라이너 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 document_id 1020110001332

[청구항 2] 청구항 1에 있어서,상기 하부 라이너는, 통형 바디의 측벽의 끝단이 상기 서셉터의 상승에 따라 상기 펌핑 영역에 도달할 때, 상기 측벽이 상기 상부 라이너의 외부면에 접하며, 동시에, 상기 측벽이 챔버의 측벽 내부면과 이격되는 위치에 놓이도록 하는 직경갖는라이너 어셈블리. [청구항 3] 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 상부 라이너는,상기 샤워헤드의 측벽이 단턱 구조를 가져, 단턱의 상부 측벽을 감싸는 바디부;상기 단턱의 하부 측벽을 감싸며 아래 방향으로 돌출되어 다수의 펌핑홀이 형성되며, 내부면에 의해 상기 공정 영역을 형성하며, 외부면과 상기 챔버벽 사이에 의해 상기 펌핑 영역을 형성하는 돌출부포함하는라이너 어셈블리. [청구항 4] 청구항 3에 있어서,상기 공정 영역에서 펌핑 영역으로의 펌핑홀의 방향은, 상향형성되는라이너 어셈블리. [청구항 5] 청구항 4에 있어서,상기 펌핑홀은, 원형, 다각형, 오리피스구조로 되는라이너 어셈블리. [청구항 6] 청구항 1에 있어서,상기 하부 라이너는, 상기 통형 바디의 바닥면과 서셉터의 리프트핀의 하부단이 서로 고정 연결되어, 서셉터의 상하 움직임을 따라 통형 바디함께 상하 움직이는라이너 어셈블리. [청구항 7] 청구항 1에 있어서,상기 하부 라이너는 별도의 구동수단에 의해 상하이동하는라이너 어셈블리. [청구항 8] 청구항 1에 있어서,상기 하부 라이너는, 기판 이송 통로와 마주하는 통형 바디의 측벽을 이중 격벽구조로 하는라이너 어셈블리. [청구항 9] 청구항 1에 있어서,상기 하부 라이너의 측벽의 끝단에 테두리인 플랜지형성하는라이너 어셈블리. [청구항 10] 청구항 1에 있어서,상기 하부 라이너의 측벽의 끝단면을 경사지게형성하는라이너 어셈블리. [청구항 11] 청구항 1에 있어서,상기 하부 라이너의 하부면에 별도의 무게 중심부재구비하는라이너 어셈블리. [청구항 13] 청구항 12에 있어서,상기 샤워헤드는, 하부 측벽의 외경이 상부 측벽의 외경보다 작도록 단턱 구조갖는기판 처리 장치. [청구항 14] 청구항 13에 있어서,상기 상부 라이너는,상기 단턱의 상부 측벽을 감싸는 바디부;상기 단턱의 하부 측벽을 감싸며 아래 방향으로 돌출되어 다수의 펌핑홀이 형성되며, 내부면에 의해 상기 공정 영역을 형성하며, 외부면과 상기 챔버벽 사이에 의해 상기 펌핑 영역을 형성하는 돌출부포함하는기판 처리 장치. [청구항 15] 청구항 14에 있어서,상기 샤워헤드는, 실린더 상하 구동에 의해 수직 오픈되는 구조갖는플라즈마 처리 장치. [청구항 16] 청구항 12에 있어서,상기 핌핑 영역에 접하는 챔버 내부면은 라이너보호되는기판 처리 장치. [청구항 18] 청구항 12에 있어서,셉터의 일면에 결합되어 상기 서셉터를 상하로 이동시키는 샤프트포함하는기판 처리 장치. [청구항 19] 청구항 12에 있어서,상기 배기 통로에 배플구비된기판 처리 장치. [청구항 20] 청구항 12에 있어서,상기 돌출부와 마주하는 챔버의 내부벽이 단턱지게 파여지는 구조갖는기판 처리 장치.