플라즈마 처리 장치용 샤워헤드 전극 조립체 document_id 1020107027653

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 접촉 영역들은 서로 이격된 환상 돌출부들을 상기 열 제어 플레이트의 저면 상에서 포함하고,상기 인터페이스 부재들은 상기 환상 돌출부들을 커버하는 크기로 된 복수의 환상 인터페이스 부재들포함하는,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,외측 둘레에 위치된 상기 미립자 완화 밀봉부는 만곡진 표면을 갖고 상기 열적 및 전기적 전도성 개스킷부로부터 돌출되고,상기 내측 주변에 위치된 상기 미립자 완화 밀봉부는 만곡진 표면을 갖고 상기 열적 및 전기적 전도성 개스킷부돌출되는,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 열 제어 플레이트 및 백킹 플레이트는 비-아노다이징된 (non-anodized) 알루미늄이고,상기 인터페이스 부재의 상기 열적 및 전기적 전도성 개스킷부는 금속 및 폴리머 재료의 적층체 (laminate) 이고,상기 인터페이스 부재의 상기 미립자 완화 밀봉부는 내침식성 엘라스토머 또는 폴리머포함하는,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 샤워헤드 전극은 내측 전극 및 외측 전극을 포함하고,상기 내측 전극은 단결정 실리콘의 원형 플레이트이고 상기 외측 전극은 단결정 실리콘의 복수의 세그먼트들로 구성된 링전극인,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 6] 제 3 항에 있어서,상기 환상 돌출부들 사이의 플리넘들 (plenums) 내에 아노다이징된 알루미늄의 배플 링들 (baffle rings) 을 더 포함하고,상기 배플 링들 각각은 상기 환상 돌출부들 중 하나와 인접한 수직벽을 포함하고,수직벽들은 상기 접촉 영역들에 인접하는 상기 수직벽들의 하단들에 있는 오프셋들 (offsets) 을 포함하며,각 미립자 완화 밀봉부는 상기 접촉 영역들의 대향 측들 상에 밀봉부들을 형성하도록 상기 오프셋들 중 하나 내위치된,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 패스너들은 상기 백킹 부재들 내에 나사산이 형성된 볼트들을 포함하고,열적 및 전기적 전도성 개스킷부들은 그 내에 형성된 오버사이즈된 쓰루 홀들 (oversized through holes) 을 포함하고, 상기 볼트들은 상기 쓰루 홀들을 통해서 상기 백킹 부재내로 들어가는,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 8] 제 6 항에 있어서,링들의 상기 수직벽들의 상단들은 상기 인터페이스 부재의 상기 열적 및 전기적 전도성 개스킷부와 동일한 두께를 갖는 쐐기들 (shims) 에 의해 상기 열 제어 플레이트의 저면분리된,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 열 제어 플레이트의 상면에 열 초크들 (thermal chokes) 을더 포함하는,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 인터페이스 부재는 은, 니켈 및 구리를 포함하지 않고,상기 접촉 영역들은 상기 백킹 플레이트의 표면적의 1% 내지 30% 를커버하는,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 12] 제 1 항에 있어서,상기 샤워헤드 전극은, 실리콘 전극 플레이트의 일측에서 가스 유출구들을 갖고 상기 실리콘 전극 플레이트의 타측에서는 비-아노다이징된 (non-anodized) 알루미늄으로 된 상기 백킹 플레이트에 본딩된 엘라스토머를 갖는 상기 실리콘 전극 플레이트포함하는,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 19] 제 18 항에 있어서,상기 접촉 영역들은 상기 열 제어 플레이트의 하부 표면 상에 제공된 이격된 환상 돌출부들의 표면들을 포함하고;상기 인터페이스 부재들은 상기 환상 돌출부들 각각과 상기 샤워헤드 전극의 상부 표면 사이에 위치된 환상 인터페이스 부재를 포함하고;상기 인터페이스 부재들의 상기 열적 및 전기적 전도성 개스킷부는 은, 니켈 및 구리가 없는 금속 재료 및 폴리머 재료의 적층체 (laminate) 로 구성되며;상기 인터페이스 부재들의 상기 미립자 완화 밀봉부 및 전기적 전도성 개스킷부는 실리콘구성된,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 20] 제 19 항에 있어서,상기 샤워헤드 전극은 내측 전극 및 외측 전극을 포함하고, 상기 내측 전극은 단결정 실리콘의 원형 플레이트이고 상기 외측 전극은 단결정 실리콘의 복수의 세그먼트들로 구성된 링 전극이고;상기 인터페이스 부재의 상기 미립자 완화 밀봉부는 만곡진 표면을 갖고 상기 열적 및 전기적 전도성 개스킷부 각각의 외측 둘레 및 내측 개구로부터 돌출되며;상기 샤워헤드 전극 조립체는,상기 환상 돌출부들 사이의 플리넘들 내의 아노다이징된 알루미늄의 배플 링들로서, 상기 배플 링들 각각은 상기 환상 돌출부들 중 하나와 인접한 수직벽을 포함하고, 수직벽들은 상기 접촉 영역들에 인접하는 상기 수직벽들의 하단들에 형성된 오프셋들을 포함하며,상기 접촉 영역들의 대향하는 측들 상에 밀봉부들을 형성하도록 상기 오프셋들 내에 위치된 상기 미립자 완화 밀봉부들을 더 포함하고,상기 배플 링들의 수직벽들의 상단들은 상기 인터페이스 부재들의 상기 열적 및 전기적 전도성 개스킷부와 동일한 두께를 갖는 쐐기들에 의해 상기 열 제어 플레이트의 하면분리된,샤워헤드 전극 조립체. [청구항 21] 제 19 항에 있어서,상기 열 제어 플레이트는 비-아노다이징된 (non-anodized) 알루미늄으로 된 상기 접촉 영역들을 제외하고 아노다이징된 외측 표면갖는,샤워헤드 전극 조립체.