이온의비율인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 35] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,방사된 일차 이온빔에서 상기 비스무스와 상기 제2 금속의 이온의 합은 ≥90%비율갖는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 36] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,비스무스 이온을 포함하는 여과된 일차 이온빔은 타입 binp+의 이온을 포함하고,여기각각정수인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 37] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,상기 일차 이온빔 또는 여과된 일차 이온빔은 1가 혹은 2가의 bin 이온을 포함하고,여기정수인것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 38] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,분석 빔은 합금으로 비스무스를 포함하는 액체 금속 이온원으로, 상기 합금은 원자량 ≤90u, 비스무스 ≥1%의 용해도갖는 제2 금속을 포함하며, 상기 제2 금속의 천연의 혹은 농축된 주요 동위 원소는 액체 금속 이온원에서 상기 제2 금속의 총 비율의 ≥80%을 갖는 것을 특징으로 하는 액체 금속 이온원에 의해생성되는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 39] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,2개의 이차 입자 스펙트럼은 g-sims 방법(getle-sims)에 따라 평가되고,샘플의이차입자스펙트럼생성되는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 40] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,샘플의 투사를 위한 일차 이온빔과 이차 입자 생성물을 생성하는 액체 금속 이온원을 이용하여 이차 이온 또는 재이온화된 중성의 이차 입자와 같은 이차 입자의 분석을 위한 이차 입자 질량 분석기에 있어서,합금으로 비스무스를 포함하는 액체 금속 이온원으로서, 상기 합금은 원자량 ≤90u, 비스무스 ≥1%의 용해도갖는 제2 금속을 포함하며, 상기 제2 금속의 천연의 혹은 농축된 주요 동위 원소는 액체 금속 이온원에서 상기 제2 금속의 총 비율의 ≥80%을 갖는 것을 특징으로 하는 액체 금속 이온원을 구비하며,필터 장치를 더 구비하고, 상기 필터 장치를 이용하여 상기 액체 금속 이온원에 의해 방사된 일차 이온빔으로부터 그 질량이 1회 이상 하전된 단원자 비스무스 이온의 배수인 다수의 비스무스 이온 타입들 중 두 타입은 질량-순 여과된 일차 이온빔으로서 여과되고 또 상기 제2 금속의 다수의 이온 타입으로부터 여과된 일차 이온빔은 질량-순 여과된 일차 이온빔으로서 여과되는 것을 특징으로 하는 이차 이온 질량 분석기를 이용하여실시되는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 41] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,상기 생성된 이차 입자의 분석은 자기 섹터 필드 질량 분석기, 4극자 질량 분석기 또는 tof 질량 분석기를 이용하여실시되는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 42] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,샘플 표면의 질량 분석 이미지 또는 샘플 표면의 깊이 프로파일이측정되는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법. [청구항 43] 제21항 또는 제27항 또는 제29항에 있어서,샘플 혹은 분석된 표면은유기물질갖는것을특징으로 하는이차 입자 질량 분석법.