전자 빔 노출 시스템 document_id 1020107016866

[청구항 15] 제14항에 있어서,상기 복수의 제어 신호들은 타이밍 베이스를 가지며, 상기 복수의 제어 신호들을 조절하는 것은 상기 복수의 제어 신호들을 상기 타이밍 베이스에 대해서 시간적으로쉬프트시키는것을포함하는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 16] 제14항에 있어서,상기 조절기는 제어 신호의 타이밍의 개별적인조절가능하게구성된 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 17] 제14항에 있어서,상기 전자 빔 노출 장치에는 상기 빔릿들 중 적어도 하나의 빔릿의 실제의 위치를 측정하는 측정 장치가 더 제공되고,상기 제어기에는 상기 실제의 위치와 원하는 위치를 저장하는 메모리와, 상기 빔릿들 중 적어도 하나의 빔릿의 상기 실제의 위치와 상기 원하는 위치를 비교하는 비교기가 더 제공되고,상기 조절기는, 상기 전자 빔릿들 중 적어도 하나의 빔릿의 상기 실제의 위치와 상기 원하는 위치간의 차이를 보상하기 위해, 변조기에 발행된 제어 신호를 조절하기 위한 명령을 수신하기 위하여 상기 제어기에동작가능하게연결된 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 18] 제14항에 있어서,상기 조절기는 조절의 양을 나타내는 명령을 수신하기 위해 상기 제어기에동작가능하게연결된 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 19] 제14항에 있어서,상기 조절기는상기복수의제어신호들각각의타이밍조절하도록구성되는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 20] 제14항에 있어서,빔릿 생성기를 더 포함하고, 상기 빔릿 생성기는,적어도 하나의 전자 빔을 방출하는 소스, 및상기 적어도 하나의 방출된 전자 빔을 상기 복수의 전자 빔릿들로 분열시키는 적어도 하나의 빔분열기포함하는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 변조기 어레이는 통과하는 전자 빔릿의 편향을 위한 복수의 빔릿 소거기들을 포함하는 빔릿 소거기 어레이를 포함하며,상기 전자 빔 노출 장치는, 상기 빔릿 소거기 어레이의 상기 빔릿 소거기들과 정렬된 복수의 간극들(apertures)을 가지며 전자 빔릿 경로(trajectory)를 따라 상기 빔릿 소거기 어레이 뒤에 위치하는 빔릿 스톱 어레이더 포함하는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 22] 제20항에 있어서,상기 복수의 전자 빔릿들을 포커싱(focus)하기 위해 상기 빔릿 소거기 어레이와 상기 빔분열기 사이에 위치한 제2 정전기적 렌즈 어레이더 포함하는,전자 빔 노출 장치. [청구항 23] 제22항에 있어서,상기 빔릿 소거기 어레이는 상기 제2 정전기적 렌즈 어레이의 촛점면위치하는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 24] 청구항 24은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.복수의 전자 빔릿들을 이용하여 표적의 표면상으로 패턴을 전사하기 위한 전자 빔 노출 장치에 있어서,상기 복수의 전자 빔릿들의 빔릿의 세기를 변조시키는 복수의 변조기들을 포함하는, 상기 복수의 전자 빔릿들을 수신하는 변조기 어레이; 및상기 복수의 변조기들의 각각의 변조기를 제어하기 위해 상기 변조기 어레이에 동작가능하게 연결되는 제어기를 포함하고, 상기 제어기는 상기 각각의 변조기에 대한 적어도 하나의 제어 신호를 갖는 복수의 제어 신호들을 생성하며, 상기 제어기는 적어도 하나의 제어 신호의 개별적인 조절을 가능하게 해주는 조절기포함하는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 25] 청구항 25은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제24항에 있어서,상기 복수의 제어 신호들은 타이밍 베이스를 가지며, 상기 조절기는 상기 복수의 제어 신호들을 상기 타이밍 베이스에 대해서 시간적으로 쉬프트시킴으로써 상기 복수의 제어 신호들의 개별적인조절수행하도록구성되는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 26] 청구항 26은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제24항에 있어서,상기 조절기는 적어도 하나의 제어 신호의 타이밍의 개별적인 조절을 가능하게해주는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 28] 제27항에 있어서,상기 제어 신호는 타이밍 베이스를 가지며, 상기 조절기는 상기 타이밍 베이스에 대해서상기제어신호의타이밍조절하도록구성되는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 29] 청구항 29은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.복수의 전자 빔릿들을 이용하여 표적의 표면상으로 패턴을 전사하기 위한 전자 빔 노출 장치에 있어서,상기 표적의 표면상에 상기 복수의 전자 빔릿들을 주사하며, 각각의 빔릿에 대해 적어도 하나의 정전기적 편향기를 갖는 적어도 하나의 정전기적 편향기들의 어레이를 포함하는 주사 편향기; 및제어 신호를 이용하여 각각의 정전기적 편향기를 제어하기 위해 상기 주사 편향기에 동작가능하게 연결되며, 적어도 하나의 제어 신호를 조절하도록 구성된 제어기포함하는,전자 빔 노출 장치. [청구항 30] 청구항 30은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제29항에 있어서,상기 제어기는 타이밍 베이스를 갖는 제어 신호를 이용하여 각각의 정전기적 편향기를 제어하기 위해 상기 주사 편향기에동작가능하게연결되는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 31] 청구항 31은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제29항에 있어서,상기 제어기는적어도하나의제어신호의타이밍조절하도록구성되는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 32] 청구항 32은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제29항에 있어서,상기 제어기는 각각의 정전기적 편향기에 대한 적어도 하나의 제어 신호를 포함하는 복수의 제어 신호들생성하는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 33] 청구항 33은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제32항에 있어서,상기 제어기는각각의제어신호의타이밍조절하도록구성되는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 34] 청구항 34은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제32항에 있어서,상기 제어기는각각의제어신호의타이밍을개별적조절하도록구성되는 것인,전자 빔 노출 장치. [청구항 36] 청구항 36은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.복수의 전자 빔릿들을 이용하여 표적의 표면상으로 패턴을 전사하기 위한 전자 빔 노출 장치에 있어서,상기 표적의 표면에서 개별적인 빔릿들에 대한 온/오프 상태를 효율적으로 구현시키며, 상기 온/오프 상태를 구현하기 위해 상기 전자 빔 노출 장치내에서 상기 개별적인 빔릿들을 편향시키는 복수의 정전기적 편향기들을 포함하는 소거 편향 장치;상기 소거 편향 장치의 정전기적 편향기들을 개별적으로 제어하기 위해 상기 소거 편향 장치에 동작가능하게 연결되며, 상기 편향 장치의 각각의 정전기적 편향기에 대한 개별적인 제어 신호를 이용함으로써 개별적인 빔릿들에 대한 상기 온/오프 상태를 결정하는 제어기; 및상기 제어기의 일부이거나 상기 제어기와 동작가능하게 연관된 것으로서, 빔릿에 대한 상기 정전기적 편향기의 제어 신호를 조절함으로써 상기 빔릿을 타임 윈도우상에서 개별적으로 교정하기 위한 교정 장치포함하는,전자 빔 노출 장치.