폴리싱장치 document_id 1020107017423

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 리테이너링은 상기 받침점에 대하여 틸팅가능한폴리싱장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 리테이너링은 상기 받침점을 통과하는 축선 상에 상하로이동가능하게지지되는폴리싱장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 톱링본체는 가압유체가 공급되기 위한 복수의 압력챔버를 형성하도록 구성된 1 이상의 탄성막을 구비하고,상기 받침점은 상기 기판의 중심부에 위치한 상기 압력챔버 상방위치하는폴리싱장치. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 받침점은 상기 톱링본체에 의해 상기 리테이너링을 지지하기 위한 지지기구의 회전중심위치하는폴리싱장치. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 지지기구는 상기 리테이너링을 상하로이동가능하게지지하는폴리싱장치. [청구항 8] 제6항에 있어서,상기 리테이너링은 상기 지지기구에 의해 상기 톱링본체와 독립적으로 이동가능한폴리싱장치. [청구항 9] 제6항에 있어서,상기 지지기구의 슬라이딩 접촉면은 저마찰재료로 이루어지는폴리싱장치. [청구항 10] 제6항에 있어서,상기 리테이너링은, 상기 기판의 주변 에지를 지지하도록 구성된 링부재, 상기 톱링본체의 중심부에 배치되고 상기 링부재를 지지하도록 구성된 홀딩부 및 상기 링부재와 상기 홀딩부를 연결하기 위한 연결부를 포함하여 이루어지고,상기 홀딩부는상기지지기구에의해지지되는폴리싱장치. [청구항 11] 제6항에 있어서,상기 톱링본체는 가압유체가 공급되기 위한 복수의 압력챔버를 형성하도록 구성된 1 이상의 탄성막을 구비하고,상기 지지기구는 상기 기판의 중심부에 위치한 상기 압력챔버 상방위치하는폴리싱장치. [청구항 12] 제6항에 있어서,상기 지지기구는 구면(spherical surface)으로 상기 리테이너링을 회전가능하게 지지하기 위한 구면베어링기구포함하여 이루어지는폴리싱장치. [청구항 13] 제6항에 있어서,상기 지지기구는 상기 리테이너링을 두 직교축을 중심으로 회전가능하게 지지하기 위한 자이로기구포함하여 이루어지는폴리싱장치. [청구항 14] 제6항에 있어서,상기 리테이너링에 금속링장착되는폴리싱장치. [청구항 15] 제6항에 있어서,상기 리테이너링을 냉각하기 위한 유체를 공급하도록 구성된 노즐더 포함하여 이루어지는폴리싱장치. [청구항 16] 제6항에 있어서,상기 톱링본체에 제공되며, 상기 톱링본체로부터 상기 리테이너링으로 회전력을 전달하도록 구성된 회전구동유닛더 포함하여 이루어지는폴리싱장치. [청구항 18] 제1항, 제6항 또는 제17항 중 어느 한 항에 있어서,상기 리테이너링과 상기 톱링본체와의 사이를 연결하는연결시트더포함하는것을특징으로 하는폴리싱장치.